| 審決年月日 |
審判番号 |
発明・考案の名称 |
結論 |
代理人 |
請求人 |
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2021/11/11
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不服
2021
-1512
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制御装置及び制御方法
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原査定を取り消す。 本願の発明は,特許すべきものとする。
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株式会社東京精密
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原文
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保存
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該当なし
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2021/11/04
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異議
2021
-700852
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ウエハ載置装置及びその製法
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特許第6839314号の請求項1?5に係る特許を維持する。
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原文
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保存
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該当なし
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2021/07/14
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不服
2021
-770
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半導体チップのピックアップ装置、半導体チップの実装装置および実装方法
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本件審判の請求は,成り立たない。
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芝浦メカトロニクス株式会社
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原文
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保存
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該当なし
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2021/06/16
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不服
2020
-16392
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基板移送ロボットエンドエフェクタ
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本件審判の請求は、成り立たない。
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西島 孝喜
その他
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アプライド マテリアルズ インコーポレイテッド
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原文
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保存
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該当なし
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2021/03/31
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不服
2020
-3376
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ウェハ処理方法
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原査定を取り消す。 本願の発明は,特許すべきものとする。
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野田 雅一
その他
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株式会社ディスコ
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原文
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保存
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該当なし
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2021/03/31
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不服
2020
-14189
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処理のために基板を支持する静電キャリア
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本件審判の請求は,成り立たない。
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アプライド マテリアルズ インコーポレイテッド
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原文
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保存
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該当なし
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2021/02/24
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不服
2020
-1379
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プラズマ化学気相堆積システムにおいて高温で圧縮又は引張応力を有するウェハを処理する方法及び装置
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原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。
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アプライド マテリアルズ インコーポレイテッド
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原文
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保存
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該当なし
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2021/01/20
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不服
2020
-5935
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基板を保持するための保持構成、基板を支持するためのキャリア、真空処理システム、基板を保持するための方法、及び基板を解放するための方法
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原査定を取り消す。 本願の発明は,特許すべきものとする。
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アプライド マテリアルズ インコーポレイテッド
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原文
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保存
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該当なし
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2020/11/30
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異議
2020
-700579
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パージノズルユニット、ロードポート、ストッカー
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特許第6646236号の請求項1ないし6に係る特許を維持する。
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原文
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保存
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該当なし
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2020/11/11
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不服
2019
-11082
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基板収納容器の弁アセンブリ
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原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。
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本田 淳
その他
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インテグリス・インコーポレーテッド
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原文
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保存
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該当なし
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2020/10/21
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不服
2020
-4904
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静電チャック
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本件審判の請求は、成り立たない。
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日新イオン機器株式会社
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原文
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保存
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該当なし
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2020/09/28
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不服
2019
-8687
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イメージセンサー
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原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。
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采▲ぎょく▼科技股▲ふん▼有限公司
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原文
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保存
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該当なし
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2020/06/02
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不服
2019
-6975
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基板処理のための混合プラットフォームの装置、システム、及び方法
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本件審判の請求は、成り立たない。
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アプライド マテリアルズ インコーポレイテッド
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原文
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保存
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該当なし
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2019/11/20
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不服
2019
-1824
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基板処理装置
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本件審判の請求は、成り立たない。
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高田 守
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エーエスエム アイピー ホールディング ビー.ブイ.
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原文
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保存
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該当なし
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2019/07/17
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不服
2018
-15931
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基板保持装置
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本件審判の請求は、成り立たない。
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サムコ株式会社
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原文
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保存
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該当なし
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2018/03/29
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不服
2016
-17264
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スプリットゲート電界効果トランジスタ
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原査定を取り消す。 本願の発明は,特許すべきものとする。
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ヴィシェイ-シリコニックス
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原文
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保存
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該当なし
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2018/03/27
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不服
2017
-6958
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プラズマアニール方法及びその装置
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原査定を取り消す。 本願の発明は,特許すべきものとする。
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萼 経夫
その他
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日産化学工業株式会社
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原文
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保存
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該当なし
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2018/02/19
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不服
2016
-17968
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プラズマチャンバーにおいて半導体ワークピースを取り巻く導電性カラー
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原査定を取り消す。 本願の発明は,特許すべきものとする。
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弟子丸 健
その他
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アプライド マテリアルズ インコーポレイテッド
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原文
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保存
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該当なし
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2018/02/14
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不服
2017
-1414
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エッチングシステム
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原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。
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株式会社NSC
パナソニック株式会社
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原文
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保存
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該当なし
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2017/12/18
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不服
2016
-13564
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金属インターコネクトのために絶縁積層体を選択的にエッチングする方法
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原査定を取り消す。 本願の発明は,特許すべきものとする。
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伊東 忠重
その他
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ト-キョ-・エレクトロン・アメリカ・インコーポレーテッド
東京エレクトロン株式会社
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原文
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保存
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該当なし
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2017/11/28
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不服
2016
-18187
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近接場光を用いたエッチング方法
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原査定を取り消す。 本願の発明は,特許すべきものとする。
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特定非営利活動法人ナノフォトニクス工学推進機構
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原文
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保存
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該当なし
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2017/09/20
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不服
2016
-18524
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基板から窒化物を選択的に除去する方法
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原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。
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大貫 進介
その他
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ティーイーエル エフエスアイ,インコーポレイティド
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原文
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保存
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該当なし
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2017/08/07
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不服
2016
-11938
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基板温度制御方法及びプラズマ処理装置
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原査定を取り消す。 本願の発明は,特許すべきものとする。
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東京エレクトロン株式会社
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原文
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保存
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該当なし
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2017/06/22
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不服
2016
-6448
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GaNベース半導体結晶成長用多結晶窒化アルミニウム基材およびそれを用いたGaNベース半導体の製造方法
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本件審判の請求は,成り立たない。
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鈴木 順生
その他
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東芝マテリアル株式会社
株式会社東芝
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原文
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保存
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該当なし
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2017/06/19
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不服
2016
-13131
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エピタキシャルウェーハの製造方法
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本件審判の請求は、成り立たない。
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小林 俊弘
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信越半導体株式会社
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原文
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保存
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該当なし
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2017/05/09
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不服
2016
-13665
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高度なパターン形成に必要な小型フィーチャのパターン形成プロセス
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本件審判の請求は,成り立たない。
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伊東 秀明
その他
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ブルーワー サイエンス アイ エヌ シー.
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原文
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保存
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該当なし
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2017/05/09
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不服
2016
-4207
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エッチングマスク付基材の製造方法
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本件審判の請求は、成り立たない。
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株式会社シンク・ラボラトリー
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原文
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保存
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該当なし
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2017/03/29
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不服
2016
-4889
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シリコン凹部低減のためのエッチングプロセス
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本件審判の請求は、成り立たない。
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伊東 忠彦
その他
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東京エレクトロン株式会社
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原文
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保存
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該当なし
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2017/01/17
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不服
2015
-18504
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SOI基板のエッチング方法
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本件審判の請求は、成り立たない。
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国立大学法人東北大学
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原文
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保存
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該当なし
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2016/12/28
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不服
2016
-2111
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周期的な酸化およびエッチングのための装置と方法
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本件審判の請求は、成り立たない。
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アプライド マテリアルズ インコーポレイテッド
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原文
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保存
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該当なし
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