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現在の検索キーワード： 今井 淳一

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審決年月日 審判番号 発明・考案の名称 結論 代理人 請求人    
2006/10/31 不服
2004 -12850  		大形加工物用のプラズマ加工機 本件審判の請求は、成り立たない。   ラム リサーチ コーポレーション   原文 保存
該当なし 　
2006/10/31 不服
2004 -9929  		基板表面処理方法および基板表面処理装置 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。 川崎 実夫   大日本スクリーン製造株式会社   原文 保存
該当なし 　
2006/10/25 不服
2004 -7595  		ナノ構造の形成方法 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。   独立行政法人科学技術振興機構   原文 保存
該当なし 　
2006/10/13 不服
2004 -4595  		プラズマのための接地路を提供する電極構造を具えたプラズマ反応器、及び同プラズマ反応器を製造する方法 本件審判の請求は、成り立たない。 生井 和平 その他   マイクロン テクノロジー, インク.   原文 保存
該当なし 　
2006/10/06 不服
2004 -18590  		半導体装置の製造方法 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。   富士通株式会社   原文 保存
該当なし 　
2006/10/04 不服
2004 -4997  		半導体製造装置および半導体製造方法 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。   株式会社日立製作所   原文 保存
該当なし 　
2006/10/04 不服
2004 -4409  		プラズマ処理装置及び方法 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。 黒川 弘朗 その他   東京エレクトロン株式会社 八坂 保能   原文 保存
該当なし 　
2006/09/28 不服
2005 -17393  		半導体装置の製造方法 本件審判の請求は、成り立たない。 本多 弘徳 その他   ローム株式会社   原文 保存
該当なし 　
2006/08/29 不服
2003 -16353  		ガラス状炭素製プラズマエッチング用電極板 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。   日立化成工業株式会社   原文 保存
該当なし 　
2006/08/29 不服
2004 -8354  		プラズマ処理装置及びその管理方法 本件審判の請求は、成り立たない。 西山 雅也   富士通株式会社   原文 保存
該当なし 　
2006/08/23 不服
2004 -2636  		プラズマエッチング装置 本件審判の請求は、成り立たない。 貞重 和生   スピードファム株式会社   原文 保存
該当なし 　
2006/08/22 不服
2004 -7155  		エッチング方法及び半導体装置の製造方法 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。   富士通株式会社   原文 保存
該当なし 　
2006/08/21 不服
2004 -7004  		半導体装置の製造方法 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。   株式会社東芝   原文 保存
該当なし 　
2006/08/02 不服
2004 -6248  		ウエハプローバ用チャックトップおよびウエハプローバ用チャックトップに使用されるセラミック基板 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。   イビデン株式会社   原文 保存
該当なし 　
2006/07/12 不服
2003 -11281  		エッチング装置および半導体デバイスの製造方法 本件審判の請求は、成り立たない。 大西 健治 その他   沖電気工業株式会社 宮崎沖電気株式会社 イワキコーティング工業株式会社   原文 保存
該当なし 　
2006/07/03 不服
2004 -3337  		半導体製造装置の制御方法 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。   株式会社日立製作所   原文 保存
該当なし 　
2006/06/14 不服
2003 -8804  		プラズマエッチング電極及びプラズマエッチング装置 本件審判の請求は、成り立たない。   日立化成工業株式会社   原文 保存
該当なし 　
2006/06/14 不服
2003 -15842  		レジストアッシング方法およびレジストアッシング装置 本件審判の請求は、成り立たない。 安村 高明 その他   シャープ株式会社 森 勇蔵   原文 保存
該当なし 　
2006/06/12 不服
2003 -14203  		プラズマ処理方法 本件審判の請求は、成り立たない。   松下電器産業株式会社   原文 保存
該当なし 　
2006/06/01 不服
2004 -2735  		プラズマ状態検出方法及びその装置、プラズマ制御方法及びその装置並びにエッチング終点検出方法及びその装置 本件審判の請求は、成り立たない。 大渕 美千栄 その他   セイコーエプソン株式会社   原文 保存
該当なし 　
2006/05/29 不服
2004 -5517  		プラズマ処理方法 本件審判の請求は、成り立たない。 岩橋 文雄 その他   松下電器産業株式会社   原文 保存
 進歩性(29条2項) 　
2006/05/24 不服
2004 -18200  		プラズマ処理装置 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。   東京エレクトロン株式会社   原文 保存
該当なし 　
2006/05/17 不服
2004 -6417  		ウエハプローバ装置 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。   イビデン株式会社   原文 保存
該当なし 　
2006/05/17 不服
2004 -6416  		ウエハプローバ装置 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。   イビデン株式会社   原文 保存
該当なし 　
2006/05/11 不服
2004 -10377  		基板表面処理方法および基板表面処理装置 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。 稲岡 耕作   大日本スクリーン製造株式会社   原文 保存
該当なし 　
2006/05/10 不服
2004 -4608  		ウエハプローバおよびウエハプローバに使用されるセラミック基板 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。   イビデン株式会社   原文 保存
該当なし 　
2006/04/25 不服
2004 -3653  		プラズマ処理装置およびプラズマ処理方法 本件審判の請求は、成り立たない。 深見 久郎 その他   シャープ株式会社 大見 忠弘   原文 保存
該当なし 　
2006/04/24 不服
2004 -8370  		半導体製造用チャンバ構成部材 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。   京セラ株式会社   原文 保存
該当なし 　
2006/04/20 不服
2004 -3819  		プラズマ処理方法及び装置 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。 永野 大介 その他   松下電器産業株式会社   原文 保存
該当なし 　
2006/04/19 不服
2004 -9316  		プラズマ処理装置用シリコンリング 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。   信越化学工業株式会社   原文 保存
該当なし 　

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