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現在の検索キーワード： 塩谷 領大

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審決年月日 審判番号 発明・考案の名称 結論 代理人 請求人    
2018/06/26 不服
2017 -8967  		金属酸化物薄膜基板、その製造方法、これを含む光電池及び有機発光素子 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。 松永 宣行   コーニング精密素材株式会社   原文 保存
該当なし 　
2018/06/25 不服
2017 -144  		エピタキシャルリフトオフ後のウエハーの再利用のための犠牲エッチング保護層 本件審判の請求は、成り立たない。   ザ リージェンツ オブ ザ ユニヴァシティ オブ ミシガン   原文 保存
該当なし 　
2018/06/25 不服
2017 -7008  		セレン化13族ナノ粒子 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。   ナノコ テクノロジーズ リミテッド   原文 保存
該当なし 　
2018/06/19 不服
2017 -13535  		シリコン結晶の製造方法 本件審判の請求は、成り立たない。   山瀬 英夫 蒲池 豊   原文 保存
該当なし 　
2018/06/11 不服
2017 -14426  		ワイヤーの気相合成 本件審判の請求は、成り立たない。 津田 理 その他   クナノ・アーベー   原文 保存
該当なし 　
2018/05/28 不服
2017 -1504  		基板を処理するシステムおよび方法 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。   アプライド マテリアルズ インコーポレイテッド   原文 保存
該当なし 　
2018/04/23 不服
2017 -13042  		スパッタリングターゲット 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。   古河電気工業株式会社   原文 保存
該当なし 　
2018/04/23 不服
2017 -8771  		プラズマCVD装置及び膜の製造方法 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。 柳瀬 睦肇   地方独立行政法人山口県産業技術センター 株式会社ユーテック   原文 保存
該当なし 　
2018/04/02 不服
2016 -19009  		成膜方法 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。 有田 貴弘 その他   東芝三菱電機産業システム株式会社 国立大学法人京都大学 高知県公立大学法人   原文 保存
該当なし 　
2018/03/30 異議
2017 -700177  		研磨用複合粒子、研磨用複合粒子の製造方法及び研磨用スラリー 特許第5979340号の特許請求の範囲を訂正請求書に添付された訂正…… 特許業務法人 安富国際特許事務所     原文 保存
該当なし 　
2018/03/02 不服
2016 -13953  		GaN薄膜構造物、その製造方法、及びそれを含む半導体素子 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。 実広 信哉 その他   三星電子株式会社   原文 保存
該当なし 　
2018/02/26 不服
2016 -1431  		ワイヤーの気相合成 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。 大野 聖二 その他   クナノ・アーベー   原文 保存
該当なし 　
2018/02/19 不服
2017 -9341  		単結晶ダイヤモンドの製造方法 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。   国立研究開発法人産業技術総合研究所   原文 保存
該当なし 　
2018/01/30 不服
2016 -17636  		金属アミジナートを用いる原子層の析出 本件審判の請求は、成り立たない。 青木 篤 その他   プレジデント アンド フェローズ オブ ハーバード カレッジ   原文 保存
該当なし 　
2017/12/18 不服
2015 -13870  		窒化物半導体層の成長方法、及びそれにより形成される窒化物半導体基板 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。 大貫 進介 その他   三星電子株式会社   原文 保存
該当なし 　
2017/12/04 不服
2017 -9343  		単結晶ダイヤモンドの製造方法 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。   国立研究開発法人産業技術総合研究所   原文 保存
該当なし 　
2017/10/17 不服
2016 -5510  		クロムをベースとする反射被膜 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。 小野 新次郎 その他   エスエムアール・パテンツ・ソシエテ・ア・レスポンサビリテ・リミテ ユニバーシティ オブ サウス オーストラリア   原文 保存
該当なし 　
2017/10/16 不服
2016 -19566  		積層体、ガスバリアフィルム、及びこれらの製造方法 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。 伏見 俊介 その他   凸版印刷株式会社   原文 保存
該当なし 　
2017/10/12 異議
2016 -700925  		高反応性消石灰およびその製造方法、並びに排ガス処理剤 特許第5895035号の特許請求の範囲を訂正請求書に添付された訂正…… 特許業務法人 山王坂特許事務所     原文 保存
該当なし 　
2017/09/19 不服
2016 -12515  		蒸発器配送アンプル 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。 稲葉 良幸 その他   インテグリス・インコーポレーテッド   原文 保存
該当なし 　
2017/08/21 不服
2016 -17436  		透明導電性フィルム 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。   日東電工株式会社   原文 保存
該当なし 　
2017/07/18 不服
2016 -8378  		不活性ガスの回収前処理設備 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。 小林 俊弘   信越半導体株式会社   原文 保存
該当なし 　
2017/07/18 不服
2016 -9649  		一酸化窒素の精製方法 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。 土居 史明 その他   住友精化株式会社   原文 保存
該当なし 　
2017/07/11 不服
2016 -7514  		多元系のナノ粒子膜形成装置及びこれを用いたナノ粒子膜形成方法 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。   株式会社アツミテック   原文 保存
該当なし 　
2017/06/12 不服
2016 -16207  		スパッタリングターゲット、及び、その製造方法 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。   古河電気工業株式会社   原文 保存
該当なし 　
2017/05/30 異議
2016 -700743  		FePｔ系スパッタリングターゲット及びその製造方法 特許第5863782号の特許請求の範囲を訂正請求書に添付された訂正…… 牧野 剛博 その他     原文 保存
該当なし 　
2017/05/30 異議
2016 -700744  		FePｔ系スパッタリングターゲット及びその製造方法 特許第5863783号の特許請求の範囲を訂正請求書に添付された訂正…… 高矢 諭 その他     原文 保存
該当なし 　
2017/04/25 不服
2015 -20188  		多層被膜を基板の上に堆積する装置及び方法 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。 松永 宣行 その他   三星ディスプレイ株式會社   原文 保存
該当なし 　
2017/04/21 不服
2016 -4492  		薄膜蒸着用のマスクフレームアセンブリー 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。 特許業務法人高橋・林アンドパートナーズ その他   三星ディスプレイ株式會社   原文 保存
該当なし 　
2017/04/18 不服
2016 -5401  		Cｕ-Ga合金スパッタリングターゲット 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。   JX金属株式会社   原文 保存
該当なし 　

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