審決検索結果一覧を表示しています。

現在の検索キーワード: 五十嵐 光永

72 件のヒット

  • ポートフォリオ機能
  • 絞り込み検索機能

チェックした審決を…
  ポートフォリオ名を入力して新規に保存 → 

 既存のポートフォリオを選択して保存 → 
絞り込み検索ワード: or or  → 
審決年月日 審判番号 発明・考案の名称 結論 代理人 請求人    
2013/06/26 不服
2012 -9927 
液体貯留タンク 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。 鈴木 三義 その他   東京応化工業株式会社   原文 保存
該当なし  
2013/05/28 不服
2012 -3397 
高分子化合物、該高分子化合物を含有するフォトレジスト組成物、およびレジストパターン形成方法 本件審判の請求は、成り立たない。 鈴木 三義 その他   東京応化工業株式会社   原文 保存
該当なし  
2013/03/19 不服
2011 -25715 
圧力センサモジュール 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。 小室 敏雄 その他   株式会社フジクラ   原文 保存
該当なし  
2013/03/18 不服
2012 -2936 
透明アンテナ 本件審判の請求は、成り立たない。 棚井 澄雄 その他   国立大学法人 千葉大学 株式会社フジクラ   原文 保存
該当なし  
2013/02/19 不服
2011 -22637 
反射防止フィルム 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。 高橋 詔男 その他   リンテック株式会社   原文 保存
該当なし  
2012/12/25 不服
2012 -2523 
IGBT用のシリコンウェーハ及びその製造方法 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。 寺本 光生 その他   株式会社SUMCO   原文 保存
該当なし  
2012/11/05 不服
2012 -4680 
塗布装置、基板の受け渡し方法及び塗布方法 本件審判の請求は、成り立たない。 五十嵐 光永 その他   東京応化工業株式会社   原文 保存
該当なし  
2012/10/11 不服
2010 -24475 
シリコン基板又は金属配線パターンが設けられたシリコン基板被覆用シリカ系被膜形成用材料の製造方法 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。 棚井 澄雄 その他   東京応化工業株式会社   原文 保存
該当なし  
2012/09/06 不服
2011 -18819 
高演色性発光ダイオードランプユニット 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。 志賀 正武 その他   株式会社フジクラ   原文 保存
該当なし  
2012/08/13 不服
2011 -21579 
貫通電極付き半導体デバイスの製造方法 本件審判の請求は、成り立たない。 清水 雄一郎 その他   株式会社フジクラ オリンパス株式会社   原文 保存
該当なし  
2010/01/22 不服
2008 -27721 
ポジ型レジスト組成物及びレジストパターン形成方法 本件審判の請求は、成り立たない。 志賀 正武 その他   東京応化工業株式会社   原文 保存
該当なし  
2009/05/27 無効
2008 -800094 
記録液用アニオン性マイクロカプセル化顔料含有水性分散液及び記録液 訂正を認める。 特許第3829370号の請求項1及び2に係る発明につい…… 河野 通洋 その他   塚本 正   原文 保存
 審理範囲  新規事項の追加  

プライバシーポリシー   セキュリティーポリシー   運営会社概要   サービスに関しての問い合わせ