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審決年月日 審判番号 発明・考案の名称 結論 代理人 請求人    
2009/06/26 不服
2006 -18655 
フラッシュメモリセルの製造方法 本件審判の請求は、成り立たない。   株式会社ハイニックスセミコンダクター   原文 保存
 パリ条約  
2009/06/26 不服
2006 -24531 
半導体装置 本件審判の請求は、成り立たない。   パナソニック株式会社   原文 保存
該当なし  
2009/06/24 不服
2006 -10339 
フリップチップ型半導体集積回路とその設計方法 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。   NECエレクトロニクス株式会社   原文 保存
該当なし  
2009/06/22 不服
2006 -19355 
半導体装置 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。 鈴江 武彦 その他   株式会社東芝   原文 保存
該当なし  
2009/06/22 不服
2007 -22483 
TaN材料のバリア層を含む構造 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。 坂口 博 その他   インターナショナル・ビジネス・マシーンズ・コーポレーション   原文 保存
 パリ条約  
2009/06/22 不服
2006 -18828 
ダブルバーティカルチャネル薄膜トランジスタのCMOS装置及びその製造方法 本件審判の請求は、成り立たない。 恩田 博宣   瀚宇彩晶股▲ふん▼有限公司   原文 保存
該当なし  
2009/06/19 不服
2006 -14040 
シリコン-ゲルマニウム・トランジスタの製造方法 本件審判の請求は、成り立たない。 岡部 正夫 その他   アルカテル-ルーセント ユーエスエー インコーポレーテッド   原文 保存
 新規事項の追加  
2009/06/19 不服
2006 -17008 
トレンチ素子分離方法 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。   三星電子株式会社   原文 保存
 パリ条約  
2009/06/09 不服
2006 -19624 
短チャネルデバイスを製造する方法、短チャネル長MOSFETデバイスを製造する方法、短チャネル長MOSFETデバイス、短チャネルデバイス、MOSFETデバイスおよびCMOS回路 本件審判の請求は、成り立たない。 山本 秀策 その他   スピネカ セミコンダクター, インコーポレイテッド   原文 保存
該当なし  
2009/06/02 不服
2007 -28274 
半導体装置の製造方法 本件審判の請求は、成り立たない。 アインゼル・フェリックス=ラインハルト その他   シーメンス アクチエンゲゼルシヤフト   原文 保存
該当なし  
2009/06/01 不服
2006 -15958 
EEPROMセル及びその製造方法 本件審判の請求は、成り立たない。 西山 修 その他   株式会社ハイニックスセミコンダクター   原文 保存
該当なし  
2009/05/26 不服
2008 -26471 
半導体装置の製造方法 本件審判の請求は、成り立たない。 深見 久郎 その他   三菱電機株式会社   原文 保存
該当なし  
2009/05/12 不服
2006 -12047 
垂直方向トランジスタCMOS集積回路の形成方法 本件審判の請求は、成り立たない。 本宮 照久 その他   アルカテル-ルーセント ユーエスエー インコーポレーテッド   原文 保存
 新規事項の追加  
2009/05/11 不服
2006 -11058 
半導体装置の素子分離方法 本件審判の請求は、成り立たない。 村山 靖彦 その他   三星電子株式会社   原文 保存
該当なし  
2009/05/08 不服
2006 -11565 
半導体メモリ装置のアドレス入力バッファ 本件審判の請求は、成り立たない。 村山 靖彦 その他   三星電子株式会社   原文 保存
該当なし  
2009/04/28 不服
2006 -19910 
メモリ・システム、半導体メモリ装置およびシンクロナス・メモリ装置の動作方法 本件審判の請求は、成り立たない。 濱中 淳宏 その他   株式会社ハイニックスセミコンダクター   原文 保存
 新規事項の追加  
2009/04/27 不服
2006 -7046 
膜体部改質装置及び膜体部改質方法 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。   日本電気株式会社   原文 保存
該当なし  
2009/04/24 不服
2006 -12093 
プレート線がカラムデコーダにより選択される集積強誘電性メモリ 本件審判の請求は、成り立たない。 森下 夏樹 その他   インフィネオン テクノロジーズ アクチエンゲゼルシャフト   原文 保存
該当なし  
2009/04/23 不服
2006 -8563 
レーザ加工装置 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。 井上 義雄   住友重機械工業株式会社 日本電気株式会社   原文 保存
該当なし  
2009/04/21 不服
2006 -9912 
高ドーピングされた領域に対して低い接触抵抗を有する半導体構成要素の製造方法 本件審判の請求は、成り立たない。 アインゼル・フェリックス=ラインハルト その他   シーメンス アクチエンゲゼルシヤフト   原文 保存
 パリ条約  
2009/04/15 不服
2006 -19748 
半導体装置 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。   株式会社ルネサステクノロジ   原文 保存
該当なし  
2009/04/08 不服
2006 -7563 
セラミックス接合体、ウエハ保持体及び半導体製造装置 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。   住友電気工業株式会社   原文 保存
該当なし  
2009/03/30 不服
2006 -7562 
半導体製造装置用保持体 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。   住友電気工業株式会社   原文 保存
該当なし  
2009/03/30 不服
2006 -8074 
半導体製造装置用ウェハ保持体およびそれを搭載した半導体製造装置 本件審判の請求は、成り立たない。 山口 幹雄 その他   住友電気工業株式会社   原文 保存
 新規事項の追加  
2009/03/27 不服
2005 -22509 
相互接続の製造方法 本件審判の請求は、成り立たない。 越智 隆夫 その他   ルーセント テクノロジーズ インコーポレーテッド   原文 保存
 パリ条約  
2009/03/27 不服
2005 -22508 
相互接続を作製するための方法 本件審判の請求は、成り立たない。 岡部 正夫 その他   ルーセント テクノロジーズ インコーポレーテッド   原文 保存
 パリ条約  
2009/03/24 不服
2006 -7890 
平坦化トンネル磁気抵抗素子 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。 清水 守   独立行政法人科学技術振興機構 独立行政法人産業技術総合研究所   原文 保存
該当なし  
2009/03/24 不服
2006 -3227 
貼り合わせウェーハの製造方法 本件審判の請求は、成り立たない。 特許業務法人英知国際特許事務所 その他   信越半導体株式会社   原文 保存
該当なし  
2009/03/06 不服
2008 -11301 
薄膜トランジスターの製造方法 本件審判の請求は、成り立たない。 加藤 伸晃 その他   エイ・ティ・アンド・ティ・コーポレーション   原文 保存
 パリ条約  
2009/03/02 不服
2008 -20502 
超電導接合 本件審判の請求は、成り立たない。 中村 稔 その他   キネティック リミテッド   原文 保存
 パリ条約  

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