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現在の検索キーワード: 河口 雅英

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審決年月日 審判番号 発明・考案の名称 結論 代理人 請求人    
2017/03/31 不服
2015 -9034 
メモリシステムのクロックモード決定 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。 黒瀬 泰之 その他   コンバーサント・インテレクチュアル・プロパティ・マネジメント・インコーポレイテッド   原文 保存
該当なし  
2017/03/29 不服
2016 -4889 
シリコン凹部低減のためのエッチングプロセス 本件審判の請求は、成り立たない。 伊東 忠重 その他   東京エレクトロン株式会社   原文 保存
該当なし  
2017/03/29 不服
2015 -8633 
トップゲート型有機薄膜トランジスタの製造方法および該製造法によって得られる有機薄膜トランジスタ 原査定を取り消す。 本願の発明は,特許すべきものとする。   株式会社カネカ   原文 保存
該当なし  
2017/03/29 不服
2015 -6657 
ダイアタッチフィルム 原査定を取り消す。 本願の発明は,特許すべきものとする。 渡部 崇   エルジー・ケム・リミテッド   原文 保存
該当なし  
2017/03/21 不服
2015 -7613 
非晶質シリコン膜の結晶化方法、また薄膜トランジスタおよびその製造方法 本件審判の請求は,成り立たない。 松永 宣行   三星ディスプレイ株式會社   原文 保存
該当なし  
2017/03/16 異議
2016 -701146 
ダイを基板に取付けた装置 特許第5934079号の請求項1ないし18に係る特許を維持する。 堀井 豊 その他     原文 保存
該当なし  
2017/03/14 不服
2015 -21509 
結晶性組成物及びウェハに関連する方法 本件審判の請求は、成り立たない。 西山 清春   モメンティブ パフォーマンス マテリアルズ インコーポレイテッド   原文 保存
該当なし  
2017/03/14 不服
2015 -12717 
多層圧電デバイスの製造方法、助剤を含む多層圧電デバイス、および多層圧電デバイスの破壊応力抑制のための助剤の使用 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。   エプコス アクチエンゲゼルシャフト   原文 保存
該当なし  
2017/03/13 不服
2016 -8989 
基板洗浄装置 本件審判の請求は、成り立たない。 飯田 雅人 その他   東京応化工業株式会社   原文 保存
該当なし  
2017/03/07 不服
2016 -3451 
シラン及びゲルマンの純度を間接的に決定するための固有抵抗の使用及び相応する方法 本件審判の請求は、成り立たない。 二宮 浩康 その他   エボニック デグサ ゲーエムベーハー   原文 保存
該当なし  
2017/03/02 不服
2015 -11051 
金属ゲートとストレッサーを有するゲルマニウムフィンFET 本件審判の請求は、成り立たない。 濱田 初音   台湾積體電路製造股▲ふん▼有限公司   原文 保存
該当なし  
2017/02/21 不服
2015 -10902 
窒化物半導体基板 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。   クアーズテック株式会社   原文 保存
該当なし  
2017/02/21 不服
2015 -16217 
半導体装置の製造方法、接着剤層付き半導体ウェハの製造方法、半導体素子付き半導体ウェハの製造方法、及び半導体ウェハ積層体の製造方法 本件審判の請求は,成り立たない。 城戸 博兒 その他   日立化成株式会社   原文 保存
該当なし  
2017/02/21 不服
2015 -16218 
半導体装置の製造方法、半導体素子付き半導体ウェハの製造方法及び接着剤層付き半導体ウェハの製造方法 本件審判の請求は,成り立たない。 長谷川 芳樹 その他   日立化成株式会社   原文 保存
該当なし  
2017/02/21 不服
2015 -22759 
大領域ガラス基板のコーティング及びアニーリング方法 本件審判の請求は、成り立たない。 小林 義教   エーケーティー株式会社   原文 保存
該当なし  
2017/02/17 異議
2015 -700017 
半導体装置 特許第5713546号の請求項1ないし8に係る特許を取り消す。 有田 貴弘 その他     原文 保存
該当なし  
2017/02/13 不服
2015 -9377 
パッド構造 本件審判の請求は,成り立たない。 濱田 初音   台湾積體電路製造股▲ふん▼有限公司   原文 保存
該当なし  
2017/02/13 不服
2015 -5897 
障壁表面上のコバルト堆積 本件審判の請求は、成り立たない。   アプライド マテリアルズ インコーポレイテッド   原文 保存
該当なし  
2017/02/08 不服
2015 -4775 
メモリ素子およびクロスポイントスイッチと不揮発性ナノチューブブロックとを使用したそのアレイ 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。   ナンテロ,インク.   原文 保存
該当なし  
2017/02/07 不服
2015 -3346 
磁気層構造、磁気層構造にバイアスをかける方法、および変換器 本件審判の請求は、成り立たない。   シーゲイト テクノロジー エルエルシー   原文 保存
該当なし  
2017/02/01 異議
2016 -700907 
半導体装置用ボンディングワイヤ 特許第5893230号の請求項1ないし5に係る特許を維持する。 特許業務法人酒井国際特許事務所 その他     原文 保存
該当なし  
2017/01/30 不服
2015 -14319 
有機電子(OE)素子製造のための組成物 本件審判の請求は,成り立たない。 野河 信久 その他   メルク パテント ゲーエムベーハー   原文 保存
該当なし  
2017/01/30 不服
2015 -10033 
半導体デバイス上に共形酸化物層を形成するための方法 本件審判の請求は、成り立たない。   アプライド マテリアルズ インコーポレイテッド   原文 保存
該当なし  
2017/01/30 不服
2015 -3039 
半導体記憶装置、およびデータ縮約テスト方法 本件審判の請求は、成り立たない。 鷲頭 光宏 その他   ピーエスフォー ルクスコ エスエイアールエル   原文 保存
該当なし  
2017/01/30 不服
2016 -15174 
酸化ケイ素薄膜の高温原子層堆積 本件審判の請求は,成り立たない。 青木 篤 その他   エア プロダクツ アンド ケミカルズ インコーポレイテッド   原文 保存
該当なし  
2017/01/27 不服
2015 -14381 
基板乾燥装置、基板処理装置および基板乾燥方法 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。   株式会社SCREENセミコンダクターソリューションズ   原文 保存
該当なし  
2017/01/18 異議
2016 -700423 
拡散剤組成物、および不純物拡散層の形成方法 特許第5815215号の明細書及び特許請求の範囲を訂正請求書に添付…… 青木 武司 その他     原文 保存
該当なし  
2017/01/18 異議
2016 -701049 
ボンディング方法及びボンディング装置 特許第5916814号の請求項1,5に係る特許を維持する。     原文 保存
該当なし  
2017/01/17 不服
2016 -2159 
積層半導体基板およびその製造方法 本件審判の請求は、成り立たない。   ジルトロニック アクチエンゲゼルシャフト   原文 保存
該当なし  
2017/01/17 不服
2015 -18504 
SOI基板のエッチング方法 本件審判の請求は、成り立たない。   国立大学法人東北大学   原文 保存
該当なし  

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