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現在の検索キーワード： 深草 祐一

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審決年月日 審判番号 発明・考案の名称 結論 代理人 請求人    
2002/03/12 異議
2001 -70128  		光リソグラフィー用光学部材および合成石英ガラスの製造方法 特許第3064857号の請求項1〜4に係る発明の特許を維持する。 曾我 道治 その他     原文 保存
該当なし 　
2002/03/06 異議
2001 -70973  		高純度アルミナセラミックス及びその製造方法 訂正を認める。 特許第3093897号の訂正後の請求項1ないし2に係る…… 石村 理恵 その他     原文 保存
該当なし 　
2002/02/28 異議
2001 -71514  		窒化ケイ素焼結体の製造方法 訂正を認める。 特許第3111657号の訂正後の請求項1ないし3に係る…… 中野 稔 その他     原文 保存
該当なし 　
2002/01/17 異議
2000 -72738  		塩基性耐火物 訂正を認める。 特許第2999395号の請求項1に係る特許を維持する。 梶並 順 その他     原文 保存
該当なし 　
2002/01/10 異議
2000 -72032  		無アルカリガラス基板 訂正を認める。 特許第2987523号の請求項1に係る特許を維持する。 後藤 洋介 その他     原文 保存
 新規事項の追加  29条の2(拡大された先願の地位) 　
2001/11/30 審判
1999 -11881  		窒化珪素基焼結体 原査定を取り消す。 本願請求項1〜13に係る発明は、特許すべき……   日本特殊陶業株式会社   原文 保存
 国内優先権 　
2001/11/22 不服
2000 -3996  		チタン酸バリウム系半導体磁器組成物 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。   株式会社村田製作所   原文 保存
該当なし 　
2001/11/21 不服
2001 -870  		高純度黒鉛製品の製造方法 本件審判の請求は、成り立たない。   イビデン株式会社   原文 保存
該当なし 　
2001/11/06 異議
1999 -73123  		溶融シリカガラス製品の製造方法 訂正を認める。 特許第2858637号の請求項1ないし12に係る特許を維…… 佐久間 剛 その他     原文 保存
 新規事項の追加 　
2001/11/06 異議
2000 -71636  		Si-SiC焼結体およびその焼成方法 訂正を認める。 特許第2968882号の請求項1に係る発明の特許を維持…… 渡邉 一平     原文 保存
該当なし 　
2001/10/12 異議
2000 -73909  		メッキ層を有する誘電体セラミックスおよびその製造方法 特許第3034073号の請求項1、2に係る特許を取り消す。     原文 保存
該当なし 　
2001/10/11 異議
2000 -74505  		耐紫外線・耐放射線シリカガラスおよびその製造方法、耐紫外線・耐放射線光学素子およびその製造方法 訂正を認める。 特許第3054412号の訂正後の請求項1ないし4に係る…… 足立 勉 その他     原文 保存
該当なし 　
2001/09/21 異議
2000 -71651  		無アルカリガラス基板 訂正を認める。 特許第2990379号の請求項1に係る特許を維持する。 後藤 洋介 その他     原文 保存
 国内優先権 　
2001/08/16 異議
2000 -71858  		非還元性誘電体磁器組成物 訂正を認める。 特許第2969007号の請求項1に係る特許を維持する。 山谷 晧榮 その他     原文 保存
 新規事項の追加 　
2001/08/16 異議
2000 -74074  		合成石英ガラス管の製造方法 訂正を認める。 特許第3039789号の訂正後の請求項1、3ないし5に係……     原文 保存
 29条の2(拡大された先願の地位) 　
2001/08/16 異議
2001 -70502  		多孔質ガラス母材原料液の供給装置 訂正を認める。 本件特許異議の申立てを却下する。 志賀 正武 その他     原文 保存
 新規事項の追加 　
2001/07/24 異議
2000 -73881  		圧電セラミックス 特許第3032761号の請求項1乃至3に係る特許を維持する。     原文 保存
該当なし 　
2001/07/11 異議
2000 -74009  		不透明石英ガラスの製造法 訂正を認める。 特許第3043032号の訂正後の請求項1ないし3に係る…… 石井 良和     原文 保存
該当なし 　
2001/06/26 異議
2000 -72183  		ガラス溶解炉用材料、ガラス溶解炉、ガラス製品の製造方法及びガラス溶解炉用材料の精製方法 訂正を認める。 特許第2982959号の訂正後の請求項1ないし14に係る…… 下田 容一郎     原文 保存
該当なし 　
2001/06/14 不服
2000 -4266  		炭化けい素粉末の低温焼結方法 本件審判の請求を却下する。   田中 英彦 独立行政法人物質・材料研究機構   原文 保存
該当なし 　
2001/06/06 異議
2000 -73422  		多孔質ガラス母材焼結装置 訂正を認める。 特許第3017990号の請求項1ないし8に係る特許を維…… 小宮 良雄     原文 保存
該当なし 　
2001/05/28 異議
2000 -74320  		射出成形用ジルコニア組成物及びその焼結体 特許第3047444号の請求項1ないし2に係る特許を取り消す。     原文 保存
該当なし 　
2001/05/22 異議
2000 -73389  		光ファイバ―用ガラス母材延伸装置 特許第3017491号の請求項1ないし2に係る特許を維持する。     原文 保存
該当なし 　
2001/05/22 審判
1999 -6695  		高温用炭化珪素質複合材 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。   日本ピラー工業株式会社   原文 保存
該当なし 　
2001/05/10 異議
2000 -72877  		窒化珪素粉末、窒化珪素焼結体及びそれを用いた回路基板 訂正を認める。 特許第3002642号の請求項3、5ないし8に係る特許を……     原文 保存
 29条の2(拡大された先願の地位)  新規事項の追加 　
2001/05/09 異議
2000 -73421  		光ファイバ母材の熱処理方法 訂正を認める。 特許第3017989号の請求項1-3に係る特許を維持する。 小宮 良雄     原文 保存
該当なし 　
2001/04/20 異議
2000 -71572  		セラミック基板用組成物 訂正を認める。 特許第2964725号の請求項1ないし4に係る特許を維…… 坂口 智康 その他     原文 保存
 国内優先権  29条の2(拡大された先願の地位) 　
2001/04/10 異議
2000 -72285  		粒子分散型ZｒO2系セラミックス材料及びその製造方法 特許第2985512号の請求項1ないし3に係る特許を取り消す。     原文 保存
該当なし 　
2001/04/05 異議
1999 -71346  		多孔質ガラスプリフォ-ムの作成方法および装置 特許第2809905号の請求項1、5、10に係る特許を取り消す。 同請求項…… 生田 哲郎 その他     原文 保存
 29条の2(拡大された先願の地位) 　
2001/03/15 異議
2000 -70283  		セラミックス複合焼結体およびその製造方法 訂正を認める。 特許第2925089号の請求項1ないし2に係る特許を維…… 千葉 剛宏 その他     原文 保存
 新規事項の追加 　

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