審決年月日 |
審判番号 |
発明・考案の名称 |
結論 |
代理人 |
請求人 |
|
|
2009/11/30
|
不服 2006
-21621
|
半導体装置及びその製造方法
|
本件審判の請求は,成り立たない。
|
|
富士通マイクロエレクトロニクス株式会社
|
原文
|
保存
|
新規事項の追加
|
2009/11/30
|
不服 2007
-1279
|
半導体装置の製造方法
|
原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。
|
|
株式会社東芝
|
原文
|
保存
|
該当なし
|
2009/11/12
|
不服 2006
-26421
|
半導体装置、半導体装置の製造方法
|
原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。
|
|
株式会社東芝
|
原文
|
保存
|
該当なし
|
2009/11/10
|
不服 2008
-27965
|
CMPを用いた集積回路内の多層メタライゼーション構造の平坦化の効率的かつ経済的な方法
|
本件審判の請求は,成り立たない。
|
堀井 豊
その他
|
アドバンスト・マイクロ・ディバイシズ・インコーポレイテッド
|
原文
|
保存
|
該当なし
|
2009/11/10
|
不服 2006
-25645
|
高集積強誘電体メモリ装置及びその製造方法
|
本件審判の請求は,成り立たない。
|
村山 靖彦
その他
|
三星電子株式会社
|
原文
|
保存
|
該当なし
|
2009/11/05
|
不服 2008
-23673
|
低温で基板のステップカバレージを改良する方法及び装置
|
本件審判の請求は,成り立たない。
|
大塚 文昭
その他
|
アプライド マテリアルズ インコーポレイテッド
|
原文
|
保存
|
該当なし
|
2009/11/04
|
不服 2006
-26746
|
p型半導体層活性化方法
|
本件審判の請求は,成り立たない。
|
杉山 秀雄
その他
|
洲磊科技股▲ふん▼有限公司
|
原文
|
保存
|
進歩性(29条2項)
|
2009/11/02
|
不服 2007
-4715
|
メモリデバイス
|
本件審判の請求は、成り立たない。
|
林 恒徳
|
富士通マイクロエレクトロニクス株式会社
|
原文
|
保存
|
新規事項の追加
|
2009/10/30
|
不服 2006
-28384
|
熱処理装置
|
本件審判の請求は、成り立たない。
|
|
大日本スクリーン製造株式会社
|
原文
|
保存
|
該当なし
|
2009/10/29
|
不服 2007
-7193
|
強誘電体メモリ
|
原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。
|
中村 誠
その他
|
株式会社東芝
|
原文
|
保存
|
該当なし
|
2009/10/29
|
不服 2006
-22233
|
半導体装置の素子分離方法
|
原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。
|
|
三星電子株式会社
|
原文
|
保存
|
該当なし
|
2009/10/27
|
不服 2006
-22485
|
レーザアニーリング方法
|
原査定を取り消す。 本願の発明は,特許すべきものとする。
|
田中 光雄
その他
|
三菱電機株式会社
|
原文
|
保存
|
該当なし
|
2009/10/27
|
不服 2006
-22737
|
ドーピング処理方法
|
原査定を取り消す。 本願の発明は,特許すべきものとする。
|
|
株式会社半導体エネルギー研究所
|
原文
|
保存
|
該当なし
|
2009/10/27
|
不服 2009
-12586
|
SOIウェーハの製造方法
|
原査定を取り消す。 本願の発明は,特許すべきものとする。
|
|
信越半導体株式会社
|
原文
|
保存
|
該当なし
|
2009/10/27
|
不服 2006
-22677
|
シャロウ・トレンチ分離半導体基板及びその製造方法
|
原査定を取り消す。 本願の発明は,特許すべきものとする。
|
|
株式会社東芝
|
原文
|
保存
|
該当なし
|
2009/10/27
|
不服 2006
-23268
|
薄膜半導体の製造方法
|
原査定を取り消す。 本願の発明は,特許すべきものとする。
|
伊藤 仁恭
|
ソニー株式会社
|
原文
|
保存
|
該当なし
|
2009/10/26
|
不服 2007
-4956
|
半導体集積回路および半導体集積回路の内部電源電圧発生方法
|
本件審判の請求は,成り立たない。
|
古谷 史旺
|
富士通マイクロエレクトロニクス株式会社
|
原文
|
保存
|
該当なし
|
2009/10/19
|
不服 2007
-4464
|
不揮発性メモリ・システム内でのプログラミング電圧保護
|
本件審判の請求は、成り立たない。
|
|
マイクロン テクノロジー, インク.
|
原文
|
保存
|
該当なし
|
2009/10/19
|
不服 2007
-4813
|
複合化フラッシュメモリ及びそれを搭載した携帯用機器
|
本件審判の請求は、成り立たない。
|
|
株式会社リコー
|
原文
|
保存
|
該当なし
|
2009/10/14
|
不服 2006
-26032
|
素子形成用基板の製造方法
|
原査定を取り消す。 本願の発明は,特許すべきものとする。
|
蔵田 昌俊
その他
|
株式会社東芝
|
原文
|
保存
|
該当なし
|
2009/10/09
|
不服 2007
-221
|
集積回路においてトレンチアイソレーション構造を形成する方法
|
原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。
|
本田 淳
|
フリースケール セミコンダクター インコーポレイテッド
|
原文
|
保存
|
パリ条約
|
2009/09/28
|
不服 2006
-12069
|
ウェーブパイプライン構造の同期式メモリ装置
|
本件審判の請求は、成り立たない。
|
|
株式会社ハイニックスセミコンダクター
|
原文
|
保存
|
該当なし
|
2009/09/28
|
不服 2007
-784
|
半導体メモリーのテスト方法およびその装置
|
本件審判の請求は、成り立たない。
|
|
株式会社リコー
|
原文
|
保存
|
該当なし
|
2009/09/28
|
不服 2007
-1303
|
電気的に消去およびプログラムが可能なリード・オンリ・メモリの消去およびプログラミング保護方法および装置
|
本件審判の請求は,成り立たない。
|
|
フリースケール セミコンダクター インコーポレイテッド
|
原文
|
保存
|
該当なし
|
2009/09/28
|
不服 2008
-3237
|
第1及び第2のポリシリコン領域のPN接合部に浮遊ゲートを有するメモリ・セル
|
原査定を取り消す。 本願の発明は,特許すべきものとする。
|
林 鉐三
その他
|
テキサス インスツルメンツ インコーポレイテツド
|
原文
|
保存
|
パリ条約
|
2009/09/25
|
不服 2007
-13
|
強誘電性キャパシタ
|
本件審判の請求は,成り立たない。
|
宇谷 勝幸
その他
|
三星電子株式会社
|
原文
|
保存
|
29条の2(拡大された先願の地位)
|
2009/09/25
|
不服 2006
-22410
|
半導体製造装置用セラミックスヒーター
|
本件審判の請求は、成り立たない。
|
|
住友電気工業株式会社
|
原文
|
保存
|
進歩性(29条2項)
|
2009/09/25
|
不服 2006
-24559
|
固体カラーイメージ素子及びその製造方法
|
本件審判の請求は,成り立たない。
|
志賀 正武
その他
|
三星電子株式会社
|
原文
|
保存
|
進歩性(29条2項)
|
2009/09/16
|
不服 2008
-15839
|
改善されたエレクトロマイグレーション信頼性を伴う集積回路用金属相互接続構造体
|
本件審判の請求は、成り立たない。
|
矢野 敏雄
その他
|
インターナショナル ビジネス マシーンズ コーポレーション
シーメンス アクチエンゲゼルシヤフト
|
原文
|
保存
|
パリ条約
|
2009/09/15
|
不服 2006
-21769
|
半導体装置及びその製造方法並びに電子部品の製造方法
|
本件審判の請求は,成り立たない。
|
伊奈 達也
その他
|
セイコーエプソン株式会社
|
原文
|
保存
|
該当なし
|