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現在の検索キーワード: 和瀬田 芳正

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審決年月日 審判番号 発明・考案の名称 結論 代理人 請求人    
2021/07/27 異議
2019 -700910 
光学ガラス、光学素子及びプリフォーム 特許第6513837号の特許請求の範囲を訂正請求書に添付された訂正……     原文 保存
該当なし  
2021/05/11 不服
2019 -15383 
低鉄、高レドックス比、及び高鉄、高レドックス比、ソーダ石灰シリカガラス並びにその製造方法 本件審判の請求は、成り立たない。   ビトロ フラット グラス エルエルシー   原文 保存
該当なし  
2021/01/19 不服
2019 -3295 
光学ガラス、プリフォーム及び光学素子 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。   株式会社オハラ   原文 保存
該当なし  
2020/11/24 不服
2019 -7140 
石英ガラス製品及び石英ガラス光学部材の形成方法 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。 上島 類 その他   ヘレーウス クオーツ ノース アメリカ エルエルシー   原文 保存
該当なし  
2020/10/13 不服
2019 -13895 
無アルカリガラス板 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。   日本電気硝子株式会社   原文 保存
該当なし  
2020/08/18 異議
2020 -700339 
光学ガラスおよび光学素子 特許第6606568号の請求項1?6に係る特許を維持する。     原文 保存
該当なし  
2015/12/15 不服
2014 -13131 
Alキルド鋼の連続鋳造方法 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。   新日鐵住金株式会社   原文 保存
該当なし  
2015/12/07 不服
2014 -16096 
エッチング方法、これに用いられるシリコンエッチング液、及び半導体基板製品の製造方法 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。 飯田 敏三   富士フイルム株式会社   原文 保存
該当なし  
2015/10/27 不服
2013 -19842 
金属・有機化学気相成長によって成長した非極性a平面窒化ガリウム薄膜 本件審判の請求は、成り立たない。 山本 秀策   ザ リージェンツ オブ ザ ユニバーシティ オブ カリフォルニア   原文 保存
該当なし  
2014/06/10 不服
2013 -19388 
等方性エッチングを用いた微細パターン形成方法 本件審判の請求は,成り立たない。   エルジー イノテック カンパニー リミテッド   原文 保存
該当なし  
2014/05/28 不服
2013 -4491 
回路装置 本件審判の請求は、成り立たない。   セミコンダクター・コンポーネンツ・インダストリーズ・リミテッド・ライアビリティ・カンパニー   原文 保存
該当なし  
2014/05/23 不服
2013 -19550 
垂直型ウェハ間相互接続を設けるための金属充填貫通ビア構造体 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。 太佐 種一   インターナショナル・ビジネス・マシーンズ・コーポレーション   原文 保存
該当なし  
2014/04/16 不服
2013 -15321 
熱伝導性複合シート及びその製造方法 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。 重松 沙織 その他   信越化学工業株式会社   原文 保存
該当なし  
2014/01/21 不服
2013 -1131 
半導体装置、および半導体装置の製造方法 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。   三菱電機株式会社   原文 保存
該当なし  
2013/09/30 不服
2012 -25498 
フォトレジスト及びエッチング残余物の低圧除去 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。 伊東 忠彦 その他   東京エレクトロン株式会社   原文 保存
該当なし  
2013/09/09 不服
2012 -22765 
非対称に配置されたダイとモールド体とを具備するスタックされたパッケージを備えるマルチパッケージモジュール。 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。   スタッツ チップパック リミテッド   原文 保存
該当なし  
2013/08/09 不服
2012 -24547 
集積回路素子 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。 鈴木 伸太郎 その他   ローム株式会社   原文 保存
該当なし  
2013/06/17 不服
2012 -20960 
真空処理装置及び真空処理方法並びに記憶媒体 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。   東京エレクトロン株式会社   原文 保存
該当なし  
2013/02/13 不服
2012 -12672 
プラズマエッチング方法、プラズマエッチング装置、制御プログラム及びコンピュータ記憶媒体 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。   東京エレクトロン株式会社   原文 保存
該当なし  
2013/01/07 不服
2012 -10315 
電子部品の圧縮成形方法及び金型 本件審判の請求は、成り立たない。   TOWA株式会社   原文 保存
該当なし  
2012/10/09 不服
2011 -13428 
緩衝層を含むウェハから層を取り除いた後のウェハの機械的リサイクル 本件審判の請求は、成り立たない。 赤岡 明 その他   ソワテク   原文 保存
該当なし  
2012/08/20 不服
2010 -15359 
複数の厚みを持つ埋め込み酸化膜上に形成される半導体装置およびその製造方法 本件審判の請求は、成り立たない。   アドバンスト・マイクロ・ディバイシズ・インコーポレイテッド   原文 保存
該当なし  
2012/08/20 不服
2010 -22417 
半導体層形成装置 本件審判の請求は、成り立たない。 特許業務法人原謙三国際特許事務所   シャープ株式会社 ナノシス・インク.   原文 保存
該当なし  
2012/07/03 不服
2010 -24299 
レーザ走査装置および熱処理方法 本件審判の請求は、成り立たない。 布施 行夫   ウルトラテック インク   原文 保存
該当なし  
2012/06/25 不服
2010 -21438 
半導体装置の製造方法 本件審判の請求は,成り立たない。 岩下 嗣也 その他   パナソニック株式会社   原文 保存
該当なし  
2012/06/13 不服
2010 -5237 
電気化学装置 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。 結田 純次   アクレオ アーベー   原文 保存
該当なし  
2012/04/17 不服
2009 -25151 
非酸素析出性のチョクラルスキーシリコンウエハを製造する方法 本件審判の請求は、成り立たない。 鮫島 睦 その他   エムイーエムシー・エレクトロニック・マテリアルズ・インコーポレイテッド   原文 保存
該当なし  
2012/03/30 不服
2009 -24287 
サセプタの駆動温度制御のための方法並びに装置 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。 勝村 紘 その他   東京エレクトロン株式会社   原文 保存
該当なし  
2012/03/08 不服
2011 -26718 
マイクロエレクトロニクス用基板の処理方法 本件審判の請求を却下する。 熊倉 禎男 その他   ソワテク   原文 保存
該当なし  
2012/02/20 不服
2010 -12737 
半導体装置の製造方法 本件審判の請求は、成り立たない。   富士通セミコンダクター株式会社   原文 保存
 新規事項の追加  

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