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現在の検索キーワード： 山田 行一

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審決年月日 審判番号 発明・考案の名称 結論 代理人 請求人    
2001/08/13 異議
2000 -71877  		高温、腐食性、プラズマ環境下でのクリーニングプロセスのための方法及び装置 特許第2971847号の請求項1乃至12、14乃至25に係る特許を維持する。 沖本 一暁 その他     原文 保存
 29条の2(拡大された先願の地位) 　
2001/08/07 異議
1998 -73932  		基板温度測定のための方法及び装置 訂正を認める。 特許第2711239号の請求項1ないし6に係る特許を維…… 峯岸 武司 その他     原文 保存
 新規事項の追加 　
2001/05/28 異議
2000 -72543  		真空ポンプ 訂正を認める。 特許第2996223号の請求項1ないし6に係る特許を取…… 山田 行一 その他     原文 保存
 新規事項の追加 　
2001/05/28 異議
2000 -72098  		真空ポンプ 訂正を認める。 特許第2981512号の請求項1ないし8に係る特許を取…… 岩橋 文雄 その他     原文 保存
 新規事項の追加 　
2001/05/07 異議
2001 -70118  		半導体デバイスにおけるテーパー付き誘電層のエッチングによる形成 特許第3064241号の請求項1ないし15に係る特許を維持する。 山田 行一     原文 保存
該当なし 　
2001/03/13 審判
1998 -35205  		目の角膜の曲率を修正するための外科的装置 本件審判の請求は、成り立たない。 審判費用は、請求人の負担…… 社本 一夫 その他   株式会社ニデック   原文 保存
該当なし 　
2001/01/24 異議
1998 -76029  		大面積ガラス基板の冷却および加熱方法とそのための装置 訂正を認める。 特許第2766774号の請求項1ないし22に係る特許を維…… 山田 行一 その他     原文 保存
 新規性  進歩性(29条2項) 　
2001/01/19 審判
1999 -2699  		堆積プロセスにおけるSiH4ソーク及びパージの利用 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。 山田 行一 その他   アプライド マテリアルズ インコーポレイテッド   原文 保存
該当なし 　
2000/12/06 審判
1996 -19587  		冗長回路 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。 寺崎 史朗 その他   現代電子産業株式会社   原文 保存
該当なし 　
2000/08/30 異議
1999 -73707  		光スイッチ 訂正を認める。 特許第2895515号の請求項1及び請求項2に係る発明…… 寺崎 史朗 その他     原文 保存
 新規事項の追加 　
2000/08/07 審判
1998 -8640  		エッチング副産物に対するモニタリング方法及びその装置 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。 塩田 辰也 その他   現代電子産業株式会社   原文 保存
該当なし 　
2000/07/19 異議
1998 -75792  		ドライシェービング装置 訂正を認める。 特許第2758880号の請求項1ないし17に係る特許を維…… 山田 行一 その他     原文 保存
 新規事項の追加  パリ条約 　
2000/06/20 異議
1997 -75576  		ドライシェービング装置 訂正を認める。 特許第2613759号の請求項1ないし11に係る特許を維…… 寺崎 史朗 その他     原文 保存
 分割出願(出願分割) 　
2000/06/13 審判
1998 -18678  		電極構造 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。 寺崎 史朗 その他   住友電気工業株式会社   原文 保存
該当なし 　
2000/06/06 審判
1997 -12982  		半導体装置の薄膜形成方法 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。 山田 行一 その他   アプライド マテリアルズ インコーポレイテッド   原文 保存
該当なし 　
2000/05/24 審判
1998 -10457  		撮像装置 本件審判の請求は、成り立たない。 寺崎 史朗 その他   住友電気工業株式会社   原文 保存
該当なし 　
2000/04/27 審判
1998 -2274  		表面感受性を低減したオゾン/TEOS酸化シリコン膜の堆積方法 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。 長谷川 芳樹 その他   アプライド マテリアルズ インコーポレイテッド   原文 保存
該当なし 　
2000/04/17 審判
1997 -9887  		薄膜形成方法 原査定を取り消す。 本願の請求項1〜5に係る発明は、特許すべき…… 寺崎 史朗 その他   アプライド マテリアルズ インコーポレイテッド   原文 保存
該当なし 　
2000/04/11 審判
1998 -1060  		ハーフトーン型位相シフトマスクの製造方法 本件審判の請求は、成り立たない。 山田 行一 その他   現代電子産業株式会社   原文 保存
該当なし 　
2000/03/30 審判
1997 -2687  		薄膜製造方法 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。 塩田 辰也 その他   アプライド マテリアルズ インコーポレイテッド   原文 保存
該当なし 　
2000/03/23 異議
1999 -73659  		CVDにより大面積のガラス基板上に高堆積速度でシリコン窒化薄膜を堆積する方法 特許第2875945号の請求項1ないし5に係る発明の特許を維持する。 寺崎 史朗 その他     原文 保存
該当なし 　
2000/02/15 異議
1998 -72310  		強誘電性メモリ及びメモリセルにデータを再生する方法 特許第2674775号の請求項1ないし16に係る特許を維持する。 近藤 伊知良 その他     原文 保存
該当なし 　
1999/12/20 審判
1998 -11866  		全反射螢光X線分折装置 本件審判の請求は、成り立たない。 山田 行一 その他   株式会社テクノス 住友電気工業株式会社   原文 保存
該当なし 　
1999/12/08 審判
1997 -17631  		葉書印字装置 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許をすべきものとする。 長谷川 芳樹 その他   チノン株式会社 コクヨ株式会社   原文 保存
該当なし 　
1999/12/03 審判
1998 -388  		プラズマ反応装置及び薄膜形成方法 本件審判の請求は、成り立たない。 山田 行一 その他   アプライド マテリアルズ インコーポレイテッド   原文 保存
該当なし 　
1999/11/15 審判
1998 -3954  		薄膜形成方法 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許をすべきものとする。 吉井 一男 その他   アプライド マテリアルズ インコーポレイテッド   原文 保存
該当なし 　
1999/11/15 審判
1997 -6675  		反応室洗浄方法、サセプタ装置及び気相成長装置 本件審判の請求は、成り立たない。 長谷川 芳樹 その他   アプライド マテリアルズ インコーポレイテッド   原文 保存
該当なし 　
1999/11/01 審判
1998 -9914  		受光素子 本件審判の請求は、成り立たない。 寺崎 史朗 その他   浜松ホトニクス株式会社   原文 保存
該当なし 　
1999/10/14 異議
1998 -74409  		光ファイバ 特許第2724828号の特許を取り消す。 柴田 昌聰 その他     原文 保存
 新規事項の追加 　
1999/09/09 審判
1998 -2268  		集積回路構造の選択性の高い酸化物エッチングプロセス 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許をすべきものとする。 塩田 辰也 その他   アプライド マテリアルズ インコーポレイテッド   原文 保存
該当なし 　

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