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現在の検索キーワード: 河口 雅英

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審決年月日 審判番号 発明・考案の名称 結論 代理人 請求人    
2016/03/17 不服
2014 -21482 
シリコン含有膜の平滑SiConiエッチング 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。 小林 義教   アプライド マテリアルズ インコーポレイテッド   原文 保存
該当なし  
2016/03/17 不服
2014 -20965 
金属間化合物の成長の阻害方法 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。   ナショナル チャオ ツン ユニヴァーシティー   原文 保存
該当なし  
2016/03/17 不服
2014 -21874 
半導体装置及び半導体装置の製造方法 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。 天城 聡   ルネサスエレクトロニクス株式会社   原文 保存
該当なし  
2016/03/17 不服
2014 -20128 
プラズマ処理装置 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。   ラム リサーチ コーポレーション   原文 保存
該当なし  
2016/03/17 不服
2014 -16622 
電子ビーム誘起エッチング方法 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。 下地 健一 その他   カールツァイス エスエムエス ゲーエムベーハー   原文 保存
該当なし  
2016/03/17 不服
2014 -22200 
ダマシンタイププロセスで形成されたトンネル障壁とピンド層と頂部電極とを備えた磁気トンネル接合 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。 村山 靖彦   クアルコム,インコーポレイテッド   原文 保存
該当なし  
2016/03/17 不服
2015 -2989 
半導体装置の製造方法 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。 加藤 隆夫 その他   富士通株式会社   原文 保存
該当なし  
2016/03/17 不服
2014 -18317 
同一の能動領域内に形成されるトランジスタにおいて能動領域内に局所的に埋め込み歪誘起半導体材質を設けることによる駆動電流調節 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。 佐野 良太 その他   アドバンスト・マイクロ・ディバイシズ・インコーポレイテッド   原文 保存
該当なし  
2016/03/17 不服
2014 -25280 
誘電膜およびそれを用いたトランスデューサ 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。   住友理工株式会社   原文 保存
該当なし  
2016/03/16 不服
2015 -6976 
バンプオンリード相互接続を形成する半導体素子および方法 本件審判の請求は、成り立たない。 山本 秀策 その他   スタッツ チップパック リミテッド   原文 保存
該当なし  
2016/03/09 不服
2015 -5082 
直流CVケーブル用プレハブジョイント 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。   株式会社ビスキャス   原文 保存
該当なし  
2016/03/08 不服
2015 -6391 
半導体装置 本件審判の請求は、成り立たない。   ルネサスエレクトロニクス株式会社   原文 保存
該当なし  
2016/03/02 不服
2015 -3002 
半導体素子 本件審判の請求は,成り立たない。   ヴィシェイ-シリコニックス   原文 保存
該当なし  
2016/02/23 不服
2014 -21225 
短絡チャネルを有する炭化ケイ素パワー金属酸化物半導体電界効果トランジスタおよび短絡チャネルを有する炭化ケイ素金属酸化物半導体電界効果トランジスタの製造方法 原査定を取り消す。 本願の発明は,特許すべきものとする。   クリー インコーポレイテッド   原文 保存
該当なし  
2016/02/23 不服
2014 -22645 
シリコンウェーハの製造方法 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。   株式会社SUMCO   原文 保存
該当なし  
2016/02/08 不服
2014 -26108 
導電路構造及びワイヤハーネス 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。   矢崎総業株式会社   原文 保存
該当なし  
2016/02/08 不服
2014 -5669 
データ解析のための方法および装置 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。 窪田 郁大 その他   テスト アキュイティ ソリューションズ インコーポレイテッド   原文 保存
該当なし  
2016/02/08 不服
2014 -11645 
圧電性材料を製造する方法 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。 西脇 怜史   コミッサリア ア レネルジー アトミーク エ オ ゼネルジ ザルタナテイヴ   原文 保存
該当なし  
2016/02/08 不服
2014 -21817 
レーザ照射装置 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。   株式会社半導体エネルギー研究所   原文 保存
該当なし  
2016/02/02 不服
2014 -18067 
ダイボンディングフィルム及びこれを用いた半導体装置 本件審判の請求は,成り立たない。   日立化成株式会社   原文 保存
該当なし  
2016/02/02 不服
2014 -19506 
ワイヤハーネス 本件審判の請求は、成り立たない。   矢崎総業株式会社   原文 保存
該当なし  
2016/01/25 不服
2014 -24696 
薄膜半導体デバイスおよび薄膜半導体デバイスの製法 本件審判の請求は、成り立たない。 田中 光雄 その他   ピーエスティ・センサーズ・(プロプライエタリー)・リミテッド   原文 保存
該当なし  
2016/01/25 不服
2014 -16700 
熱プロセスによってエッチングされた基板からハロゲン残渣を除去するための統合された方法 本件審判の請求は、成り立たない。   アプライド マテリアルズ インコーポレイテッド   原文 保存
該当なし  
2016/01/25 不服
2014 -19141 
包囲電気絶縁体を有する導電体 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。 園田 吉隆   エー ビー ビー リサーチ リミテッド   原文 保存
該当なし  
2016/01/25 無効
2015 -800124 
螺旋ハンガー用クランプ 本件審判の請求は、成り立たない。 審判費用は、請求人の負担…… 藤川 忠司 その他   ヒエン電工 株式会社   原文 保存
該当なし  
2016/01/22 異議
2015 -700153 
基板処理方法及び基板処理装置 特許第5712101号の請求項1ないし9に係る特許を維持する。     原文 保存
該当なし  
2016/01/19 不服
2014 -19933 
電極規定層を包含する窒化ガリウム材料デバイスおよびその形成方法 本件審判の請求は、成り立たない。 小林 泰 その他   インターナショナル・レクティファイアー・コーポレーション   原文 保存
該当なし  
2016/01/13 異議
2015 -700197 
半導体装置 特許第5721351号の請求項1、2、3、5、6、14に係る特許を維持する。 稲岡 耕作     原文 保存
該当なし  
2016/01/05 不服
2014 -21511 
加熱溶融処理方法および加熱溶融処理装置 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。   アユミ工業株式会社   原文 保存
該当なし  
2016/01/05 不服
2014 -26325 
半導体材料のための平滑化方法及びそれによって作製されるウェハ 本件審判の請求は,成り立たない。 大牧 綾子 その他   クリー インコーポレイテッド   原文 保存
該当なし  

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