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審決年月日 審判番号 発明・考案の名称 結論 代理人 請求人    
2011/04/28 不服
2009 -7119 
シリコンウェーハの熱処理装置 本件審判の請求は、成り立たない。 村山 靖彦 その他   株式会社SUMCO   原文 保存
 進歩性(29条2項)  
2011/04/27 不服
2008 -4697 
グラニュラ磁性薄膜及びその製造方法,積層磁性膜,磁性部品,電子機器 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。   太陽誘電株式会社   原文 保存
該当なし  
2011/04/26 不服
2008 -28179 
均一性に優れた薄膜トランジスタ及びこれを用いる有機電界発光素子 本件審判の請求は,成り立たない。 村山 靖彦 その他   三星モバイルディスプレイ株式會社   原文 保存
 新規事項の追加  パリ条約  
2011/04/25 不服
2009 -11410 
薄膜トランジスタの半導体構造 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。 阿部 和夫 その他   トムソン ライセンシング   原文 保存
該当なし  
2011/04/25 不服
2008 -8336 
電気抵抗薄膜及びセンサデバイス 本件審判の請求は、成り立たない。   財団法人電気磁気材料研究所   原文 保存
 進歩性(29条2項)  
2011/04/25 不服
2008 -16905 
張り合わせシリコン基板の製造方法 本件審判の請求は、成り立たない。   株式会社SUMCO   原文 保存
該当なし  
2011/04/22 不服
2008 -15092 
集積回路を製造するための装置および方法 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。 溝部 孝彦   ヒューレット・パッカード・カンパニー   原文 保存
 パリ条約  
2011/04/22 不服
2008 -15343 
薄膜半導体装置 本件審判の請求は、成り立たない。 特許業務法人はるか国際特許事務所   株式会社 日立ディスプレイズ パナソニック液晶ディスプレイ株式会社   原文 保存
 実施可能要件  
2011/04/21 不服
2008 -18829 
薄膜トランジスタ基板の製造方法、および表示デバイス 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。 二口 治 その他   株式会社神戸製鋼所   原文 保存
該当なし  
2011/04/19 不服
2008 -15627 
酸化物超電導体電流リード 本件審判の請求は、成り立たない。   新日本製鐵株式会社   原文 保存
 進歩性(29条2項)  
2011/04/15 不服
2009 -7972 
ニッケルシリサイドのブリッジを減じるためのシリコン酸化物ライナ 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。 仲村 義平 その他   アドバンスト・マイクロ・ディバイシズ・インコーポレイテッド   原文 保存
該当なし  
2011/04/14 不服
2008 -19290 
光電気変換IC 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。   ローム株式会社   原文 保存
該当なし  
2011/04/11 不服
2007 -34078 
インバータ変圧器 本件審判の請求は、成り立たない。 三枝 英二   光詮科技股▲フェン▼有限公司 耀勝電子股▲フェン▼有限公司   原文 保存
該当なし  
2011/04/06 不服
2008 -6795 
ソレノイド及びソレノイドバルブ 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。 金井 廣泰 その他   イーグル工業株式会社   原文 保存
該当なし  
2011/04/05 不服
2009 -5637 
SOIウエーハ及びSOIウエーハの製造方法 本件審判の請求は、成り立たない。   信越半導体株式会社   原文 保存
 進歩性(29条2項)  
2011/04/05 不服
2009 -6238 
レーザーアニーリング装置 本件審判の請求は、成り立たない。 山本 秀策 その他   シャープ株式会社   原文 保存
 進歩性(29条2項)  
2011/04/05 不服
2008 -17843 
半導体装置 本件審判の請求は、成り立たない。 野本 可奈 その他   ルネサスエレクトロニクス株式会社   原文 保存
該当なし  
2011/04/05 不服
2008 -12533 
半導体装置の製造方法 本件審判の請求は、成り立たない。 蔵田 昌俊 その他   株式会社東芝   原文 保存
該当なし  
2011/03/25 不服
2008 -1528 
実質的に準安定なSiGe層とその形成方法 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。 市位 嘉宏 その他   インターナショナル・ビジネス・マシーンズ・コーポレーション   原文 保存
該当なし  
2011/03/22 不服
2008 -13636 
半導体装置およびその製造方法 原査定を取り消す。 本願の発明は,特許すべきものとする。 仲倉 幸典 その他   シャープ株式会社   原文 保存
該当なし  
2011/03/22 不服
2008 -29885 
磁気特性安定のための焼き鈍し磁性要素 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。   センサーマティック・エレクトロニクス・コーポレーション   原文 保存
該当なし  
2011/03/16 不服
2008 -5710 
抵抗器、その製造方法 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。 山田 文雄 その他   アルファ・エレクトロニクス株式会社 秋田県   原文 保存
該当なし  
2011/03/02 不服
2008 -5369 
厚膜チップコンデンサとその製造方法 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。 蔵合 正博   釜屋電機株式会社   原文 保存
該当なし  
2011/03/02 不服
2008 -1529 
六方晶フェライト磁石粉末と六方晶フェライト焼結磁石の製造方法 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。   TDK株式会社   原文 保存
該当なし  
2011/03/01 不服
2008 -6111 
画像表示装置およびその製造方法 本件審判の請求は、成り立たない。 特許業務法人はるか国際特許事務所   株式会社 日立ディスプレイズ パナソニック液晶ディスプレイ株式会社   原文 保存
 進歩性(29条2項)  
2011/02/25 不服
2008 -24832 
ナノスコピック熱電冷却装置 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。 坂口 博 その他   インターナショナル・ビジネス・マシーンズ・コーポレーション   原文 保存
 パリ条約  
2011/02/24 不服
2007 -35059 
電気二重層キャパシタおよびその製造方法 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。 内藤 浩樹 その他   パナソニック株式会社   原文 保存
該当なし  
2011/02/18 不服
2008 -14620 
薄膜トランジスタの製造方法 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。 特許業務法人はるか国際特許事務所   パナソニック液晶ディスプレイ株式会社 株式会社 日立ディスプレイズ   原文 保存
該当なし  
2011/02/17 不服
2009 -5944 
SOIウエーハの製造方法 本件審判の請求は、成り立たない。 石原 詔二   信越半導体株式会社   原文 保存
該当なし  
2011/02/17 不服
2008 -10171 
アニールウェーハの製造方法及びアニールウェーハ 本件審判の請求は、成り立たない。   信越半導体株式会社   原文 保存
 国内優先権  進歩性(29条2項)  

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