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小川 将之
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審決年月日
審判番号
発明・考案の名称
結論
代理人
請求人
2017/12/11
不服
2017 -7956
半導体装置
本件審判の請求は、成り立たない。
有田 貴弘
三菱電機株式会社
原文
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該当なし
2017/11/28
不服
2017 -2063
複合材料の目標エッチングプロセス特性を達成するためのガスクラスタイオンビームエッチングプロセス
本件審判の請求は,成り立たない。
大貫 進介 その他
ティーイーエル エピオン インコーポレイテッド
原文
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該当なし
2017/11/28
不服
2016 -18187
近接場光を用いたエッチング方法
原査定を取り消す。 本願の発明は,特許すべきものとする。
特定非営利活動法人ナノフォトニクス工学推進機構
原文
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該当なし
2017/10/30
不服
2016 -16739
半導体装置、スイッチング電源用制御ICおよびスイッチング電源装置
原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。
富士電機株式会社
原文
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該当なし
2017/10/13
不服
2016 -13978
半導体装置及び製造方法
原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。
北澤 一浩 その他
セレン フォトニクス リミテッド
原文
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該当なし
2017/10/02
不服
2016 -19552
横チャネル領域を有する接合型電界効果トランジスタセル
原査定を取り消す。 本願の発明は,特許すべきものとする。
インフィネオン テクノロジーズ アーゲー
原文
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該当なし
2017/09/28
不服
2015 -5907
単結晶シリコンウェハ
原査定を取り消す。 本願の発明は,特許すべきものとする。
インフィネオン テクノロジーズ オーストリア アクチエンゲゼルシャフト
原文
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該当なし
2017/09/27
不服
2017 -105
集積ダイアモンド変換画素化撮像装置及びその製造方法
原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。
実広 信哉 その他
コミッサリア ア レネルジー アトミーク エ オ ゼネルジ ザルタナテイヴ
原文
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該当なし
2017/09/20
不服
2016 -18524
基板から窒化物を選択的に除去する方法
原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。
伊東 忠重 その他
ティーイーエル エフエスアイ,インコーポレイティド
原文
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該当なし
2017/08/17
不服
2016 -10739
ハニカムヘテロエピタキシーを含む半導体装置
本件審判の請求は、成り立たない。
中島 成 その他
台湾積體電路製造股▲ふん▼有限公司
原文
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該当なし
2017/07/18
不服
2015 -8541
積層型イメージセンサー
原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。
大貫 進介 その他
三星電子株式会社
原文
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該当なし
2017/07/04
異議
2016 -701188
半導体装置およびその製造方法
特許第6024075号の請求項1ないし4に係る特許を維持する。
原文
保存
該当なし
2017/06/19
不服
2016 -17910
化合物半導体装置及びその製造方法
本件審判の請求は、成り立たない。
富士通株式会社
原文
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該当なし
2017/06/12
不服
2016 -11372
量子ドット半導体材料の製造装置及び製造方法
本件審判の請求は、成り立たない。
蘇州大学
原文
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該当なし
2017/05/10
不服
2016 -5411
デュアル・デプレションを示す高電子移動度トランジスタ及びその製造方法
本件審判の請求は、成り立たない。
木内 敬二 その他
三星電子株式会社
原文
保存
該当なし
2017/04/24
不服
2016 -2843
成膜方法
原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。
伊東 忠彦
東京エレクトロン株式会社
原文
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該当なし
2017/04/10
不服
2016 -5458
エピタキシャル堆積法及び装置
本件審判の請求は、成り立たない。
アプライド マテリアルズ インコーポレイテッド
原文
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該当なし
2017/04/05
不服
2016 -7265
バイポーラトランジスタ
原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。
株式会社村田製作所
原文
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該当なし
2017/03/07
不服
2016 -3451
シラン及びゲルマンの純度を間接的に決定するための固有抵抗の使用及び相応する方法
本件審判の請求は、成り立たない。
二宮 浩康 その他
エボニック デグサ ゲーエムベーハー
原文
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該当なし
2017/02/21
不服
2015 -10902
窒化物半導体基板
原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。
クアーズテック株式会社
原文
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該当なし
2017/02/07
不服
2016 -5162
半導体装置の製造方法
原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。
富士電機株式会社
原文
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該当なし
2017/01/17
不服
2016 -2159
積層半導体基板およびその製造方法
本件審判の請求は、成り立たない。
ジルトロニック アクチエンゲゼルシャフト
原文
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該当なし
2017/01/06
不服
2015 -8203
埋め込み接地板を備えた半導体構造体の製造方法
原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。
実広 信哉 その他
コミッサリア ア レネルジー アトミーク エ オ ゼネルジ ザルタナテイヴ
原文
保存
該当なし
2016/11/28
不服
2015 -19897
アルミニウム-セラミックス接合体
本件審判の請求は、成り立たない。
澤木 紀一
DOWAホールディングス株式会社
原文
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該当なし
2016/10/18
不服
2015 -5405
固体撮像装置、および、その製造方法、電子機器
本件審判の請求は、成り立たない。
ソニー株式会社
原文
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該当なし
2016/09/26
不服
2015 -8592
接着フィルム、ダイシング・ダイボンドフィルム、半導体装置の製造方法及び半導体装置
本件審判の請求は、成り立たない。
日東電工株式会社
原文
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該当なし
2016/09/26
不服
2015 -12908
半導体装置、該装置に用いられる実装基板及び該実装基板の製造方法
原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。
机 昌彦
日本電気株式会社
原文
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該当なし
2016/09/05
不服
2015 -14650
電子制御装置
原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。
碓氷 裕彦 その他
株式会社デンソー
原文
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該当なし
2016/07/13
不服
2015 -9656
高圧化学蒸着装置、方法、およびそれにより製造される組成物
本件審判の請求は、成り立たない。
大貫 敏史 その他
ジョージア ステート ユニバーシティ リサーチ ファウンデーション,インコーポレイテッド
原文
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該当なし
2016/07/04
不服
2015 -11055
半導体装置の製造方法
原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。
日東電工株式会社
原文
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