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現在の検索キーワード： 萩原 周治

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審決年月日 審判番号 発明・考案の名称 結論 代理人 請求人    
2016/02/29 不服
2014 -19189  		発光ダイオード用エピタキシャルウェーハ 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。 三國 修 その他   昭和電工株式会社   原文 保存
該当なし 　
2016/01/25 不服
2014 -18978  		成膜方法および成膜装置 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。 伊東 忠彦   東京エレクトロン株式会社   原文 保存
該当なし 　
2016/01/05 不服
2014 -21511  		加熱溶融処理方法および加熱溶融処理装置 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。   アユミ工業株式会社   原文 保存
該当なし 　
2015/12/22 不服
2014 -17346  		太陽電池の製造方法 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。   エルジー・ケム・リミテッド   原文 保存
該当なし 　
2015/12/07 不服
2014 -16919  		半導体装置の製造方法 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。 天城 聡   ルネサスエレクトロニクス株式会社   原文 保存
該当なし 　
2015/12/02 不服
2014 -23056  		基板処理装置、その制御装置およびその制御方法 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。 永井 浩之 その他   東京エレクトロン株式会社   原文 保存
該当なし 　
2015/11/30 不服
2014 -11011  		半導体エピタキシャル基板及び半導体センサ用基板の製造方法 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。   JX日鉱日石金属株式会社   原文 保存
該当なし 　
2015/10/27 不服
2014 -18189  		炭化珪素半導体基板の製造方法および炭化珪素半導体装置の製造方法 原査定を取り消す。 本願の発明は,特許すべきものとする。   株式会社デンソー   原文 保存
該当なし 　
2015/10/15 不服
2014 -26357  		炭化珪素単結晶およびその製造方法 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。 特許業務法人ゆうあい特許事務所 その他   トヨタ自動車株式会社 株式会社豊田中央研究所 株式会社デンソー 国立研究開発法人産業技術総合研究所   原文 保存
該当なし 　
2015/09/07 不服
2014 -14146  		実装構造およびその製造方法 本件審判の請求は、成り立たない。   レノボ・イノベーションズ・リミテッド(香港)   原文 保存
該当なし 　
2015/05/27 不服
2014 -14872  		銅カラム及びその製造方法 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。   千住金属工業株式会社   原文 保存
該当なし 　
2015/05/26 不服
2014 -11571  		セルフイオンスパッタリング装置 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。   株式会社アルバック   原文 保存
該当なし 　
2015/05/18 不服
2014 -8490  		組成物 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。 青木 篤 その他   エア プロダクツ アンド ケミカルズ インコーポレイテッド   原文 保存
該当なし 　
2015/05/15 不服
2014 -6782  		窒化物半導体層の形成方法 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。   株式会社東芝   原文 保存
該当なし 　
2015/05/07 不服
2014 -3832  		欠陥密度が低い単結晶シリコンから得られるシリコン・オン・インシュレーター構造体 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。 鮫島 睦 その他   エムイーエムシー・エレクトロニック・マテリアルズ・インコーポレイテッド   原文 保存
該当なし 　
2015/04/24 不服
2014 -12248  		配線基板及びその製造方法 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。   日本特殊陶業株式会社   原文 保存
該当なし 　
2015/04/22 不服
2014 -11121  		酸化物形成方法 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。 園田 吉隆   アプライド マテリアルズ インコーポレイテッド   原文 保存
該当なし 　
2015/04/16 不服
2014 -13254  		電力変換装置 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。 大庭 弘貴 その他   株式会社デンソー   原文 保存
該当なし 　
2015/04/15 不服
2014 -6416  		炭窒化珪素膜及び炭窒化珪素膜の成膜方法 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。 伏見 俊介 その他   大陽日酸株式会社 株式会社トリケミカル研究所   原文 保存
該当なし 　
2015/04/13 不服
2014 -13870  		積層基板を備えた電子部品 本件審判の請求は、成り立たない。   株式会社村田製作所   原文 保存
該当なし 　
2015/01/26 不服
2013 -12704  		トレンチ内に誘電層を形成する方法 本件審判の請求は、成り立たない。 小林 義教   アプライド マテリアルズ インコーポレイテッド   原文 保存
該当なし 　
2015/01/20 不服
2013 -18006  		複数のゲート誘電体組成およびゲート誘電体厚を有する集積半導体チップならびにその製造方法 本件審判の請求は、成り立たない。 上野 剛史   インターナショナル・ビジネス・マシーンズ・コーポレーション   原文 保存
該当なし 　
2015/01/09 不服
2014 -2566  		樹脂封止装置及び樹脂封止方法 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。   TOWA株式会社   原文 保存
該当なし 　
2014/12/24 不服
2013 -21261  		HDP-CVD堆積/エッチング/堆積プロセスの不純物コントロール 本件審判の請求は、成り立たない。 園田 吉隆   アプライド マテリアルズ インコーポレイテッド   原文 保存
該当なし 　
2014/11/26 不服
2013 -10718  		絶縁膜、およびこれを用いた半導体装置 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。 佐藤 泰和 その他   株式会社東芝   原文 保存
該当なし 　
2014/11/20 不服
2013 -25701  		半導体装置の製造方法、基板処理方法および基板処理装置 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。 福岡 昌浩 その他   株式会社日立国際電気   原文 保存
該当なし 　
2014/11/19 不服
2013 -15783  		誘電体キャップ層 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。 上野 剛史 その他   インターナショナル・ビジネス・マシーンズ・コーポレーション   原文 保存
該当なし 　
2014/11/14 不服
2013 -19162  		ポリシロキサン系トレンチ埋め込み用縮合反応物及びトレンチ埋め込み膜の製造方法 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。 中村 和広 その他   旭化成イーマテリアルズ株式会社   原文 保存
該当なし 　
2014/11/13 不服
2013 -18979  		成膜方法および成膜装置 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。   東京エレクトロン株式会社   原文 保存
該当なし 　
2014/10/16 不服
2013 -14146  		強誘電体膜、強誘電体膜を有する半導体装置、及びそれらの製造方法 本件審判の請求は、成り立たない。 福田 修一 その他   国立大学法人東北大学 公益財団法人国際科学振興財団   原文 保存
該当なし 　

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