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現在の検索キーワード： 今井 淳一

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審決年月日 審判番号 発明・考案の名称 結論 代理人 請求人    
2010/09/14 不服
2008 -26458  		積層配線基板の製造方法 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。 間山 進也 その他   インターナショナル・ビジネス・マシーンズ・コーポレーション   原文 保存
該当なし 　
2010/09/01 不服
2009 -5119  		プラズマ処理方法 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。 田中 光雄 その他   パナソニック株式会社   原文 保存
該当なし 　
2010/08/17 不服
2008 -15628  		プラズマ処理装置および同装置により製造された半導体素子 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。   シャープ株式会社   原文 保存
該当なし 　
2010/08/04 不服
2009 -11079  		高出力遠隔起源を用いた堆積チャンバクリーニング装置 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。 長谷川 芳樹 その他   エーケーティー アメリカ, インコーポレイテッド   原文 保存
該当なし 　
2010/07/07 不服
2008 -4029  		半導体ウェハー表面のフォトレジストのクリーニング及びストリッピング 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。   株式会社アルバック   原文 保存
該当なし 　
2010/06/14 不服
2007 -33403  		基板処理における処理終了点の検出方法ならびに基板処理方法および基板処理装置 本件審判の請求は、成り立たない。   大日本スクリーン製造株式会社   原文 保存
該当なし 　
2010/05/27 不服
2008 -27409  		半導体基板の表面処理方法 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。 矢野 敏雄 その他   ローベルト ボツシユ ゲゼルシヤフト ミツト ベシユレンクテル ハフツング   原文 保存
 パリ条約 　
2010/03/31 不服
2007 -31382  		ドライエッチング方法 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。   東京エレクトロン株式会社   原文 保存
該当なし 　
2010/01/26 不服
2008 -19106  		オゾン処理方法及びオゾン処理装置 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。   住友精密工業株式会社   原文 保存
該当なし 　
2010/01/18 不服
2008 -2893  		プラズマ処理方法およびプラズマ処理装置 本件審判の請求は、成り立たない。   パナソニック株式会社   原文 保存
該当なし 　
2009/12/14 不服
2007 -19432  		絶縁性材料および絶縁膜形成方法 本件審判の請求は、成り立たない。   東京エレクトロン株式会社   原文 保存
該当なし 　
2009/12/11 不服
2007 -28412  		ドライエッチング装置 本件審判の請求は、成り立たない。   OKIセミコンダクタ宮崎株式会社 OKIセミコンダクタ株式会社   原文 保存
該当なし 　
2009/12/08 不服
2007 -19885  		エマージングフィルムのためのプラズマエッチングリアクタ及び方法 本件審判の請求は、成り立たない。 大塚 文昭 その他   ティーガル コーポレイション   原文 保存
該当なし 　
2009/11/25 不服
2007 -21497  		加熱装置およびそれを搭載したウェハプローバ 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。 二島 英明 その他   住友電気工業株式会社   原文 保存
該当なし 　
2009/11/16 不服
2007 -7829  		3つの独立制御電極を具備したエッチングチャンバ装置 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。 アインゼル・フェリックス=ラインハルト その他   シーメンス アクチエンゲゼルシヤフト   原文 保存
該当なし 　
2009/10/15 不服
2008 -21016  		平行平板電極を通じて電力を供給する誘電アンテナを有するプラズマ反応装置 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。   アプライド マテリアルズ インコーポレイテッド   原文 保存
該当なし 　
2009/09/14 不服
2007 -31667  		プラズマ処理装置に用いられる排気リング機構及びプラズマ処理装置 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。   東京エレクトロン株式会社   原文 保存
該当なし 　
2009/08/24 不服
2007 -27379  		半導体装置 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。 碓氷 裕彦 その他   株式会社デンソー   原文 保存
該当なし 　
2009/08/24 不服
2007 -7212  		半導体装置 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。   OKIセミコンダクタ株式会社   原文 保存
該当なし 　
2009/08/11 不服
2007 -12902  		誘電層を形成する方法及び関連するデバイス 本件審判の請求は、成り立たない。   インテル コーポレイション   原文 保存
 実施可能要件  進歩性(29条2項)  明確性 　
2009/08/04 不服
2007 -16718  		半導体製造装置 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。   セイコーインスツル株式会社   原文 保存
該当なし 　
2009/06/29 不服
2007 -24457  		半導体集積回路装置の製造方法 本件審判の請求は、成り立たない。   株式会社ルネサステクノロジ   原文 保存
該当なし 　
2009/06/24 不服
2007 -4418  		半導体装置のビットライン形成方法 本件審判の請求は、成り立たない。 三枝 英二 その他   株式会社ハイニックスセミコンダクター   原文 保存
該当なし 　
2009/06/08 不服
2007 -8286  		放熱性に優れた半導体装置 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。   古河電気工業株式会社   原文 保存
該当なし 　
2009/05/13 不服
2007 -4195  		反応性イオンエッチング方法及び装置 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。 森田 哲二 その他   株式会社アルバック   原文 保存
該当なし 　
2009/04/17 不服
2006 -28499  		マイクロ波放電装置 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。 佐藤 泰和 その他   芝浦メカトロニクス株式会社   原文 保存
該当なし 　
2009/03/24 不服
2007 -2113  		プラズマ処理方法 本件審判の請求は、成り立たない。 岩橋 文雄 その他   パナソニック株式会社   原文 保存
該当なし 　
2009/02/27 不服
2007 -988  		レーザエッチング装置 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。   三菱重工業株式会社   原文 保存
該当なし 　
2009/01/21 不服
2008 -14872  		窒化物系半導体装置 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。 堀井 豊 その他   住友電気工業株式会社   原文 保存
該当なし 　
2008/11/26 不服
2006 -21947  		半導体装置およびその製造方法 本件審判の請求は、成り立たない。   NECエレクトロニクス株式会社   原文 保存
該当なし 　

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