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審決検索結果一覧を表示しています。
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渡戸 正義
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審決年月日
審判番号
発明・考案の名称
結論
代理人
請求人
2020/03/11
異議
2018 -700879
被処理物の温度測定装置及び温度測定方法並びに攪拌・脱泡方法
特許第6388992号の特許請求の範囲を訂正請求書に添付された訂正……
特許業務法人森脇特許事務所
原文
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該当なし
2019/04/08
無効
2017 -800041
原稿圧着板開閉装置
特許第5223070号の明細書及び特許請求の範囲を、訂正請求書に添……
横本 幸昌 その他
下西技研工業 株式会社
原文
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該当なし
2017/02/07
不服
2014 -21487
複数の投影対物レンズを備えた投影露光装置
原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。
近藤 直樹 その他
カール・ツァイス・エスエムティー・ゲーエムベーハー
原文
保存
該当なし
2016/11/17
不服
2014 -21488
複数の投影対物レンズを備えた投影露光装置
原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。
近藤 直樹 その他
カール・ツァイス・エスエムティー・ゲーエムベーハー
原文
保存
該当なし
2016/04/11
不服
2015 -8811
光学要素ユニット
本件審判の請求は、成り立たない。
杉村 憲司
カール・ツァイス・エスエムティー・ゲーエムベーハー
原文
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該当なし
2016/02/22
不服
2014 -16807
リソグラフィ工程の制御方法
本件審判の請求は、成り立たない。
稲葉 良幸
エーエスエムエル ネザーランズ ビー.ブイ.
原文
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該当なし
2016/01/15
不服
2015 -630
半導体素子及び半導体素子のパターン形成方法
本件審判の請求は、成り立たない。
木内 敬二 その他
三星電子株式会社
原文
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該当なし
2016/01/05
不服
2014 -24643
フォトマスクブランク及びフォトマスクの製造方法
本件審判の請求は、成り立たない。
岡田 貴志 その他
信越化学工業株式会社 凸版印刷株式会社
原文
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該当なし
2016/01/04
不服
2015 -1495
組成物、複合体の製造方法及び光学部材の製造方法
本件審判の請求は、成り立たない。
東洋合成工業株式会社
原文
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該当なし
2015/12/22
不服
2015 -1232
マイクロリソグラフィ用の掩蔽瞳を有する投影対物系
原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。
岸 慶憲 その他
カール・ツァイス・エスエムティー・ゲーエムベーハー
原文
保存
該当なし
2015/08/14
不服
2014 -19032
利用者認証機能付きロッカーシステム
本件審判の請求は、成り立たない。
今岡 憲
古川 次則 大野 清光
原文
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該当なし
2015/02/02
不服
2014 -1025
光学部材保持装置、光学部材の位置調整方法、及び露光装置
本件審判の請求は、成り立たない。
株式会社ニコン
原文
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該当なし
2014/12/12
不服
2013 -22445
露光装置
原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。
下山 治 その他
キヤノン株式会社
原文
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該当なし
2014/09/29
不服
2013 -20352
極紫外線(EUV)フォトマスクのエッチング方法
本件審判の請求は、成り立たない。
アプライド マテリアルズ インコーポレイテッド
原文
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該当なし
2014/09/17
不服
2013 -3007
光学要素ユニット
本件審判の請求は、成り立たない。
下地 健一
カール・ツァイス・エスエムティー・ゲーエムベーハー
原文
保存
該当なし
2014/06/27
不服
2013 -18291
フォトマスクブランクス
本件審判の請求は、成り立たない。
大日本印刷株式会社
原文
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該当なし
2014/01/31
不服
2012 -23090
版露光装置
原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。
緒方 雅昭 その他
ハイデルベルガー ドルツクマシーネン アクチエンゲゼルシヤフト
原文
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該当なし
2014/01/29
不服
2012 -25646
ソルダーレジストパターンの形成方法
本件審判の請求は、成り立たない。
竹内 将訓 その他
太陽ホールディングス株式会社
原文
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該当なし
2013/10/15
不服
2012 -21442
階調マスク
本件審判の請求は、成り立たない。
大日本印刷株式会社
原文
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該当なし
2013/09/02
不服
2012 -22175
リソグラフィ装置
原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。
稲葉 良幸
エーエスエムエル ネザーランズ ビー.ブイ.
原文
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該当なし
2013/04/02
不服
2012 -5043
露光装置、リソグラフィ装置及びデバイス製造方法
本件審判の請求は、成り立たない。
稲葉 良幸
エーエスエムエル ネザーランズ ビー.ブイ.
原文
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該当なし
2013/03/18
不服
2012 -5334
原稿圧着板自動開閉装置及びこの原稿圧着板自動開閉装置を備えた事務機器
原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。
株式会社ナチュラレーザ・ワン
原文
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該当なし
2013/02/27
不服
2012 -10308
半導体装置およびその製造方法ならびに半導体製造用マスク、光近接処理方法
原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。
有田 貴弘
ルネサスエレクトロニクス株式会社
原文
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該当なし
2013/02/27
訂正
2013 -390017
リソグラフィ装置及びデバイス製造方法
特許第5162559号に係る明細書及び特許請求の範囲を本件審判請求……
田中 智典 その他
エーエスエムエル ネザーランズ ビー.ブイ.
原文
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該当なし
2013/02/06
不服
2011 -28093
印写リソグラフィの方法
原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。
稲葉 良幸
エーエスエムエル ネザーランズ ビー.ブイ.
原文
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該当なし
2012/12/19
不服
2011 -21440
原稿圧着板開閉装置
原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。
加藤電機株式会社
原文
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該当なし
2012/11/09
不服
2011 -21491
グレートーンマスクブランク及びグレートーンマスクの製造方法
原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。
HOYA株式会社
原文
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該当なし
2012/09/13
不服
2011 -17093
リソグラフィ装置及びレチクル誘導CDUを補償するデバイス製造方法
原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。
エーエスエムエル ネザーランズ ビー.ブイ.
原文
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該当なし
2012/09/12
不服
2011 -17396
露光方法及び装置、並びにデバイス製造方法
原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。
株式会社ニコン
原文
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該当なし
2012/08/28
不服
2011 -17661
半導体デバイスを形成する方法およびシステム
原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。
有原 幸一 その他
ヒューレット-パッカード デベロップメント カンパニー エル.ピー.
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