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審決年月日 審判番号 発明・考案の名称 結論 代理人 請求人    
2006/03/03 不服
2003 -22699 
p型半導体膜の製造方法およびそれを用いた発光素子 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。   株式会社村田製作所   原文 保存
該当なし  
2006/02/09 不服
2004 -26048 
半導体装置の製造方法 本件審判の請求は、成り立たない。 上柳 雅誉 その他   セイコーエプソン株式会社   原文 保存
該当なし  
2005/12/19 不服
2003 -18622 
基板処理装置および基板処理方法 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。 川崎 実夫   大日本スクリーン製造株式会社   原文 保存
該当なし  
2005/12/08 不服
2003 -11578 
シリコンゲルマニウムエッチング停止層システム 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。 古谷 聡 その他   マサチューセッツ・インスティテュート・オブ・テクノロジー   原文 保存
該当なし  
2005/10/11 異議
2003 -73003 
半導体薄膜の製造方法および磁電変換素子の製造方法 訂正を認める。 特許第3414833号の請求項10、11に係る特許を維持す…… 岩橋 文雄 その他     原文 保存
該当なし  
2005/10/07 不服
2003 -15543 
ICパッケージ 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。 朝日 伸光 その他   ルーセント テクノロジーズ インコーポレーテッド   原文 保存
該当なし  
2005/09/29 不服
2004 -3477 
炭化珪素薄膜およびその製造方法 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。   松下電器産業株式会社   原文 保存
該当なし  
2005/09/26 不服
2003 -5777 
酸化物の高選択性エッチング法 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。 栗田 忠彦 その他   マイクロン・テクノロジー・インコーポレーテッド   原文 保存
該当なし  
2005/08/24 不服
2004 -22359 
ウエット処理装置 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。 福森 久夫   アルプス電気株式会社 大見 忠弘   原文 保存
該当なし  
2005/07/01 異議
2003 -73041 
プラズマ処理方法及び装置 訂正を認める。 特許第3417328号の請求項1ないし24に係る特許を維…… 坂口 智康 その他     原文 保存
 29条の2(拡大された先願の地位)  
2005/06/28 不服
2003 -23855 
バイポーラ高周波トランジスタ 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。   シーメンス アクチエンゲゼルシヤフト   原文 保存
 パリ条約  
2005/06/27 異議
2003 -71371 
半導体製造装置及びそのクリーニング方法 訂正を認める。 特許第3350590号の請求項1ないし6に係る特許を維…… 高橋 敬四郎     原文 保存
 新規事項の追加  
2005/06/24 不服
2003 -14380 
ノンリード・プラスチック半導体パッケージ構造 原査定を取り消す。本願の発明は、特許すべきものとする。 小堀 益   吉川工業株式会社   原文 保存
該当なし  
2005/04/27 異議
2003 -73163 
基板の処理法 特許第3419758号の請求項1ないし10に係る特許を維持する。 ラインハルト・アインゼル その他     原文 保存
該当なし  
2005/03/29 異議
2003 -73168 
配線基板の実装構造 特許第3420447号の請求項1ないし6に係る特許を維持する。     原文 保存
該当なし  
2005/02/14 不服
2003 -8607 
窒化物系半導体層の製造方法 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。 机 昌彦 その他   日本電気株式会社   原文 保存
該当なし  
2005/02/09 不服
2003 -13827 
非単結晶薄膜の形成装置 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。 福森 久夫   大見 忠弘 アルプス電気株式会社   原文 保存
該当なし  
2005/01/12 異議
2002 -71817 
面付実装型樹脂封止半導体装置 訂正を認める。 特許第3249958号の請求項1ないし5に係る特許を取…… 菊池 徹 その他     原文 保存
 分割出願(出願分割)  
2005/01/12 異議
2003 -72511 
ウェハ処理装置およびウェハ処理方法 特許第3395696号の請求項2、11ないし17、19ないし22に係る特許を維……     原文 保存
該当なし  
2004/12/17 不服
2003 -19598 
メサ型半導体装置 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。   富士電機デバイステクノロジー株式会社   原文 保存
該当なし  
2004/12/09 不服
2003 -9078 
半導体製造装置 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。 ▲橋▼場 満枝 その他   株式会社日立国際電気   原文 保存
該当なし  
2004/09/06 異議
2003 -72141 
蒸着装置及びボールバンプの形成方法 訂正を認める。 特許第3381454号の請求項2に係る特許を維持する。 船橋 国則     原文 保存
 新規事項の追加  
2004/08/09 不服
2002 -9456 
プラズマCVD成膜装置 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。 堀 明▲ひこ▼   日本エー・エス・エム株式会社   原文 保存
該当なし  
2004/07/12 不服
2002 -21776 
パターン内に間隔層を製造する方法 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。   シーメンス アクチエンゲゼルシヤフト   原文 保存
該当なし  
2004/06/03 不服
2001 -875 
半導体量子ドット構造の作製法 本件審判の請求は、成り立たない。 池田 憲保 その他   日本電気株式会社 技術研究組合フェムト秒テクノロジー研究機構   原文 保存
該当なし  
2004/04/06 不服
2003 -3207 
回転式基板処理装置 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。 柳舘 隆彦   住友精密工業株式会社   原文 保存
該当なし  
2004/04/05 不服
2002 -14458 
気相成長方法 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。   富士通株式会社   原文 保存
該当なし  
2004/03/19 不服
2002 -21067 
配向性膜の形成方法 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。   ソニー株式会社   原文 保存
該当なし  
2004/03/03 不服
2001 -8331 
インクジェットプリンタヘッドの製造方法およびシリコン基板の加工方法 本件審判の請求は、成り立たない。   セイコーエプソン株式会社   原文 保存
該当なし  
2004/01/20 不服
2002 -24095 
シリコンウェーハ表面粗さ制御用のエッチャント 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。   三菱住友シリコン株式会社   原文 保存
該当なし  

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