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現在の検索キーワード: 吉田 正二

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審決年月日 審判番号 発明・考案の名称 結論 代理人 請求人    
2004/04/06 不服
2003 -3207 
回転式基板処理装置 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。 吉田 正二   住友精密工業株式会社   原文 保存
該当なし  
2004/03/23 不服
2001 -11498 
塗装方法 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。 柳舘 隆彦   住友金属工業株式会社   原文 保存
該当なし  
2004/01/14 異議
2002 -72645 
オゾン発生装置用放電セル及びその放電セルを使用したオゾン発生装置 訂正を認める。 特許第3278663号の訂正後の請求項1〜7に係る特許…… 生形 元重 その他     原文 保存
 新規事項の追加  相違点の判断  
2004/01/14 異議
2002 -72644 
オゾン発生装置用放電セル 訂正を認める。 特許第3278662号の訂正後の請求項1〜17に係る特許…… 吉田 正二 その他     原文 保存
 新規事項の追加  相違点の判断  
2003/09/11 不服
2003 -4555 
組立式カゴ枠 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。 吉田 正二   住友金属建材株式会社   原文 保存
該当なし  
2003/07/23 異議
2002 -72534 
Mg電解製造方法及び装置 特許第3275257号の請求項1ないし2に係る特許を取り消す。 生形 元重 その他     原文 保存
該当なし  
2003/05/22 異議
2002 -71396 
溶融塩浴の浴温・浴面レベル制御装置 特許第3234979号の請求項1ないし5に係る特許を維持する。 吉田 正二 その他     原文 保存
該当なし  
2002/12/25 異議
2002 -72575 
床目地装置 特許第3276066号の請求項1ないし3に係る特許を維持する。 生形 元重     原文 保存
該当なし  
2002/12/20 異議
2002 -71055 
シリコンウエーハの製造方法 訂正を認める。 特許第3223873号の請求項1に係る特許を維持する。 吉田 正二 その他     原文 保存
該当なし  
2002/11/07 異議
2001 -72027 
鋼の連続鋳造用モールドパウダー 訂正を認める。 特許第3128496号の請求項1ないし5に係る特許を維…… 池谷 豊 その他     原文 保存
該当なし  
2001/09/25 異議
2000 -74550 
シリコン単結晶ウェーハ及びその製造方法 特許第3055457号の請求項1、2に係る特許を取り消す。 吉田 正二 その他     原文 保存
該当なし  
2000/12/22 異議
2000 -72249 
スパッタリング用チタンターゲットおよびその製造方法 特許第2984783号の請求項1ないし7に係る特許を取り消す。 生形 元重 その他     原文 保存
該当なし  
2000/04/20 異議
1999 -72571 
ウェハ表面の不純物量の測定方法 訂正を認める。 特許第2843600号の特許を維持する。 鈴江 武彦 その他     原文 保存
 進歩性(29条2項)  29条の2(拡大された先願の地位)  29条1項3号  
2000/04/10 異議
1998 -75737 
半導体ウェーハの製造方法 特許第2758093号の特許を維持する。 生形 元重     原文 保存
該当なし  
2000/01/26 異議
1998 -72581 
単結晶製造方法 訂正を認める。 特許第2681114号の特許請求の範囲第1項ないし第2…… 生形 元重 その他     原文 保存
該当なし  
1999/11/10 異議
1999 -70688 
シリコン単結晶中の置換型炭素濃度の測定方法および自動測定装置 訂正を認める。 特許第2790020号の請求項1ないし2に係る特許を維…… 吉田 正二     原文 保存
 29条1項3号  
1999/10/28 異議
1999 -71704 
金属製造用電解槽およびその操業方法 特許第2819413号の請求項1ないし3に係る特許を維持する。 吉田 正二     原文 保存
該当なし  

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