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審決年月日 審判番号 発明・考案の名称 結論 代理人 請求人    
2018/05/07 不服
2017 -18162 
ワイヤハーネス生産システム及びワイヤハーネス生産方法 本件審判の請求は,成り立たない。   矢崎総業株式会社   原文 保存
該当なし  
2018/05/07 不服
2017 -14703 
半導体装置の製造方法及び半導体装置 本件審判の請求は,成り立たない。 清水 義憲 その他   日立化成株式会社   原文 保存
該当なし  
2018/04/23 不服
2017 -9026 
情報コード読取装置 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。   株式会社デンソーウェーブ   原文 保存
該当なし  
2018/04/23 不服
2017 -9873 
半導体装置及びその製造方法、電源装置、高周波増幅器 原査定を取り消す。 本願の発明は,特許すべきものとする。   富士通株式会社   原文 保存
該当なし  
2018/04/16 不服
2017 -12150 
ICカード、情報処理方法、情報記憶媒体、及び情報処理プログラム 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。 蔵田 昌俊 その他   株式会社東芝 東芝インフラシステムズ株式会社   原文 保存
該当なし  
2018/04/09 不服
2016 -528 
膜の少なくとも一部を酸化シリコンに変換し、および/または、蒸気内紫外線硬化を利用して膜の品質を改善し、および、アンモニア内紫外線硬化を利用して膜を高密度化するシステムおよび方法 本件審判の請求は,成り立たない。   ノベラス・システムズ・インコーポレーテッド   原文 保存
該当なし  
2018/04/09 不服
2017 -8700 
パッド構造 本件審判の請求は、成り立たない。 辻岡 将昭 その他   台湾積體電路製造股▲ふん▼有限公司   原文 保存
該当なし  
2018/04/03 訂正
2018 -390015 
撮像装置 特許第6243498号の明細書を本件審判請求書に添付された訂正明細…… 磯野 富彦   采▲ぎょく▼科技股▲ふん▼有限公司   原文 保存
該当なし  
2018/04/02 不服
2017 -5632 
エピタキシャルウェハおよびその製造方法 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。 特許業務法人深見特許事務所   ジルトロニック アクチエンゲゼルシャフト インテル コーポレイション   原文 保存
該当なし  
2018/03/30 不服
2017 -5155 
アモルファス酸化物半導体薄膜トランジスタ作製方法 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。 村山 靖彦   スナップトラック・インコーポレーテッド   原文 保存
該当なし  
2018/03/26 不服
2017 -8229 
金属ゲートとストレッサーを有するゲルマニウムフィンFET 本件審判の請求は、成り立たない。 坂元 辰哉 その他   台湾積體電路製造股▲ふん▼有限公司   原文 保存
該当なし  
2018/03/19 不服
2017 -2167 
炭化ケイ素縦型MOSFET及びその製造方法 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。 酒井 昭徳   富士電機株式会社 国立研究開発法人産業技術総合研究所   原文 保存
該当なし  
2018/03/19 不服
2017 -6316 
相変化メモリセル 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。 水村 香穂里   ツィンファ ユニバーシティ 鴻海精密工業股▲ふん▼有限公司   原文 保存
該当なし  
2018/03/16 不服
2017 -5148 
ダミーパターンを有する撮像装置 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。   采▲ぎょく▼科技股▲ふん▼有限公司   原文 保存
該当なし  
2018/03/09 不服
2017 -6199 
イメージセンサーとその形成方法 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。   采▲ぎょく▼科技股▲ふん▼有限公司   原文 保存
該当なし  
2018/03/05 不服
2017 -10335 
撮像素子および撮像装置 本件審判の請求は、成り立たない。   株式会社ニコン   原文 保存
該当なし  
2018/03/05 不服
2017 -2955 
パッシベーション膜付半導体基板及びその製造方法、並びに太陽電池素子及びその製造方法 本件審判の請求は,成り立たない。   日立化成株式会社   原文 保存
該当なし  
2018/02/19 不服
2016 -12248 
半導体組成物 原査定を取り消す。 本願の発明は,特許すべきものとする。   三星電子株式会社   原文 保存
該当なし  
2018/02/14 不服
2017 -6153 
半導体装置 原査定を取り消す。 本願の発明は,特許すべきものとする。   三菱電機株式会社   原文 保存
該当なし  
2018/02/14 不服
2017 -1414 
エッチングシステム 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。   株式会社NSC パナソニック株式会社   原文 保存
該当なし  
2018/02/06 不服
2016 -14206 
半導体デバイスおよびその製造方法 本件審判の請求は、成り立たない。 田中 拓人 その他   ゼネラル・エレクトリック・カンパニイ   原文 保存
該当なし  
2018/02/05 不服
2017 -4045 
半導体装置および半導体装置の製造方法 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。   ラピスセミコンダクタ株式会社   原文 保存
該当なし  
2018/02/05 不服
2017 -752 
炭化珪素装置および炭化珪素装置の形成方法 原査定を取り消す。 本願の発明は,特許すべきものとする。   インフィネオン テクノロジーズ アーゲー   原文 保存
該当なし  
2018/01/30 不服
2017 -9558 
不揮発性半導体記憶装置、及びデータ書き込み方法 本件審判の請求は、成り立たない。   東芝メモリ株式会社   原文 保存
該当なし  
2018/01/29 不服
2017 -5644 
ダブルレンズ構造とその製造方法 原査定を取り消す。 本願の発明は,特許すべきものとする。   采▲ぎょく▼科技股▲ふん▼有限公司   原文 保存
該当なし  
2018/01/29 不服
2016 -18106 
集積回路の異なる階層上の、読取/書込ポートおよびアクセスロジックを有する3Dメモリセル 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。 蔵田 昌俊 その他   クゥアルコム・インコーポレイテッド   原文 保存
該当なし  
2018/01/29 不服
2016 -19673 
シリコンまたは類似の基板上に窒化ガリウムの厚いエピタキシャル層を形成するための方法、およびこの方法を使用して得られる層 本件審判の請求は、成り立たない。 特許業務法人 谷・阿部特許事務所   サントル ナショナル ドゥ ラ ルシェルシュ スィヤンティフィック(セーエヌエルエス) ソイテック   原文 保存
該当なし  
2018/01/29 不服
2017 -1738 
半導体素子、半導体基板、感放射線性樹脂組成物、保護膜および表示素子 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。 関口 正夫   JSR株式会社   原文 保存
該当なし  
2018/01/29 不服
2017 -886 
CMOS画像センサー内蔵IRアップコンバージョン装置を組み込んだ赤外線撮像装置 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。 特許業務法人北青山インターナショナル   ナノホールディングス,リミテッド ライアビリティー カンパニー ユニバーシティー オブ フロリダ リサーチ ファウンデーション,インコーポレイテッド   原文 保存
該当なし  
2018/01/29 不服
2016 -17524 
有機電子装置を調製するための配合物および方法 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。 伊藤 克博   メルク パテント ゲゼルシャフト ミット ベシュレンクテル ハフツング   原文 保存
該当なし  

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