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現在の検索キーワード: 脇水 佳弘

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審決年月日 審判番号 発明・考案の名称 結論 代理人 請求人    
2020/11/24 不服
2019 -9490 
EFEM 本件審判の請求は、成り立たない。   シンフォニアテクノロジー株式会社   原文 保存
該当なし  
2020/11/18 不服
2019 -13067 
炭化珪素半導体装置 本件審判の請求は、成り立たない。   富士電機株式会社   原文 保存
該当なし  
2020/11/18 不服
2019 -14132 
階段ステップ構造を含む半導体デバイス構造を形成する方法 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。 大菅 義之 その他   マイクロン テクノロジー,インク.   原文 保存
該当なし  
2020/11/16 不服
2019 -5678 
ウェットエッチングプロセスを実行するためのシステムおよび方法 本件審判の請求は、成り立たない。 岩堀 明代 その他   ビーコ プリジション サーフェイス プロセシング エルエルシー   原文 保存
該当なし  
2020/10/28 不服
2019 -15246 
半導体装置の製造方法 本件審判の請求は、成り立たない。 高橋 英樹 その他   三菱電機株式会社   原文 保存
該当なし  
2020/10/20 不服
2020 -960 
電線 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。   株式会社三機コンシス   原文 保存
該当なし  
2020/10/20 不服
2020 -2821 
固体撮像装置 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。   ソニー株式会社   原文 保存
該当なし  
2020/10/19 不服
2019 -7681 
研磨用濡れ剤及び研磨液組成物 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。 特許業務法人快友国際特許事務所   株式会社フジミインコーポレーテッド 東亞合成株式会社   原文 保存
該当なし  
2020/10/19 不服
2019 -11955 
シード層上に成長層を施す方法 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。 二宮 浩康 その他   エーファウ・グループ・エー・タルナー・ゲーエムベーハー   原文 保存
該当なし  
2020/10/05 異議
2020 -700461 
半導体製造用部品、複合体コーティング層を含む半導体製造用部品及びその製造方法 特許第6630025号の請求項1ないし15に係る特許を維持する。 田中 伸次 その他     原文 保存
該当なし  
2020/09/23 不服
2020 -1006 
低K及びその他の誘電体膜をエッチングするための処理チャンバ 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。   アプライド マテリアルズ インコーポレイテッド   原文 保存
該当なし  
2020/09/14 不服
2019 -17034 
結晶性酸化物半導体膜、半導体装置 本件審判の請求は、成り立たない。   株式会社FLOSFIA   原文 保存
該当なし  
2020/08/03 不服
2019 -8671 
半導体装置および電力変換装置 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。 吉竹 英俊   三菱電機株式会社   原文 保存
該当なし  
2020/06/17 不服
2019 -12831 
光電変換装置、撮像システムおよび光電変換装置の製造方法 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。 黒岩 創吾   キヤノン株式会社   原文 保存
該当なし  
2020/06/08 不服
2019 -11053 
SNS型ジョセフソン接合素子の製造方法及びSNS型ジョセフソン接合素子製造装置 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。 阿部 寛 その他   住友重機械工業株式会社   原文 保存
該当なし  
2020/06/03 不服
2019 -9024 
技術スケーリングのためのMRAM統合技法 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。 黒田 晋平   クアルコム,インコーポレイテッド   原文 保存
該当なし  
2020/05/20 不服
2019 -9664 
半導体装置 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。   富士電機株式会社   原文 保存
該当なし  

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