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現在の検索キーワード： 小越 勇

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審決年月日 審判番号 発明・考案の名称 結論 代理人 請求人    
2015/08/28 不服
2014 -16114  		酸化物焼結体、その製造方法及び酸化物焼結体製造用原料粉末 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。   JX日鉱日石金属株式会社   原文 保存
該当なし 　
2015/06/30 不服
2014 -3703  		高純度ジルコニウム若しくはハフニウム粉の製造方法 本件審判の請求は、成り立たない。   JX日鉱日石金属株式会社   原文 保存
該当なし 　
2015/05/07 不服
2014 -3441  		透明導電膜を形成するためのスパッタリングターゲット及びその製造方法 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。   JX日鉱日石金属株式会社   原文 保存
該当なし 　
2015/04/08 不服
2014 -5732  		α線量が少ないインジウム又はインジウムを含有する合金 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。   JX日鉱日石金属株式会社   原文 保存
該当なし 　
2015/02/04 不服
2014 -5172  		半導体ウエハ 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。   JX日鉱日石金属株式会社   原文 保存
該当なし 　
2014/11/18 不服
2013 -18335  		リチウムイオン電池用正極活物質、二次電池用正極及びリチウムイオン電池 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。   JX日鉱日石金属株式会社   原文 保存
該当なし 　
2014/11/07 不服
2014 -1311  		高純度バナジウム、高純度バナジウムターゲット及び高純度バナジウムス薄膜 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。   JX日鉱日石金属株式会社   原文 保存
該当なし 　
2014/07/17 不服
2013 -11521  		多層積層体の製造方法 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。 小越 勇   JX日鉱日石金属株式会社   原文 保存
該当なし 　
2014/06/09 不服
2013 -7321  		タンタルスパッタリングターゲット 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。   JX日鉱日石金属株式会社   原文 保存
該当なし 　
2014/05/19 不服
2013 -14284  		高純度酸化亜鉛粉末、高純度酸化亜鉛ターゲット及び高純度酸化亜鉛薄膜 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。   JX日鉱日石金属株式会社   原文 保存
該当なし 　
2014/01/09 不服
2013 -11224  		タンタルスパッタリングターゲット及びその製造方法 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。   JX日鉱日石金属株式会社   原文 保存
該当なし 　
2013/10/21 訂正
2013 -390124  		強磁性材スパッタリングターゲット 特許第4673453号に係る明細書及び特許請求の範囲を本件審判請求…… 小越 勇   JX日鉱日石金属 株式会社   原文 保存
該当なし 　
2013/07/02 不服
2012 -16691  		ジルコニウムるつぼ 本件審判の請求は、成り立たない。   JX日鉱日石金属株式会社   原文 保存
該当なし 　
2013/03/26 不服
2012 -8121  		半導体装置及びその作製方法並びに重水素処理装置 本件審判の請求は,成り立たない。   独立行政法人産業技術総合研究所   原文 保存
該当なし 　
2013/03/14 不服
2012 -5978  		リチウム含有遷移金属酸化物ターゲット及びその製造方法並びにリチウムイオン薄膜二次電池 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。   JX日鉱日石金属株式会社   原文 保存
該当なし 　
2013/02/27 不服
2012 -11411  		タンタル-ルテニウム合金スパッタリングターゲット 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。   JX日鉱日石金属株式会社   原文 保存
該当なし 　
2013/02/04 不服
2012 -841  		電界効果型トランジスタ及びその製造方法 本件審判の請求は、成り立たない。   独立行政法人産業技術総合研究所   原文 保存
該当なし 　
2012/12/03 不服
2010 -14874  		水酸化インジウム又はインジウムの回収方法 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。   JX日鉱日石金属株式会社   原文 保存
該当なし 　
2012/09/28 不服
2011 -19996  		スパッタリングターゲット 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。   JX日鉱日石金属株式会社   原文 保存
該当なし 　
2012/08/01 不服
2011 -23229  		透明電極膜及び同電極膜を形成するためのスパッタリングターゲット 本件審判の請求は、成り立たない。   JX日鉱日石金属株式会社   原文 保存
該当なし 　
2012/05/17 不服
2010 -10517  		スパッタリングターゲット用ZnS粉末及びスパッタリングターゲット 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。   JX日鉱日石金属株式会社   原文 保存
該当なし 　
2012/05/14 不服
2011 -6271  		高純度ハフニウム粉の製造方法 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。   JX日鉱日石金属株式会社   原文 保存
該当なし 　
2012/05/14 不服
2011 -6270  		高純度ジルコニウム粉の製造方法 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。   JX日鉱日石金属株式会社   原文 保存
該当なし 　
2012/03/27 不服
2011 -2741  		プリント配線板用銅箔 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。   JX日鉱日石金属株式会社   原文 保存
該当なし 　
2012/02/29 不服
2010 -29176  		分析試料の融解用ジルコニウムるつぼ、分析試料の作製方法及び分析方法 原査定を取り消す。 本願の発明は,特許すべきものとする。   JX日鉱日石金属株式会社   原文 保存
該当なし 　
2012/01/04 不服
2010 -29155  		分析試料の融解用ニッケルるつぼ、分析試料の作製方法及び分析方法 原査定を取り消す。 本願の発明は,特許すべきものとする。   JX日鉱日石金属株式会社   原文 保存
該当なし 　
2011/11/25 不服
2010 -4437  		高純度マンガンを得る製造方法 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。   JX日鉱日石金属株式会社   原文 保存
該当なし 　
2011/11/08 不服
2010 -4941  		タンタルスパッタリングターゲットの製造方法 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。   JX日鉱日石金属株式会社   原文 保存
該当なし 　
2011/10/14 不服
2010 -9320  		銅微粉の製造方法 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。   JX日鉱日石金属株式会社   原文 保存
該当なし 　
2011/09/02 不服
2010 -42  		高純度ニッケル、高純度ニッケルターゲット及び高純度ニッケル薄膜 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。   JX日鉱日石金属株式会社   原文 保存
該当なし 　

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