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現在の検索キーワード： 小越 勇

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審決年月日 審判番号 発明・考案の名称 結論 代理人 請求人    
2021/02/09 不服
2019 -16025  		スパッタリングターゲット 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。 小越 勇   JX金属株式会社   原文 保存
該当なし 　
2020/04/06 異議
2019 -700659  		磁性材スパッタリングターゲット及びその製造方法 特許第6483803号の特許請求の範囲を訂正請求書に添付された特許…… 小越 一輝 その他     原文 保存
該当なし 　
2020/03/25 不服
2019 -1831  		電子的調光可能光学装置 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。 小越 勇   アルファマイクロン インコーポレイテッド   原文 保存
該当なし 　
2020/01/20 不服
2018 -12711  		パラジウム-ニッケル合金皮膜及びその製造方法 原査定を取り消す。 本願の発明は,特許すべきものとする。 小越 勇   松田産業株式会社   原文 保存
該当なし 　
2019/10/29 不服
2018 -13506  		スパッタリングターゲット-バッキングプレート接合体 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。 小越 一輝   JX金属株式会社   原文 保存
該当なし 　
2019/08/19 不服
2018 -9355  		MｏSi2製の発熱体及び同発熱体の製造方法 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。 小越 一輝   JX金属株式会社   原文 保存
該当なし 　
2019/04/02 不服
2018 -2567  		高純度In及びその製造方法 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。 小越 勇   JX金属株式会社   原文 保存
該当なし 　
2018/09/14 不服
2017 -18429  		C粒子が分散したFe-Pｔ系スパッタリングターゲット 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。 小越 勇   JX金属株式会社   原文 保存
該当なし 　
2018/09/10 不服
2017 -16284  		電子的調光可能光学装置 本件審判の請求は、成り立たない。 小越 勇   アルファマイクロン インコーポレイテッド   原文 保存
該当なし 　
2018/05/07 不服
2017 -6170  		水棲動物の忌避方法及び水棲動物の忌避装置 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。 小越 勇 その他   株式会社仁光電機 公益財団法人函館地域産業振興財団   原文 保存
該当なし 　
2018/04/02 不服
2016 -19606  		Cｏ又はFeを含有するスパッタリングターゲット 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。 小越 一輝   JX金属株式会社   原文 保存
該当なし 　
2018/02/19 不服
2017 -2854  		ロウ材の塗布方法 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。 小越 勇   JX金属株式会社   原文 保存
該当なし 　
2018/01/19 不服
2016 -18770  		インジウム又はインジウム合金の回収方法及び装置 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。   JX金属株式会社   原文 保存
該当なし 　
2018/01/09 不服
2016 -7565  		450mmウエハ用スパッタリングターゲット-バッキングプレート接合体及びスパッタリングターゲット-バッキングプレート接合体の製造方法 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。 小越 一輝   JX金属株式会社   原文 保存
該当なし 　
2017/10/10 不服
2016 -9489  		酸化物焼結体、その製造方法及び酸化物焼結体製造用原料粉末 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。   JX金属株式会社   原文 保存
該当なし 　
2017/09/11 不服
2016 -14285  		ネオジム系希土類焼結磁石及びその製造方法。 本件審判の請求は、成り立たない。   JX金属株式会社   原文 保存
該当なし 　
2017/05/30 不服
2015 -13685  		高純度エルビウム、高純度エルビウムスパッタリングターゲット、高純度エルビウムメタルゲート膜及び高純度エルビウムの製造方法 本件審判の請求は、成り立たない。   JX金属株式会社   原文 保存
該当なし 　
2017/04/12 不服
2015 -17635  		酸化物焼結体及びその製造方法 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。   JX金属株式会社   原文 保存
該当なし 　
2017/03/06 不服
2015 -9111  		タンタルスパッタリングターゲット及びその製造方法 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。 小越 勇   JX金属株式会社   原文 保存
該当なし 　
2017/01/23 不服
2015 -19275  		高純度ランタンからなるスパッタリングターゲット 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。   JX金属株式会社   原文 保存
該当なし 　
2016/12/19 不服
2016 -303  		磁気記録媒体用スパッタリングターゲット及びその製造方法 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。 小越 一輝   JX金属株式会社   原文 保存
該当なし 　
2016/12/19 不服
2015 -15571  		高純度ランタンからなるスパッタリングターゲット 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。   JX金属株式会社   原文 保存
該当なし 　
2016/11/15 不服
2015 -22263  		コバルト酸化物が残留したスパッタリングターゲット 本件審判の請求は、成り立たない。   JX金属株式会社   原文 保存
該当なし 　
2016/06/27 不服
2015 -9688  		スパッタリング用ランタンターゲット 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。   JX金属株式会社   原文 保存
該当なし 　
2016/06/14 不服
2015 -12183  		スパッタリングターゲット及びその製造方法 本件審判の請求は、成り立たない。 小越 一輝   JX金属株式会社   原文 保存
該当なし 　
2016/01/26 不服
2015 -2995  		高純度銅マンガン合金スパッタリングターゲット 本件審判の請求は、成り立たない。 小越 一輝   JX金属株式会社   原文 保存
該当なし 　
2016/01/19 不服
2014 -20145  		強磁性材スパッタリングターゲット 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。   JX金属株式会社   原文 保存
該当なし 　
2015/12/22 不服
2014 -17296  		Cｕ-Ga系スパッタリングターゲット、同ターゲットの製造方法、光吸収層及び該光吸収層を用いた太陽電池 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。   JX日鉱日石金属株式会社   原文 保存
該当なし 　
2015/11/24 不服
2014 -20735  		球状ナノ粒子の製造方法及び同製造方法によって得られた球状ナノ粒子 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。   国立研究開発法人産業技術総合研究所   原文 保存
該当なし 　
2015/09/04 不服
2014 -14894  		α線量が少ない銀又は銀を含有する合金及びその製造方法 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。   JX日鉱日石金属株式会社   原文 保存
該当なし 　

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