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現在の検索キーワード: 小越 勇

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審決年月日 審判番号 発明・考案の名称 結論 代理人 請求人    
2011/08/25 不服
2009 -25620 
高純度バナジウムスパッタリングターゲットの製造方法 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。   JX日鉱日石金属株式会社   原文 保存
該当なし  
2011/08/18 不服
2008 -23173 
紫外線発光体用酸化亜鉛ナノ微粒子の製造方法 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。   独立行政法人産業技術総合研究所   原文 保存
該当なし  
2011/08/15 不服
2010 -2143 
表面欠陥の少ないスパッタリングターゲット及びその表面加工方法 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。   JX日鉱日石金属株式会社   原文 保存
該当なし  
2011/08/02 不服
2009 -12756 
スパッタリングターゲット及び光記録媒体 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。   JX日鉱日石金属株式会社   原文 保存
該当なし  
2011/07/19 不服
2009 -5259 
スパッタリングターゲット焼結用粉末 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。   JX日鉱日石金属株式会社   原文 保存
該当なし  
2011/06/24 不服
2009 -6777 
スパッタリングターゲットの製造方法 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。   JX日鉱日石金属株式会社   原文 保存
該当なし  
2011/04/15 不服
2008 -19099 
微小なドットを備えた基板 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。   独立行政法人産業技術総合研究所   原文 保存
該当なし  
2011/02/21 不服
2007 -28844 
スパッタリングターゲット 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。   JX日鉱日石金属株式会社   原文 保存
該当なし  
2010/12/13 不服
2008 -31209 
高純度クロム、高純度クロムからなるスパッタリングターゲット及びスパッタリングにより形成した高純度クロムからなる薄膜 本件審判の請求は、成り立たない。   JX日鉱日石金属株式会社   原文 保存
該当なし  
2010/12/07 不服
2008 -31188 
ダイヤモンド単結晶薄膜の製造方法 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。   独立行政法人産業技術総合研究所   原文 保存
該当なし  
2010/11/25 不服
2008 -22502 
焼結方法及び装置 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。   独立行政法人産業技術総合研究所   原文 保存
該当なし  
2010/11/15 不服
2008 -8714 
深鍋状銅製スパッタリングターゲット 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。   JX日鉱日石金属株式会社   原文 保存
該当なし  
2010/11/02 不服
2008 -9409 
光記録媒体保護膜形成用スパッタリングターゲット及び該ターゲットの製造方法 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。   JX日鉱日石金属株式会社   原文 保存
該当なし  
2010/09/07 不服
2008 -27469 
耐ペスト性に優れたMoSi2を主成分とするヒーター 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。   JX日鉱日石金属株式会社   原文 保存
該当なし  
2010/08/23 不服
2007 -26906 
チタンシリサイドタ-ゲット 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。   JX日鉱日石金属株式会社   原文 保存
該当なし  
2010/08/23 不服
2007 -30715 
ゲート酸化膜形成用ハフニウムシリサイドターゲット 原査定を取り消す。 本願の発明は,特許すべきものとする。   JX日鉱日石金属株式会社   原文 保存
該当なし  
2010/07/21 不服
2008 -24502 
プラズマディスプレーパネル用銅箔及びその製造方法 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。   日鉱金属株式会社   原文 保存
該当なし  
2010/07/05 不服
2008 -3126 
MoSi2製帯状発熱体の製造方法 本件審判の請求は、成り立たない。   日鉱金属株式会社   原文 保存
該当なし  
2010/06/16 不服
2007 -22517 
スパッタリング用タングステン焼結体ターゲットの製造方法 本件審判の請求は、成り立たない。   日鉱金属株式会社   原文 保存
該当なし  
2010/06/03 不服
2008 -19492 
導電性酸化物焼結体、同焼結体からなるスパッタリングターゲット及びこれらの製造方法 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。   日鉱金属株式会社   原文 保存
該当なし  
2010/06/02 不服
2008 -11385 
MoSi2を主成分とする発熱体 本件審判の請求は、成り立たない。   日鉱金属株式会社   原文 保存
該当なし  
2010/03/19 不服
2007 -14017 
耐脆化性に優れたゲート酸化膜形成用シリサイドターゲット 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。   日鉱金属株式会社   原文 保存
該当なし  
2009/12/25 不服
2007 -11141 
半導体ウエハーおよびその製造方法 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。   日鉱金属株式会社   原文 保存
該当なし  
2009/11/24 不服
2006 -17858 
相変化型メモリー用スパッタリングターゲット及び同ターゲットの製造方法 本件審判の請求は、成り立たない。   日鉱金属株式会社   原文 保存
該当なし  
2009/11/04 不服
2007 -34060 
冷温間鍛造加工性及び切削加工性に優れたオーステナイト系ステンレス鋼 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。 小越 勇   株式会社デンソー 東北特殊鋼株式会社   原文 保存
該当なし  
2009/10/15 不服
2006 -12184 
スパッタリングターゲットの製造方法 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。   日鉱金属株式会社   原文 保存
該当なし  
2009/07/13 不服
2006 -25718 
相変化型光ディスク保護膜形成用スパッタリングターゲット及び該ターゲットを使用して相変化型光ディスク保護膜を形成した光記録媒体 本件審判の請求は、成り立たない。   日鉱金属株式会社   原文 保存
該当なし  
2009/06/30 不服
2006 -18957 
強磁性体タ-ゲット用バッキングプレ-トおよび強磁性体タ-ゲット/バッキングプレ-ト組立体 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。   日鉱金属株式会社   原文 保存
該当なし  
2009/03/16 不服
2006 -10576 
薄膜形成装置用部材及びその製造方法 本件審判の請求は、成り立たない。   日鉱金属株式会社   原文 保存
該当なし  
2009/01/15 不服
2007 -10176 
プリント基板用銅箔及びプリント基板 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。   日鉱金属株式会社   原文 保存
該当なし  

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