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現在の検索キーワード: 遠藤 秀明

369 件のヒット

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審決年月日 審判番号 発明・考案の名称 結論 代理人 請求人    
2011/02/18 不服
2009 -10906 
可撓性真空チャック 本件審判の請求は、成り立たない。 大貫 敏史   エーエスエムエル ホールディング エヌ.ブイ.   原文 保存
該当なし  
2011/02/15 不服
2008 -27386 
クラスタ方式半導体素子製造用アッシャー装備 本件審判の請求は、成り立たない。 志賀 正武 その他   ピーエスケー・インコーポレーテッド   原文 保存
該当なし  
2011/02/15 不服
2009 -13875 
工作機械の安全を確保するための方法、及びこのような方法を実施するための光電式センサ 本件審判の請求は、成り立たない。   ジック アーゲー   原文 保存
該当なし  
2011/02/15 不服
2008 -16560 
産業ロボット及び産業ロボット用のケーブルハーネス 本件審判の請求は、成り立たない。 小林 義教   エービービー エービー   原文 保存
該当なし  
2011/02/15 不服
2009 -12508 
ビトリファイドダイヤモンドホイール 本件審判の請求は、成り立たない。 加藤 久   株式会社ノリタケカンパニーリミテド 株式会社ノリタケスーパーアブレーシブ   原文 保存
該当なし  
2011/02/15 不服
2009 -15255 
工作機械及びメッセージ伝送システム 本件審判の請求は、成り立たない。   株式会社森精機製作所   原文 保存
該当なし  
2011/02/15 不服
2009 -25988 
発塵防止機構を備えた電動プレス 本件審判の請求は、成り立たない。   蛇の目ミシン工業株式会社   原文 保存
該当なし  
2011/02/14 不服
2010 -3034 
ダイヤモンドまたはcBN工具及びその製造方法 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。 林 直生樹   株式会社リード   原文 保存
該当なし  
2011/02/09 不服
2009 -13283 
カードリーダ 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。   日本電産サンキョー株式会社   原文 保存
該当なし  
2011/02/09 不服
2009 -3665 
脚式移動ロボットの動作制御装置及び動作制御方法 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。 宮田 正昭 その他   山口 仁一 ソニー株式会社   原文 保存
該当なし  
2011/02/07 不服
2009 -14172 
研磨パッド、研磨方法ならびに半導体デバイスの製造方法および半導体デバイス 本件審判の請求は、成り立たない。 後藤 裕子 その他   東洋ゴム工業株式会社   原文 保存
該当なし  
2011/02/07 不服
2010 -3524 
傾斜コイルばねの製造方法 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。   中央発條株式会社   原文 保存
該当なし  
2011/02/07 不服
2009 -3236 
ロータリダイユニット 本件審判の請求は、成り立たない。 志賀 正武 その他   三菱マテリアル株式会社   原文 保存
該当なし  
2011/02/07 不服
2009 -12562 
高脆性材料の切削又は研削加工 本件審判の請求は、成り立たない。 谷口 直也 その他   株式会社ディスコ ユシロ化学工業株式会社   原文 保存
該当なし  
2011/02/04 不服
2009 -22813 
マイクロ構造体およびマイクロ構造体製造方法 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。 吉田 稔   富士通株式会社   原文 保存
該当なし  
2011/02/03 不服
2009 -12064 
被研磨物保持用キャリア 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。   スピードファム株式会社   原文 保存
該当なし  
2011/01/31 不服
2009 -3940 
希土類塩/酸化剤に基づいたCMP法 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。 石田 敬 その他   キャボット マイクロエレクトロニクス コーポレイション   原文 保存
該当なし  
2011/01/31 不服
2010 -903 
フラットパネルディスプレイの製造装置、フラットパネルディスプレイの製造装置用ストッカー、フラットパネルディスプレイの製造装置用ストッカー、フラットパネルディスプレイの製造装置用ローダー、及びこれを用いたフラットパネルディスプレイの製造方法 本件審判の請求は、成り立たない。 梶並 順 その他   エルジー ディスプレイ カンパニー リミテッド   原文 保存
該当なし  
2011/01/26 不服
2009 -13811 
CMPコンディショナの製造方法 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。   旭ダイヤモンド工業株式会社   原文 保存
該当なし  
2011/01/24 不服
2009 -21452 
振動研磨方法およびその装置 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。   独立行政法人科学技術振興機構   原文 保存
該当なし  
2011/01/24 不服
2009 -1984 
半導体ウェーハの上面を平坦化する方法 本件審判の請求は、成り立たない。 山本 宗雄 その他   スリーエム カンパニー   原文 保存
該当なし  
2011/01/24 不服
2009 -25411 
マイクロ揺動素子およびマイクロ揺動素子駆動方法 本件審判の請求は、成り立たない。 吉田 稔   富士通株式会社   原文 保存
該当なし  
2011/01/24 不服
2009 -19820 
太陽電池セルの製造方法および製造装置 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。 安村 高明 その他   シャープ株式会社   原文 保存
該当なし  
2011/01/24 不服
2008 -25635 
金属化合物の研磨剤を用いた、超小形電子基板の機械的平坦化および化学機械的平坦化のための方法および装置 本件審判の請求は、成り立たない。 野村 泰久   マイクロン テクノロジー, インク.   原文 保存
該当なし  
2011/01/24 不服
2009 -24136 
ボンディング方法 本件審判の請求は、成り立たない。 浅村 皓 その他   マイクロニック レーザー システムズ アクチボラゲット   原文 保存
該当なし  
2011/01/20 不服
2009 -19170 
金属用研磨液及びそれを用いた基板の研磨方法 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。   日立化成工業株式会社   原文 保存
該当なし  
2011/01/20 不服
2009 -19169 
化学機械研磨用研磨剤及び基板の研磨法 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。   日立化成工業株式会社   原文 保存
該当なし  
2011/01/20 不服
2010 -2819 
加工装置 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。   東芝機械株式会社   原文 保存
該当なし  
2011/01/20 不服
2008 -24352 
レーザビームを用いてワークに孔を形成する方法及び装置 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。 矢野 敏雄 その他   ローベルト ボツシユ ゲゼルシヤフト ミツト ベシユレンクテル ハフツング   原文 保存
 パリ条約  
2011/01/20 不服
2009 -17229 
クランプ装置 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。 中島 正博   株式会社ナベヤ   原文 保存
該当なし  

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