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小越 勇
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審決年月日
審判番号
発明・考案の名称
結論
代理人
請求人
2011/08/25
不服
2009 -25620
高純度バナジウムスパッタリングターゲットの製造方法
原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。
JX日鉱日石金属株式会社
原文
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該当なし
2011/08/18
不服
2008 -23173
紫外線発光体用酸化亜鉛ナノ微粒子の製造方法
原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。
独立行政法人産業技術総合研究所
原文
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該当なし
2011/08/15
不服
2010 -2143
表面欠陥の少ないスパッタリングターゲット及びその表面加工方法
原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。
JX日鉱日石金属株式会社
原文
保存
該当なし
2011/08/02
不服
2009 -12756
スパッタリングターゲット及び光記録媒体
原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。
JX日鉱日石金属株式会社
原文
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該当なし
2011/07/19
不服
2009 -5259
スパッタリングターゲット焼結用粉末
原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。
JX日鉱日石金属株式会社
原文
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該当なし
2011/06/24
不服
2009 -6777
スパッタリングターゲットの製造方法
原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。
JX日鉱日石金属株式会社
原文
保存
該当なし
2011/04/15
不服
2008 -19099
微小なドットを備えた基板
原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。
独立行政法人産業技術総合研究所
原文
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該当なし
2011/02/21
不服
2007 -28844
スパッタリングターゲット
原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。
JX日鉱日石金属株式会社
原文
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該当なし
2010/12/13
不服
2008 -31209
高純度クロム、高純度クロムからなるスパッタリングターゲット及びスパッタリングにより形成した高純度クロムからなる薄膜
本件審判の請求は、成り立たない。
JX日鉱日石金属株式会社
原文
保存
該当なし
2010/12/07
不服
2008 -31188
ダイヤモンド単結晶薄膜の製造方法
原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。
独立行政法人産業技術総合研究所
原文
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該当なし
2010/11/25
不服
2008 -22502
焼結方法及び装置
原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。
独立行政法人産業技術総合研究所
原文
保存
該当なし
2010/11/15
不服
2008 -8714
深鍋状銅製スパッタリングターゲット
原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。
JX日鉱日石金属株式会社
原文
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該当なし
2010/11/02
不服
2008 -9409
光記録媒体保護膜形成用スパッタリングターゲット及び該ターゲットの製造方法
原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。
JX日鉱日石金属株式会社
原文
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該当なし
2010/09/07
不服
2008 -27469
耐ペスト性に優れたMoSi2を主成分とするヒーター
原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。
JX日鉱日石金属株式会社
原文
保存
該当なし
2010/08/23
不服
2007 -26906
チタンシリサイドタ-ゲット
原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。
JX日鉱日石金属株式会社
原文
保存
該当なし
2010/08/23
不服
2007 -30715
ゲート酸化膜形成用ハフニウムシリサイドターゲット
原査定を取り消す。 本願の発明は,特許すべきものとする。
JX日鉱日石金属株式会社
原文
保存
該当なし
2010/07/21
不服
2008 -24502
プラズマディスプレーパネル用銅箔及びその製造方法
原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。
日鉱金属株式会社
原文
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該当なし
2010/07/05
不服
2008 -3126
MoSi2製帯状発熱体の製造方法
本件審判の請求は、成り立たない。
日鉱金属株式会社
原文
保存
該当なし
2010/06/16
不服
2007 -22517
スパッタリング用タングステン焼結体ターゲットの製造方法
本件審判の請求は、成り立たない。
日鉱金属株式会社
原文
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該当なし
2010/06/03
不服
2008 -19492
導電性酸化物焼結体、同焼結体からなるスパッタリングターゲット及びこれらの製造方法
原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。
日鉱金属株式会社
原文
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該当なし
2010/06/02
不服
2008 -11385
MoSi2を主成分とする発熱体
本件審判の請求は、成り立たない。
日鉱金属株式会社
原文
保存
該当なし
2010/03/19
不服
2007 -14017
耐脆化性に優れたゲート酸化膜形成用シリサイドターゲット
原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。
日鉱金属株式会社
原文
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該当なし
2009/12/25
不服
2007 -11141
半導体ウエハーおよびその製造方法
原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。
日鉱金属株式会社
原文
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該当なし
2009/11/24
不服
2006 -17858
相変化型メモリー用スパッタリングターゲット及び同ターゲットの製造方法
本件審判の請求は、成り立たない。
日鉱金属株式会社
原文
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該当なし
2009/11/04
不服
2007 -34060
冷温間鍛造加工性及び切削加工性に優れたオーステナイト系ステンレス鋼
原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。
小越 勇
株式会社デンソー 東北特殊鋼株式会社
原文
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該当なし
2009/10/15
不服
2006 -12184
スパッタリングターゲットの製造方法
原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。
日鉱金属株式会社
原文
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該当なし
2009/07/13
不服
2006 -25718
相変化型光ディスク保護膜形成用スパッタリングターゲット及び該ターゲットを使用して相変化型光ディスク保護膜を形成した光記録媒体
本件審判の請求は、成り立たない。
日鉱金属株式会社
原文
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該当なし
2009/06/30
不服
2006 -18957
強磁性体タ-ゲット用バッキングプレ-トおよび強磁性体タ-ゲット/バッキングプレ-ト組立体
原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。
日鉱金属株式会社
原文
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該当なし
2009/03/16
不服
2006 -10576
薄膜形成装置用部材及びその製造方法
本件審判の請求は、成り立たない。
日鉱金属株式会社
原文
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該当なし
2009/01/15
不服
2007 -10176
プリント基板用銅箔及びプリント基板
原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。
日鉱金属株式会社
原文
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該当なし
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