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現在の検索キーワード： 高橋 宣博

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審決年月日 審判番号 発明・考案の名称 結論 代理人 請求人    
2021/04/26 不服
2020 -4146  		レーザー処理及び温度誘導ストレスを用いた複合ウェハー製造方法 原査定を取り消す。 本願の発明は,特許すべきものとする。 前川 純一 その他   ジルテクトラ ゲゼルシャフト ミット ベシュレンクテル ハフツング   原文 保存
該当なし 　
2021/04/21 不服
2020 -10347  		最小限のクロストークで熱的に分離されたゾーンを有する静電チャック 原査定を取り消す。 本願の発明は,特許すべきものとする。   アプライド マテリアルズ インコーポレイテッド   原文 保存
該当なし 　
2021/03/30 不服
2020 -5770  		室温金属直接ボンディング 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。 河野 直樹 その他   インベンサス・ボンディング・テクノロジーズ・インコーポレイテッド   原文 保存
該当なし 　
2020/10/19 不服
2019 -5542  		太陽電池及び半導体製造用の噴射可能なインク 本件審判の請求は、成り立たない。 流 良広 その他   アルファ・アセンブリー・ソリューションズ・インコーポレイテッド   原文 保存
該当なし 　
2020/09/30 不服
2019 -9701  		基板処理のためのシステム、基板処理のためのシステム用の真空回転モジュール、及び基板処理システムを操作する方法 本件審判の請求は、成り立たない。   アプライド マテリアルズ インコーポレイテッド   原文 保存
該当なし 　
2020/07/01 不服
2019 -4674  		固体撮像装置 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。 阿部 寛 その他   浜松ホトニクス株式会社   原文 保存
該当なし 　
2020/04/28 不服
2018 -17452  		半導体素子、スパッタリングターゲット材及び半導体装置 本件審判の請求は、成り立たない。 服部 毅巖   日本軽金属株式会社 富士電機株式会社   原文 保存
該当なし 　
2020/04/24 不服
2018 -11669  		プラズマチャンバ部品用耐プラズマコーティング 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。   アプライド マテリアルズ インコーポレイテッド   原文 保存
該当なし 　
2020/03/31 不服
2018 -14895  		保護膜形成フィルム 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。 西澤 和純 その他   リンテック株式会社   原文 保存
該当なし 　
2020/03/31 不服
2018 -10602  		高スループットの複数チャンバ原子層堆積システムおよび方法 本件審判の請求は、成り立たない。   ウルトラテック インク   原文 保存
該当なし 　
2020/02/17 不服
2019 -335  		構造化された基板を搬送する収容装置 本件審判の請求は、成り立たない。 二宮 浩康 その他   エーファウ・グループ・エー・タルナー・ゲーエムベーハー   原文 保存
該当なし 　
2019/12/26 不服
2018 -16684  		反応性イオンエッチング方法 本件審判の請求は、成り立たない。 富岡 潔   アトランティック・イナーシャル・システムズ・リミテッド   原文 保存
該当なし 　
2019/11/12 訂正
2019 -390090  		インターシステムハンドオーバーの制御のための方法 特許第3673757号の明細書を本件審判請求書に添付された訂正明細…… アインゼル・フェリックス=ラインハルト   シーメンス アクチエンゲゼルシヤフト   原文 保存
該当なし 　
2019/09/30 不服
2019 -808  		レーザー加工装置 原査定を取り消す。 本願の発明は,特許すべきものとする。 岡本 知広   株式会社ディスコ   原文 保存
該当なし 　
2019/09/30 不服
2018 -7458  		積層半導体集積回路装置 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。 林 恒徳 その他   株式会社ThｒｕChiｐ Jaｐan   原文 保存
該当なし 　
2019/09/20 不服
2018 -9010  		低温ポリシリコン薄膜トランジスタ及びその製造方法 本件審判の請求は、成り立たない。   深▲セン▼市華星光電技術有限公司   原文 保存
該当なし 　
2019/09/17 不服
2018 -14000  		半導体装置の製造方法 原査定を取り消す。 本願の発明は,特許すべきものとする。   富士電機株式会社   原文 保存
該当なし 　
2019/07/29 不服
2018 -3544  		純還元性プラズマ中で高アスペクト比のフォトレジストを除去する方法 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。 二宮 浩康   マットソン テクノロジー インコーポレイテッド   原文 保存
該当なし 　
2019/07/01 不服
2018 -5861  		酸化物半導体基板及びショットキーバリアダイオード 本件審判の請求は、成り立たない。   出光興産株式会社   原文 保存
該当なし 　
2019/06/10 不服
2018 -12079  		薄膜トランジスタ、薄膜トランジスタを有する表示装置、及び薄膜トランジスタの製造方法 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。 岡部 讓   エルジー ディスプレイ カンパニー リミテッド   原文 保存
該当なし 　
2019/06/03 不服
2018 -4229  		半導体装置 本件審判の請求は、成り立たない。   ルネサスエレクトロニクス株式会社   原文 保存
該当なし 　
2019/05/28 不服
2018 -11504  		マルチ窪みのシャロートレンチアイソレーションを有する集積回路 本件審判の請求は、成り立たない。   台湾積體電路製造股▲ふん▼有限公司   原文 保存
該当なし 　
2019/05/28 不服
2018 -12725  		直接描画リソグラフィを使用する集積回路製造 本件審判の請求は、成り立たない。   エイアールエム リミテッド   原文 保存
該当なし 　
2019/05/21 不服
2018 -4899  		薄膜トランジスタ、表示装置用電極基板およびそれらの製造方法 本件審判の請求は,成り立たない。 吉澤 弘司   エルジー ディスプレイ カンパニー リミテッド   原文 保存
該当なし 　
2019/05/20 不服
2018 -9229  		太陽電池の製造方法 原査定を取り消す。 本願の発明は,特許すべきものとする。 実広 信哉   ゾルファイ フルーオル ゲゼルシャフト ミット ベシュレンクテル ハフツング   原文 保存
該当なし 　
2019/05/20 不服
2018 -7003  		外部配線を使用してダイ信号をラウティングするための方法および装置 本件審判の請求は、成り立たない。 福原 淑弘 その他   クゥアルコム・インコーポレイテッド   原文 保存
該当なし 　
2019/05/07 不服
2018 -4639  		低温における、立方晶系及び六方晶系InN並びにAlNを伴うその合金のプラズマ支援原子層エピタキシー法 本件審判の請求は、成り立たない。   アメリカ合衆国   原文 保存
該当なし 　
2019/04/16 不服
2018 -4779  		シリコンウェーハの製造方法 原査定を取り消す。 本願の発明は,特許すべきものとする。   株式会社SUMCO   原文 保存
該当なし 　
2019/04/15 不服
2018 -3137  		レーザ照射装置 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。   株式会社日本製鋼所   原文 保存
該当なし 　
2017/02/13 不服
2014 -19762  		無線装置 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。 河野 直樹 その他   株式会社東芝   原文 保存
該当なし 　

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