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現在の検索キーワード：國島明弘

201 件のヒット

審決年月日	審判番号	発明・考案の名称	結論	代理人	請求人
2000/06/13	異議 1999 -74954	走査型縮小投影露光装置及びディストーション測定方法	特許第2914315号の請求項1ないし4に係る特許を維持する。	関口鶴彦その他		原文	保存
該当なし
2000/06/08	異議 1999 -73941	投影露光装置および回路パターン形成方法	訂正を認める。特許第2884848号の請求項1、4に係る特許を維持す……	長尾達也その他		原文	保存
該当なし
2000/05/08	異議 1999 -73414	半導体装置の製造装置	特許第2867982号の請求項1ないし5に係る特許を取り消す。	伊東哲也その他		原文	保存
該当なし
2000/04/20	異議 1999 -73673	投影露光装置	訂正を認める。特許第2876616号の請求項1ないし4に係る特許を維……	長尾達也その他		原文	保存
該当なし
2000/04/20	異議 1999 -72739	光露光方法	訂正を認める。特許第2848425号の請求項1ないし3に係る特許を維……	長尾達也その他		原文	保存
29条の2(拡大された先願の地位)
2000/03/17	審判 1998 -8610	荷電粒子ビーム偏向装置及び方法	本件審判の請求は、成り立たない。		日本電気株式会社	原文	保存
該当なし
2000/03/02	異議 1999 -73119	パターン寸法修正方法	訂正を認める。特許第2858437号の請求項1に係る特許を維持する。	澤井敬史		原文	保存
進歩性(29条2項)
2000/02/28	異議 1999 -70560	電子線描画装置	特許第2788139号の請求項1、3に係る特許を取り消す。			原文	保存
該当なし
2000/02/24	審判 1997 -12929	液晶ディスプレイ用半導体装置材料及び液晶ディスプレイ用半導体装置材料製造用溶製スパッタリングターゲット材料	原査定を取り消す。本願の発明は、特許すべきものとする。		株式会社神戸製鋼所	原文	保存
該当なし
2000/01/28	異議 1999 -72536	重ね合わせ測定方法	特許第2842362号の請求項1、3に係る特許を取り消す。			原文	保存
該当なし
2000/01/28	異議 1999 -72167	電子線露光方法	特許第2830830号の特許を取り消す。			原文	保存
該当なし
1999/11/11	異議 1999 -70591	ホトマスク	特許第2788822号の特許を取り消す。			原文	保存
該当なし
1999/11/09	異議 1999 -71936	投影露光装置	訂正を認める。本件特許異議の申立てを却下する。	渡辺隆男その他		原文	保存
新規事項の追加
1999/10/27	審判 1997 -18504	薄膜形成法	原査定を取り消す。本願の発明は、特許をすべきものとする。		日本電気株式会社	原文	保存
該当なし
1999/09/28	審判 1997 -7657	配線膜形成方法及びその装置	原査定を取り消す。本願の発明は、特許をすべきものとする。		株式会社日立製作所	原文	保存
該当なし
1999/09/27	審判 1997 -20965	半導体装置およびその製造方法	原査定を取り消す。本願の発明は、特許をすべきものとする。		三星電子株式会社	原文	保存
該当なし
1999/08/25	審判 1997 -18415	シリコン半導体ウェーハ上にケイ化チタンの導電層を形成する方法	原査定を取り消す。本願の発明は、特許をすべきものとする。	今城俊夫その他	アプライドマテリアルズインコーポレイテッド	原文	保存
該当なし
1999/07/22	審判 1997 -17074	エピタキシャルウェーハの製造方法	本件審判の請求は、成り立たない。	橘谷英俊その他	株式会社東芝	原文	保存
該当なし
1999/03/12	異議 1998 -70863	安定な低抵抗コンタクト	特許第2645345号の請求項1、3ないし4、7、10、15、19、35、49に係る特……	小柴雅昭その他		原文	保存
該当なし
1999/01/14	異議 1998 -74190	半導体集積回路の製造方法	特許第2587184号の請求項1ないし3に係る特許を取り消す。			原文	保存
該当なし
1996/12/06	審判 1995 -20409	増強されたガスの吸気用装	本件審判の請求は、成り立たない。審判費用は、請求人の負担……	福本積その他	安西総業株式会社	原文	保存
公然知られ(29条1項1号)

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