審決検索結果一覧を表示しています。

現在の検索キーワード: 北島 健次

297 件のヒット

  • ポートフォリオ機能
  • 絞り込み検索機能

チェックした審決を…
  ポートフォリオ名を入力して新規に保存 → 

 既存のポートフォリオを選択して保存 → 
絞り込み検索ワード: or or  → 
審決年月日 審判番号 発明・考案の名称 結論 代理人 請求人    
2012/04/02 不服
2010 -14475 
スピンFET及び磁気抵抗効果素子 原査定を取り消す。 本願の発明は,特許すべきものとする。 中村 誠 その他   株式会社東芝   原文 保存
該当なし  
2012/01/20 不服
2010 -4593 
半導体装置及びその製造方法 原査定を取り消す。 本願の発明は,特許すべきものとする。 福田 修一 その他   エルピーダメモリ株式会社   原文 保存
該当なし  
2011/10/05 不服
2009 -11420 
短絡チャネルを有する炭化ケイ素パワー金属酸化物半導体電界効果トランジスタ 原査定を取り消す。 本願の発明は,特許すべきものとする。 浅村 肇 その他   クリー インコーポレイテッド   原文 保存
 パリ条約  
2011/09/28 不服
2010 -13938 
半導体装置およびその製造方法 本件審判の請求は,成り立たない。 酒井 將行 その他   ルネサスエレクトロニクス株式会社   原文 保存
 新規事項の追加  
2011/09/14 不服
2008 -26865 
絶縁体上に歪み結晶層を製造する方法、前記方法による半導体構造及び製造された半導体構造 原査定を取り消す。 本願の発明は,特許すべきものとする。 山田 行一 その他   エス. オー. アイ. テック シリコン オン インシュレーター テクノロジーズ   原文 保存
該当なし  
2011/08/03 不服
2009 -17209 
磁気抵抗素子及び磁気抵抗素子の製造方法 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。   ヤマハ株式会社   原文 保存
該当なし  
2011/08/01 不服
2009 -1415 
カラー撮像素子 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。 黒岩 創吾   キヤノン株式会社   原文 保存
該当なし  
2011/07/06 不服
2008 -26280 
半導体集積回路デバイスの製造方法 原査定を取り消す。 本願の発明は,特許すべきものとする。 臼井 伸一 その他   アルカテル-ルーセント ユーエスエー インコーポレーテッド   原文 保存
該当なし  
2011/07/06 不服
2008 -29132 
スプリットゲートフラッシュメモリセル及びその製造方法 本件審判の請求は、成り立たない。 森田 俊雄 その他   トンブ・エレクトロニクス・カンパニー・リミテッド   原文 保存
該当なし  
2011/06/09 不服
2008 -21128 
局部エッチング阻止物質層を有するビットラインスタッド上のビットラインランディングパッドと非境界コンタクトとを有する半導体素子及びその製造方法 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。 渡邊 隆 その他   三星電子株式会社   原文 保存
該当なし  
2011/04/22 不服
2008 -11302 
磁気抵抗ビット構造体およびその製造方法 本件審判の請求は,成り立たない。 大菅 義之   マイクロン テクノロジー, インク.   原文 保存
該当なし  
2011/04/22 不服
2008 -1286 
MRAMメモリ 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。   インフィニオン テクノロジーズ アクチエンゲゼルシャフト   原文 保存
該当なし  
2011/02/25 不服
2008 -5093 
高周波制御されるSCRタイプのスイッチ 原査定を取り消す。 本願の発明は,特許すべきものとする。   エステーミクロエレクトロニクス ソシエテ アノニム   原文 保存
該当なし  
2011/02/02 不服
2008 -15026 
SRAM装置およびその製造方法 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。   三星電子株式会社   原文 保存
該当なし  
2011/01/28 不服
2008 -12142 
有機回路の作製プロセス 原査定を取り消す。 本願の発明は,特許すべきものとする。 朝日 伸光 その他   アルカテル-ルーセント ユーエスエー インコーポレーテッド   原文 保存
該当なし  
2010/12/28 不服
2008 -6706 
基板熱管理システム 本件審判の請求は,成り立たない。 稲葉 良幸 その他   エーエスエムエル ホールディング エヌ.ブイ.   原文 保存
該当なし  
2010/12/28 不服
2008 -12514 
半導体装置の製造方法 本件審判の請求は、成り立たない。   シャープ株式会社   原文 保存
 進歩性(29条2項)  国内優先権  
2010/12/21 不服
2008 -8459 
プロファイラー・ビジネス・モデル 本件審判の請求は、成り立たない。 鶴田 準一 その他   ティンバー テクノロジーズ,インコーポレイティド   原文 保存
該当なし  
2010/12/07 不服
2007 -31027 
リードフレーム,及び,半導体装置 本件審判の請求は,成り立たない。 亀谷 美明 その他   OKIセミコンダクタ株式会社   原文 保存
該当なし  
2010/11/02 不服
2007 -32243 
半導体記憶装置 本件審判の請求は,成り立たない。   富士通セミコンダクター株式会社   原文 保存
該当なし  
2010/10/19 不服
2007 -23045 
不揮発性メモリ装置 本件審判の請求は,成り立たない。   三星電子株式会社   原文 保存
該当なし  
2010/10/14 不服
2008 -13206 
結晶性シリコン膜の形成方法、半導体装置、ディスプレイ装置 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。 山本 秀策 その他   シャープ株式会社   原文 保存
該当なし  
2010/10/13 不服
2007 -34620 
コンタクト抵抗測定用テストパターン及びその製造方法 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。   株式会社ハイニックスセミコンダクター   原文 保存
 パリ条約  
2010/10/12 不服
2008 -10179 
アニールウエーハの製造方法及びアニールウエーハ 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。   信越半導体株式会社   原文 保存
該当なし  
2010/08/23 不服
2007 -16884 
金属膜作製方法及び金属膜作製装置 原査定を取り消す。 本願の発明は,特許すべきものとする。 朝日 伸光 その他   キヤノンアネルバ株式会社   原文 保存
該当なし  
2010/08/23 不服
2007 -31029 
工程管理システム及び工程管理方法 本件審判の請求は,成り立たない。 亀谷 美明 その他   OKIセミコンダクタ株式会社   原文 保存
 進歩性(29条2項)  
2010/08/19 不服
2008 -1629 
液晶表示装置及びその製造方法 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。   日本電気株式会社   原文 保存
該当なし  
2010/08/03 不服
2007 -18704 
積層型圧電素子とその製造方法およびそれを用いた噴射装置 本件審判の請求は,成り立たない。   京セラ株式会社   原文 保存
 進歩性(29条2項)  
2010/06/30 不服
2007 -20677 
半導体装置 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。 速水 進治 その他   ルネサスエレクトロニクス株式会社   原文 保存
該当なし  
2010/06/28 不服
2007 -11255 
半導体集積回路およびそのレイアウト方法 本件審判の請求は,成り立たない。   ルネサスエレクトロニクス株式会社   原文 保存
該当なし  

プライバシーポリシー   セキュリティーポリシー   運営会社概要   サービスに関しての問い合わせ