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現在の検索キーワード: 好宮 幹夫

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審決年月日 審判番号 発明・考案の名称 結論 代理人 請求人    
2004/10/14 不服
2002 -14402 
半導体ウエーハの製造方法 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。   信越半導体株式会社   原文 保存
該当なし  
2004/10/14 不服
2003 -3017 
遊離砥粒によるウエーハの面取装置及び面取方法 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。   信越半導体株式会社   原文 保存
該当なし  
2004/10/04 不服
2002 -1922 
SOI基板の製造方法 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。   信越半導体株式会社   原文 保存
該当なし  
2004/09/27 不服
2004 -4930 
引上げ結晶重量測定装置 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。   信越半導体株式会社   原文 保存
該当なし  
2004/07/20 不服
2002 -11656 
両面研磨機およびこれを用いて被加工物の両面を研磨する方法 本件審判の請求は、成り立たない。   信越半導体株式会社   原文 保存
該当なし  
2004/06/14 不服
2001 -16163 
熱硬化性感光材料 本件審判の請求は、成り立たない。   信越化学工業株式会社   原文 保存
該当なし  
2004/05/25 不服
2002 -12742 
SOI基板の製造方法 本件審判の請求は、成り立たない。 好宮 幹夫   日本電信電話株式会社 信越半導体株式会社   原文 保存
該当なし  
2004/04/27 不服
2001 -13480 
密閉型洗浄装置およびこの装置を用いて精密基板を洗浄する方法 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。 好宮 幹夫   株式会社プレテック ユーシーティー株式会社   原文 保存
該当なし  
2003/04/23 不服
2001 -10832 
半導体ウエーハの加工方法および半導体ウエーハ 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。 好宮 幹夫   信越半導体株式会社 長野電子工業株式会社   原文 保存
該当なし  
2003/04/01 異議
2002 -71902 
標準プラグを受入れるための統合レセプタクルを備えた着脱可能I/Oデバイス 特許第3253918号の請求項1ないし24に係る特許を取り消す。     原文 保存
該当なし  
2003/03/12 異議
2001 -70724 
シリコン単結晶ウェーハ製造方法 訂正を認める。 特許第3085146号の請求項1に係る特許を維持する。 好宮 幹夫     原文 保存
 新規事項の追加  
2003/02/25 不服
2000 -8923 
光ファイバ母材の加工装置及び加工方法 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。   信越化学工業株式会社   原文 保存
該当なし  
2003/02/25 異議
2002 -71403 
単結晶引き上げ用シリコン種結晶及び該シリコン種結晶を用いた単結晶引き上げ方法 特許第3235450号の請求項1及び2に係る発明の特許を維持する。 好宮 幹夫     原文 保存
該当なし  
2003/01/27 不服
2000 -20053 
シリコンウエーハおよびその製造方法 本件審判の請求は、成り立たない。   信越半導体株式会社   原文 保存
該当なし  
2002/12/24 不服
2000 -16062 
シリカ粉及びその処理方法並びに振動ボールミル 本件審判の請求は、成り立たない。   信越化学工業株式会社   原文 保存
該当なし  
2002/12/19 不服
2000 -8920 
光ファィバ母材の製造方法および光ファィバ母材を製造する装置 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。   信越化学工業株式会社   原文 保存
該当なし  
2002/12/10 不服
2000 -6669 
ガラス母材の延伸方法および延伸装置 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。   信越化学工業株式会社   原文 保存
該当なし  
2002/11/15 不服
2001 -7256 
ガラス加工用火炎バーナおよびガラス旋盤並びにガラス加工方法 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。   信越化学工業株式会社   原文 保存
該当なし  
2002/11/06 異議
2002 -70260 
ワイヤーソー及び円柱形ワークを切断する方法 訂正を認める。 特許第3202590号の請求項1ないし9に係る特許を維…… 好宮 幹夫 その他     原文 保存
 新規事項の追加  
2002/10/16 不服
2000 -11157 
光ファイバプリフォームの製造方法及び製造装置 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。   信越化学工業株式会社   原文 保存
該当なし  
2002/08/15 異議
2001 -71813 
酸化物単結晶の製造方法 訂正を認める。 特許第3121192号の請求項に係る特許を維持する。 好宮 幹夫     原文 保存
 新規事項の追加  
2002/08/13 不服
2000 -11156 
光ファィバ母材の延伸装置及び延伸方法 本件審判の請求は、成り立たない。   信越化学工業株式会社   原文 保存
該当なし  
2002/07/17 不服
2000 -8924 
光ファイバコア部材と光ファイバ母材およびそれらの製造方法 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。   信越化学工業株式会社   原文 保存
該当なし  
2002/05/16 異議
2000 -73001 
結晶欠陥の均一なシリコン単結晶の製造方法およびその製造装置 訂正を認める。 特許第3006669号の請求項1及び2に係る発明の特許…… 好宮 幹夫     原文 保存
該当なし  
2002/05/14 不服
2000 -11158 
ガラス母材の搬送または保管方法 本件審判の請求は、成り立たない。   信越化学工業株式会社   原文 保存
該当なし  
2001/11/05 異議
2000 -73764 
オゾン水生成装置およびオゾン水を生成する方法 訂正を認める。 特許第3029608号の訂正後の請求項1ないし4に係る…… 好宮 幹夫     原文 保存
該当なし  
2001/10/12 審判
1999 -16012 
標準プラグを受入れるための統合レセプタクルを備えた着脱可能I/Oデバイス 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。   キシリコム,アイエヌシー.   原文 保存
該当なし  
2001/09/11 不服
2000 -20607 
平板状物の乾燥方法および乾燥装置 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。   信越半導体株式会社   原文 保存
該当なし  
2001/02/13 異議
1999 -73060 
ペリクル 訂正を認める。 特許第2857561号の請求項1に係る特許を維持する。 小松 秀岳 その他     原文 保存
 新規事項の追加  
1999/08/30 異議
1998 -76098 
シリコン単結晶の引上方法 特許第2767074号の特許を取り消す。     原文 保存
 新規性  

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