| 審決年月日 |
審判番号 |
発明・考案の名称 |
結論 |
代理人 |
請求人 |
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2019/09/30
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不服
2019
-808
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レーザー加工装置
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原査定を取り消す。 本願の発明は,特許すべきものとする。
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岡本 知広
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株式会社ディスコ
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原文
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保存
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該当なし
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2019/09/30
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不服
2018
-5760
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光センサ
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本件審判の請求は、成り立たない。
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パナソニックIPマネジメント株式会社
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原文
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保存
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該当なし
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2019/09/30
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不服
2017
-11619
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半導体装置を形成する方法および半導体装置
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原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。
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インフィネオン テクノロジーズ アーゲー
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原文
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保存
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該当なし
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2019/09/30
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不服
2018
-4335
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熱電気素子
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本件審判の請求は、成り立たない。
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中村 真介
その他
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マーレ インターナショナル ゲゼルシャフト ミット ベシュレンクテル ハフツング
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原文
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保存
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該当なし
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2019/09/24
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不服
2018
-5410
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遠隔プラズマ源を使用する低温での選択的な酸化のための装置及び方法
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原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。
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アプライド マテリアルズ インコーポレイテッド
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原文
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保存
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該当なし
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2019/09/20
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不服
2018
-9010
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低温ポリシリコン薄膜トランジスタ及びその製造方法
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本件審判の請求は、成り立たない。
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深▲セン▼市華星光電技術有限公司
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原文
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保存
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該当なし
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2019/09/20
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不服
2019
-576
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中波長赤外線アブレーションを用いるウェハ剥離
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本件審判の請求は,成り立たない。
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太佐 種一
その他
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インターナショナル・ビジネス・マシーンズ・コーポレーション
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原文
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保存
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該当なし
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2019/09/18
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不服
2018
-4653
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炭化珪素半導体装置
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原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。
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富士電機株式会社
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原文
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保存
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該当なし
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2019/09/17
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不服
2018
-6126
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基板処理装置及び基板処理方法
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原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。
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高橋 香元
その他
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ピーエスケー インコーポレイテッド
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原文
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保存
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該当なし
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2019/09/17
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不服
2018
-14000
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半導体装置の製造方法
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原査定を取り消す。 本願の発明は,特許すべきものとする。
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富士電機株式会社
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原文
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保存
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該当なし
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2019/09/13
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異議
2019
-700493
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グラフェンを含む熱電材料およびデバイス
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特許第6438894号の請求項1ないし22に係る特許を維持する。
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小林 浩
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原文
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保存
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該当なし
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2019/08/20
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不服
2018
-10126
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炭化珪素半導体装置の製造方法
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原査定を取り消す。 本願の発明は,特許すべきものとする。
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富士電機株式会社
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原文
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保存
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該当なし
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2019/08/20
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不服
2017
-14097
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窒化物パワーデバイスおよびその製造方法
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原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。
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蘇州晶湛半導体有限公司
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原文
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保存
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該当なし
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2019/08/19
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異議
2018
-700363
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支持部材及び基板処理装置
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特許第6224366号の明細書,特許請求の範囲を訂正請求書に添付され……
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伊東 忠重
その他
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原文
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保存
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該当なし
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2019/08/05
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不服
2018
-9534
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半導体装置および半導体装置の製造方法
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原査定を取り消す。 本願の発明は,特許すべきものとする。
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富士電機株式会社
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原文
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保存
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該当なし
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2019/08/05
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不服
2018
-6219
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半導体装置
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本件審判の請求は、成り立たない。
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酒井 昭徳
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国立研究開発法人産業技術総合研究所
富士電機株式会社
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原文
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保存
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該当なし
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2019/08/01
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異議
2019
-700070
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有機電子装置を調製するための配合物および方法
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特許第6411438号の請求項1?39に係る特許を維持する。
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原文
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保存
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該当なし
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2019/07/29
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不服
2018
-11732
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切り替えコンポーネントおよびメモリユニット
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原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。
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大菅 義之
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マイクロン テクノロジー,インク.
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原文
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保存
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該当なし
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2019/07/29
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不服
2018
-1275
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固体撮像装置
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原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。
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大塚 康弘
その他
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キヤノン株式会社
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原文
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保存
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該当なし
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2019/07/17
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不服
2018
-14679
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回路のための過渡事象保護をもたらす方法および装置
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原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。
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ザ・ボーイング・カンパニー
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原文
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保存
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該当なし
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2019/07/11
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不服
2017
-10718
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炭化ケイ素MOSFETセルの形成方法
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原査定を取り消す。 本願の発明は,特許すべきものとする。
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田中 拓人
その他
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ゼネラル・エレクトリック・カンパニイ
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原文
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保存
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該当なし
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2019/07/01
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異議
2018
-700699
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インジウムリン基板、およびインジウムリン基板の製造方法
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特許第6296177号の明細書及び特許請求の範囲を訂正請求書に添付……
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特許業務法人深見特許事務所
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原文
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保存
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該当なし
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2019/06/18
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不服
2018
-7138
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半導体装置
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原査定を取り消す。 本願の発明は,特許すべきものとする。
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池上 徹真
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株式会社東芝
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原文
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保存
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該当なし
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2019/06/10
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不服
2017
-18143
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自己配列されたパターニング集積化スキームにおけるパターン密度を増加させるための方法
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本件審判の請求は,成り立たない。
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伊東 忠彦
その他
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東京エレクトロン株式会社
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原文
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保存
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該当なし
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2019/06/07
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不服
2018
-4058
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磁気メモリを製造するための装置及び磁気接合を提供するための方法
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本件審判の請求は,成り立たない。
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崔 允辰
その他
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三星電子株式会社
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原文
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保存
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該当なし
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2019/06/06
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不服
2018
-6183
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半導体処理チャンバーのための銀リフレクタ
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原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。
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アプライド マテリアルズ インコーポレイテッド
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原文
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保存
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該当なし
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2019/06/03
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不服
2018
-4229
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半導体装置
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本件審判の請求は、成り立たない。
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ルネサスエレクトロニクス株式会社
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原文
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保存
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該当なし
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2019/05/28
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不服
2018
-12725
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直接描画リソグラフィを使用する集積回路製造
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本件審判の請求は、成り立たない。
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エイアールエム リミテッド
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原文
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保存
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該当なし
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2019/05/28
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異議
2019
-700210
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研磨組成物およびアミノシランを用いて処理された研削剤粒子の使用方法
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特許第6392913号の請求項6ないし10に係る特許を維持する。
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蛯谷 厚志
その他
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原文
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保存
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該当なし
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2019/05/21
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不服
2018
-5376
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半導体装置及びその製造方法
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原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。
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日産自動車株式会社
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原文
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保存
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該当なし
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