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現在の検索キーワード: 高橋 宣博

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審決年月日 審判番号 発明・考案の名称 結論 代理人 請求人    
2021/04/26 不服
2020 -4146 
レーザー処理及び温度誘導ストレスを用いた複合ウェハー製造方法 原査定を取り消す。 本願の発明は,特許すべきものとする。 森田 拓 その他   ジルテクトラ ゲゼルシャフト ミット ベシュレンクテル ハフツング   原文 保存
該当なし  
2021/04/21 不服
2020 -10347 
最小限のクロストークで熱的に分離されたゾーンを有する静電チャック 原査定を取り消す。 本願の発明は,特許すべきものとする。   アプライド マテリアルズ インコーポレイテッド   原文 保存
該当なし  
2021/03/30 不服
2020 -5770 
室温金属直接ボンディング 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。 野河 信久 その他   インベンサス・ボンディング・テクノロジーズ・インコーポレイテッド   原文 保存
該当なし  
2020/10/19 不服
2019 -5542 
太陽電池及び半導体製造用の噴射可能なインク 本件審判の請求は、成り立たない。 廣田 浩一 その他   アルファ・アセンブリー・ソリューションズ・インコーポレイテッド   原文 保存
該当なし  
2020/09/30 不服
2019 -9701 
基板処理のためのシステム、基板処理のためのシステム用の真空回転モジュール、及び基板処理システムを操作する方法 本件審判の請求は、成り立たない。   アプライド マテリアルズ インコーポレイテッド   原文 保存
該当なし  
2020/07/01 不服
2019 -4674 
固体撮像装置 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。 黒木 義樹 その他   浜松ホトニクス株式会社   原文 保存
該当なし  
2020/04/28 不服
2018 -17452 
半導体素子、スパッタリングターゲット材及び半導体装置 本件審判の請求は、成り立たない。 服部 毅巖   日本軽金属株式会社 富士電機株式会社   原文 保存
該当なし  
2020/04/24 不服
2018 -11669 
プラズマチャンバ部品用耐プラズマコーティング 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。   アプライド マテリアルズ インコーポレイテッド   原文 保存
該当なし  
2020/03/31 不服
2018 -14895 
保護膜形成フィルム 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。 西澤 和純 その他   リンテック株式会社   原文 保存
該当なし  
2020/03/31 不服
2018 -10602 
高スループットの複数チャンバ原子層堆積システムおよび方法 本件審判の請求は、成り立たない。   ウルトラテック インク   原文 保存
該当なし  
2020/02/17 不服
2019 -335 
構造化された基板を搬送する収容装置 本件審判の請求は、成り立たない。 二宮 浩康 その他   エーファウ・グループ・エー・タルナー・ゲーエムベーハー   原文 保存
該当なし  
2019/12/26 不服
2018 -16684 
反応性イオンエッチング方法 本件審判の請求は、成り立たない。 小林 博通   アトランティック・イナーシャル・システムズ・リミテッド   原文 保存
該当なし  
2019/11/12 訂正
2019 -390090 
インターシステムハンドオーバーの制御のための方法 特許第3673757号の明細書を本件審判請求書に添付された訂正明細…… アインゼル・フェリックス=ラインハルト   シーメンス アクチエンゲゼルシヤフト   原文 保存
該当なし  
2019/09/30 不服
2019 -808 
レーザー加工装置 原査定を取り消す。 本願の発明は,特許すべきものとする。 松本 昂   株式会社ディスコ   原文 保存
該当なし  
2019/09/30 不服
2018 -7458 
積層半導体集積回路装置 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。 眞鍋 潔 その他   株式会社ThruChip Japan   原文 保存
該当なし  
2019/09/20 不服
2018 -9010 
低温ポリシリコン薄膜トランジスタ及びその製造方法 本件審判の請求は、成り立たない。   深▲セン▼市華星光電技術有限公司   原文 保存
該当なし  
2019/09/17 不服
2018 -14000 
半導体装置の製造方法 原査定を取り消す。 本願の発明は,特許すべきものとする。   富士電機株式会社   原文 保存
該当なし  
2019/07/29 不服
2018 -3544 
純還元性プラズマ中で高アスペクト比のフォトレジストを除去する方法 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。 アインゼル・フェリックス=ラインハルト   マットソン テクノロジー インコーポレイテッド   原文 保存
該当なし  
2019/07/01 不服
2018 -5861 
酸化物半導体基板及びショットキーバリアダイオード 本件審判の請求は、成り立たない。   出光興産株式会社   原文 保存
該当なし  
2019/06/10 不服
2018 -12079 
薄膜トランジスタ、薄膜トランジスタを有する表示装置、及び薄膜トランジスタの製造方法 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。 岡部 讓   エルジー ディスプレイ カンパニー リミテッド   原文 保存
該当なし  
2019/06/03 不服
2018 -4229 
半導体装置 本件審判の請求は、成り立たない。   ルネサスエレクトロニクス株式会社   原文 保存
該当なし  
2019/05/28 不服
2018 -11504 
マルチ窪みのシャロートレンチアイソレーションを有する集積回路 本件審判の請求は、成り立たない。   台湾積體電路製造股▲ふん▼有限公司   原文 保存
該当なし  
2019/05/28 不服
2018 -12725 
直接描画リソグラフィを使用する集積回路製造 本件審判の請求は、成り立たない。   エイアールエム リミテッド   原文 保存
該当なし  
2019/05/21 不服
2018 -4899 
薄膜トランジスタ、表示装置用電極基板およびそれらの製造方法 本件審判の請求は,成り立たない。 岡部 讓   エルジー ディスプレイ カンパニー リミテッド   原文 保存
該当なし  
2019/05/20 不服
2018 -9229 
太陽電池の製造方法 原査定を取り消す。 本願の発明は,特許すべきものとする。 村山 靖彦   ゾルファイ フルーオル ゲゼルシャフト ミット ベシュレンクテル ハフツング   原文 保存
該当なし  
2019/05/20 不服
2018 -7003 
外部配線を使用してダイ信号をラウティングするための方法および装置 本件審判の請求は、成り立たない。 福原 淑弘 その他   クゥアルコム・インコーポレイテッド   原文 保存
該当なし  
2019/05/07 不服
2018 -4639 
低温における、立方晶系及び六方晶系InN並びにAlNを伴うその合金のプラズマ支援原子層エピタキシー法 本件審判の請求は、成り立たない。   アメリカ合衆国   原文 保存
該当なし  
2019/04/16 不服
2018 -4779 
シリコンウェーハの製造方法 原査定を取り消す。 本願の発明は,特許すべきものとする。   株式会社SUMCO   原文 保存
該当なし  
2019/04/15 不服
2018 -3137 
レーザ照射装置 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。   株式会社日本製鋼所   原文 保存
該当なし  
2017/02/13 不服
2014 -19762 
無線装置 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。 堀内 美保子 その他   株式会社東芝   原文 保存
該当なし  

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