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審決年月日 審判番号 発明・考案の名称 結論 代理人 請求人    
2013/08/22 不服
2010 -4969 
気相成長結晶薄膜製造方法 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。   佐藤 弘信   原文 保存
該当なし  
2012/04/10 不服
2010 -12242 
MgO蒸着材 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。 志賀 正武 その他   三菱マテリアル株式会社   原文 保存
該当なし  
2012/03/26 不服
2010 -17161 
低1cらせん転位の3インチ炭化珪素ウェハ 本件審判の請求は、成り立たない。 林 鉐三 その他   クリー インコーポレイテッド   原文 保存
該当なし  
2012/03/05 不服
2010 -13856 
基板及びマスクの整列装置及び整列方法 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。 佐伯 義文 その他   三星モバイルディスプレイ株式會社   原文 保存
該当なし  
2012/01/30 不服
2010 -1318 
弾性変形性を有する高炉用ラミング材およびこれを用いた高炉炉壁構造 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。 堤 隆人 その他   新日本製鐵株式会社 黒崎播磨株式会社   原文 保存
該当なし  
2012/01/23 不服
2008 -13501 
シリコン単結晶の製造方法 本件審判の請求は、成り立たない。   信越半導体株式会社   原文 保存
該当なし  
2011/11/07 不服
2009 -7678 
アルミナセラミックスセッター及びその製造方法 本件審判の請求は、成り立たない。 近藤 利英子   株式会社モトヤマ 美濃窯業株式会社   原文 保存
該当なし  
2011/10/12 不服
2008 -25497 
集束イオン・ビームを使用した高抵抗率構造の製造 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。   エフ・イ-・アイ・カンパニー   原文 保存
 パリ条約  
2011/07/27 不服
2008 -18809 
不定形耐火物用分散剤及び不定形耐火物 原査定を取り消す。 本願の発明は,特許すべきものとする。 持田 信二 その他   花王株式会社 黒崎播磨株式会社   原文 保存
該当なし  
2011/06/27 不服
2008 -10187 
耐クレータ性および強度に優れた切削工具とその製造方法 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。   住友電工ハードメタル株式会社   原文 保存
該当なし  
2011/06/27 不服
2008 -9942 
耐欠損性に優れた切削工具とその製造方法 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。   住友電工ハードメタル株式会社   原文 保存
該当なし  
2011/06/22 不服
2008 -7538 
窒化けい素製耐摩耗性部材 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。 波多野 久   株式会社東芝   原文 保存
該当なし  
2011/06/15 不服
2008 -18905 
化合物半導体単結晶の製造方法 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。   JX日鉱日石金属株式会社   原文 保存
該当なし  
2011/04/15 不服
2008 -19099 
微小なドットを備えた基板 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。   独立行政法人産業技術総合研究所   原文 保存
該当なし  
2011/04/05 不服
2007 -22499 
高強度組成物補強用鋼繊維 本件審判の請求は、成り立たない。   太平洋セメント株式会社   原文 保存
該当なし  
2011/03/09 不服
2007 -34724 
炭化珪素基板 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。 久保 貴則 その他   株式会社デンソー   原文 保存
該当なし  
2011/03/04 不服
2008 -3623 
誘電体セラミック原料粉末の製造方法および誘電体セラミック組成物 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。   株式会社村田製作所   原文 保存
該当なし  
2011/02/28 不服
2007 -31830 
導電性領域形成方法、導電性領域形成装置、導電性金属領域堆積制御装置及びバイアス機構 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。 小泉 伸 その他   ナノフィルム テクノロジーズ インターナショナル ピーティーイー リミテッド   原文 保存
該当なし  
2011/02/10 不服
2008 -2514 
LaGaO3系焼結体を用いた酸素透過膜 原査定を取り消す。 本願の発明は,特許すべきものとする。 萩野 義昇 その他   日本特殊陶業株式会社   原文 保存
該当なし  
2011/01/26 不服
2008 -3731 
原子層蒸着法を用いた薄膜形成方法 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。 奈良 泰男 その他   三星電子株式会社   原文 保存
 パリ条約  
2010/12/01 不服
2008 -3689 
薄膜堆積方法とその装置および薄膜堆積方法に用いる混合ガス供給装置 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。 藤本 英夫   株式会社堀場製作所   原文 保存
該当なし  
2010/11/24 不服
2008 -10796 
ダイヤモンドの製造方法 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。 藤巻 正憲   株式会社神戸製鋼所 財団法人ファインセラミックスセンター   原文 保存
該当なし  
2010/11/17 不服
2008 -20067 
積層膜の形成方法 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。   コニカミノルタホールディングス株式会社   原文 保存
該当なし  
2010/11/17 不服
2007 -31640 
窒化アルミニウム質焼結体、耐蝕性部材、金属埋設および半導体保持装置 原査定を取り消す。 本願の発明は,特許すべきものとする。 杉村 憲司 その他   日本碍子株式会社   原文 保存
該当なし  
2010/11/15 不服
2008 -8714 
深鍋状銅製スパッタリングターゲット 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。   JX日鉱日石金属株式会社   原文 保存
該当なし  
2010/11/08 不服
2008 -8209 
ジルコニア製熱処理用部材 本件審判の請求は、成り立たない。 岡本 利郎   株式会社ニッカトー   原文 保存
該当なし  
2010/10/19 不服
2008 -1934 
タングステンシリサイド膜の形成方法、及び半導体装置の製造方法 本件審判の請求は、成り立たない。 高田 守   ルネサスエレクトロニクス株式会社   原文 保存
 実施可能要件  
2010/10/18 不服
2008 -9430 
ケイ素酸化膜 本件審判の請求は、成り立たない。 小野 尚純   東洋製罐株式会社   原文 保存
該当なし  
2010/10/14 不服
2007 -27015 
CVDコーティング装置 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。   アイクストロン、アーゲー   原文 保存
該当なし  
2010/09/30 不服
2008 -10544 
薄膜形成装置および薄膜形成方法 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。   コニカミノルタホールディングス株式会社   原文 保存
該当なし  

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