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現在の検索キーワード: 鈴木 聡一郎

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審決年月日 審判番号 発明・考案の名称 結論 代理人 請求人    
2021/10/22 不服
2020 -14977 
2次元材料構造体を含む半導体デバイス構造体を形成する方法 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。 大菅 義之 その他   マイクロン テクノロジー,インク.   原文 保存
該当なし  
2021/10/06 不服
2020 -14699 
膜の製造方法及びその製造装置並びに金属酸化物トランジスター及びその製造方法 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。   漢陽大学校産学協力団   原文 保存
該当なし  
2021/07/14 不服
2021 -1638 
ハードマスクのための金属誘電体膜の蒸着 原査定を取り消す。 本願の発明は,特許すべきものとする。   ラム リサーチ コーポレーション   原文 保存
該当なし  
2021/06/29 不服
2021 -642 
気相成長装置用部品の洗浄方法 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。 木戸 良彦   大陽日酸株式会社   原文 保存
該当なし  
2021/06/09 不服
2020 -15248 
半導体装置の製造方法、基板処理装置およびプログラム 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。 阿仁屋 節雄   株式会社KOKUSAI ELECTRIC   原文 保存
該当なし  
2021/05/17 不服
2020 -9028 
チエノアセンの単結晶性有機半導体膜 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。   パイクリスタル株式会社   原文 保存
該当なし  
2021/04/28 不服
2020 -8657 
半導体基板の製造方法、光電変換素子の製造方法および光電変換素子 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。 井上 知哉   シャープ株式会社   原文 保存
該当なし  
2021/04/21 不服
2020 -4635 
積層構造体およびその製造方法、半導体装置ならびに結晶膜 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。   株式会社FLOSFIA   原文 保存
該当なし  
2021/04/21 不服
2020 -8993 
半導体装置および半導体装置の製造方法 原査定を取り消す。 本願の発明は,特許すべきものとする。   富士電機株式会社   原文 保存
該当なし  
2021/03/30 不服
2020 -8590 
SiC層を備えた半導体装置 本件審判の請求は、成り立たない。   エア・ウォーター株式会社   原文 保存
該当なし  
2021/03/30 不服
2020 -3478 
構成独立型のガス供給システム 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。   ラム リサーチ コーポレーション   原文 保存
該当なし  
2021/02/17 不服
2019 -14445 
サセプタ 原査定を取り消す。 本願の発明は,特許すべきものとする。   株式会社FLOSFIA   原文 保存
該当なし  
2021/01/20 不服
2020 -7706 
リソグラフィオーバーレイ改善のための半導体アプリケーション用ゲートスタック材料 本件審判の請求は、成り立たない。   アプライド マテリアルズ インコーポレイテッド   原文 保存
該当なし  
2020/11/10 不服
2020 -3232 
プラズマ処理方法 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。   東京エレクトロン株式会社   原文 保存
該当なし  
2020/10/21 不服
2018 -16413 
エッチング液及びその使用方法 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。 三橋 真二 その他   バーサム マテリアルズ ユーエス,リミティド ライアビリティ カンパニー   原文 保存
該当なし  
2020/09/23 不服
2020 -1006 
低K及びその他の誘電体膜をエッチングするための処理チャンバ 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。   アプライド マテリアルズ インコーポレイテッド   原文 保存
該当なし  
2020/06/16 不服
2019 -9337 
半導体膜、及びそれを用いた半導体素子 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。 青木 宏義 その他   旭化成株式会社   原文 保存
該当なし  
2020/05/28 不服
2019 -2829 
窒化チタンを選択的にエッチングするための組成物及び方法 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。   インテグリス・インコーポレーテッド   原文 保存
該当なし  
2020/05/07 不服
2019 -8119 
エピタキシャルシリコンウェーハの製造方法及びエピタキシャルシリコンウェーハ 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。 川原 敬祐 その他   株式会社SUMCO   原文 保存
該当なし  
2020/04/24 不服
2018 -11669 
プラズマチャンバ部品用耐プラズマコーティング 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。   アプライド マテリアルズ インコーポレイテッド   原文 保存
該当なし  
2020/03/24 不服
2019 -3173 
半導体処理チャンバーのための銀リフレクタ 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。   アプライド マテリアルズ インコーポレイテッド   原文 保存
該当なし  
2019/09/17 不服
2018 -6126 
基板処理装置及び基板処理方法 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。 高橋 香元 その他   ピーエスケー インコーポレイテッド   原文 保存
該当なし  
2019/08/19 異議
2018 -700363 
支持部材及び基板処理装置 特許第6224366号の明細書,特許請求の範囲を訂正請求書に添付され…… 伊東 忠重 その他     原文 保存
該当なし  
2019/08/19 不服
2018 -6320 
改良されたデバイスインテグリティのためのフォトレジスト剥離プロセス 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。   ノベラス・システムズ・インコーポレーテッド   原文 保存
該当なし  
2019/07/29 不服
2018 -3544 
純還元性プラズマ中で高アスペクト比のフォトレジストを除去する方法 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。 二宮 浩康   マットソン テクノロジー インコーポレイテッド   原文 保存
該当なし  
2019/06/10 不服
2017 -18143 
自己配列されたパターニング集積化スキームにおけるパターン密度を増加させるための方法 本件審判の請求は,成り立たない。 伊東 忠彦 その他   東京エレクトロン株式会社   原文 保存
該当なし  
2019/06/07 不服
2018 -6339 
マイクロレンズを形成する方法 本件審判の請求は、成り立たない。 二宮 浩康   マットソン テクノロジー インコーポレイテッド   原文 保存
該当なし  
2019/05/08 不服
2017 -16883 
ロードロック構成内の除害・剥離処理チャンバ 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。   アプライド マテリアルズ インコーポレイテッド   原文 保存
該当なし  
2018/09/03 不服
2017 -15382 
MOCVD反応炉の面状ヒータ用加熱エレメント 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。 山口 巖   プランゼー エスエー ビーコ・インスツルメンツ・インコーポレーテッド   原文 保存
該当なし  
2018/07/17 不服
2017 -12385 
プラズマ加工方法及びこの方法を用いて製造された基板 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。 石野 明則   SPPテクノロジーズ株式会社   原文 保存
該当なし  

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