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現在の検索キーワード: 赤尾 隼人

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審決年月日 審判番号 発明・考案の名称 結論 代理人 請求人    
2019/11/25 不服
2018 -8568 
基本素子 本件審判の請求は、成り立たない。   馬淵 眞人   原文 保存
該当なし  
2019/08/22 不服
2017 -13531 
EUVリソグラフィのためのアシスト層 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。 三和 晴子   ブルーワー サイエンス アイ エヌ シー.   原文 保存
該当なし  
2019/06/05 不服
2017 -10628 
発光ダイオードのモノリシックアレイを使用して高解像度イメージを提供するシステムおよび方法 本件審判の請求は、成り立たない。 夫馬 直樹 その他   4233999 カナダ,インコーポレーテッド   原文 保存
該当なし  
2019/04/26 不服
2017 -13859 
位相反転ブランクマスク及びフォトマスク 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。 伊東 忠重 その他   エスアンドエス テック カンパニー リミテッド   原文 保存
該当なし  
2019/04/15 不服
2017 -6897 
マスクによって生じる結像収差の補正を用いて投影露光装置を作動させる方法 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。 近藤 直樹 その他   カール・ツァイス・エスエムティー・ゲーエムベーハー   原文 保存
該当なし  
2018/12/18 不服
2018 -224 
相分離構造を含む構造体の製造方法 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。 飯田 雅人 その他   東京応化工業株式会社   原文 保存
該当なし  
2018/12/10 不服
2017 -9369 
モデルベースのプロセスシミュレーション方法 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。 内藤 和彦 その他   エーエスエムエル ネザーランズ ビー.ブイ.   原文 保存
該当なし  
2018/11/14 不服
2017 -14753 
反射型マスクブランク及び反射型マスクの製造方法 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。   HOYA株式会社   原文 保存
該当なし  
2018/10/04 不服
2017 -7685 
露光装置及び露光方法、並びにデバイス製造方法 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。   株式会社ニコン   原文 保存
該当なし  
2018/09/20 不服
2017 -11953 
流体ハンドリング構造 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。 江口 昭彦 その他   エーエスエムエル ネザーランズ ビー.ブイ.   原文 保存
該当なし  
2018/07/18 不服
2016 -19479 
EUVレジスト感度の減少 本件審判の請求は、成り立たない。 伊東 忠重 その他   トーキョー エレクトロン ユーエス ホールディングス,インコーポレーテッド 東京エレクトロン株式会社   原文 保存
該当なし  
2018/04/20 不服
2016 -9990 
アライメント測定システム、リソグラフィ装置、およびリソグラフィ装置においてのアライメントを決定する方法 本件審判の請求は、成り立たない。   エーエスエムエル ネザーランズ ビー.ブイ.   原文 保存
該当なし  
2018/04/20 不服
2017 -6881 
リフトオフ装置およびリフトオフ方法 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。 田中 光雄 その他   東邦化成株式会社   原文 保存
該当なし  
2018/04/20 不服
2017 -3935 
露光装置、計測方法、露光方法、及びデバイス製造方法 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。 西澤 和純 その他   株式会社ニコン   原文 保存
該当なし  
2018/02/14 不服
2016 -16984 
搬入方法、露光方法及び露光装置、並びにデバイス製造方法 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。   株式会社ニコン   原文 保存
該当なし  
2017/12/13 不服
2016 -14139 
表示装置製造用フォトマスク、該フォトマスクの製造方法、パターン転写方法及び表示装置の製造方法 本件審判の請求は、成り立たない。   HOYA株式会社   原文 保存
該当なし  
2017/11/27 不服
2016 -19486 
保護膜の製造方法 本件審判の請求は、成り立たない。 坂元 徹   住友化学株式会社   原文 保存
該当なし  
2017/10/30 不服
2016 -18553 
ワークテーブルとマスクテーブルで共有するバランスマスシステム及びリソグラフィマシン 本件審判の請求は、成り立たない。   シャンハイ マイクロ エレクトロニクス イクイプメント(グループ)カンパニー リミティド   原文 保存
該当なし  
2017/10/11 不服
2016 -12225 
光学素子、照明装置、測定装置、フォトマスク、露光装置、露光方法、及びデバイス製造方法 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。 志賀 正武   株式会社ニコン   原文 保存
該当なし  
2017/10/11 不服
2016 -8510 
熱調整ユニット、リソグラフィ装置、及びデバイス製造方法 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。 稲葉 良幸   エーエスエムエル ネザーランズ ビー.ブイ.   原文 保存
該当なし  
2017/08/25 異議
2017 -700512 
ヒンジ 特許第6031001号の請求項1ないし4に係る特許を維持する。     原文 保存
該当なし  
2017/08/21 不服
2016 -12749 
基板処理方法 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。   株式会社SCREENセミコンダクターソリューションズ   原文 保存
該当なし  
2017/07/26 不服
2016 -12127 
リトグラフ装置 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。   エーエスエムエル ネザーランズ ビー.ブイ.   原文 保存
該当なし  
2017/04/24 不服
2016 -5806 
位相シフトマスク 本件審判の請求は、成り立たない。   大日本印刷株式会社   原文 保存
該当なし  
2017/03/27 不服
2016 -6458 
投影光学系の結像特性の変動量の算出方法、露光装置およびデバイス製造方法 本件審判の請求は、成り立たない。 阿部 琢磨   キヤノン株式会社   原文 保存
該当なし  
2016/12/05 不服
2016 -15649 
ローラーインプリント用モールドとインプリント方法およびワイヤーグリッド偏光子とその製造方法 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。 米田 潤三   大日本印刷株式会社   原文 保存
該当なし  
2016/05/09 不服
2014 -15707 
ソフトリソグラフィー又はインプリントリソグラフィーを用いる分離微小構造及び分離ナノ構造の作製方法 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。   ザ ユニバーシティ オブ ノース カロライナ アット チャペル ヒル   原文 保存
該当なし  
2016/04/05 不服
2014 -26726 
リソグラフィ装置および検出装置 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。 稲葉 良幸   エーエスエムエル ネザーランズ ビー.ブイ.   原文 保存
該当なし  
2016/03/11 不服
2015 -10735 
リソグラフィ装置およびデバイス製造方法 本件審判の請求は、成り立たない。 大貫 敏史   エーエスエムエル ネザーランズ ビー.ブイ.   原文 保存
該当なし  
2016/03/08 不服
2015 -7347 
インプリント装置、および物品の製造方法 本件審判の請求は、成り立たない。   キヤノン株式会社   原文 保存
該当なし  

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