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現在の検索キーワード: 清野 仁

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審決年月日 審判番号 発明・考案の名称 結論 代理人 請求人    
2016/01/28 不服
2014 -16312 
近赤外線遮蔽ポリエステル樹脂組成物、近赤外線遮蔽ポリエステル樹脂積層体、および、成形体とその製造方法 原査定を取り消す。 本願の発明は,特許すべきものとする。 阿仁屋 節雄 その他   住友金属鉱山株式会社   原文 保存
該当なし  
2015/03/11 不服
2014 -4085 
銀粉および銀粉の製造方法 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。 阿仁屋 節雄 その他   DOWAエレクトロニクス株式会社   原文 保存
該当なし  
2014/11/20 不服
2013 -25701 
半導体装置の製造方法、基板処理方法および基板処理装置 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。 福岡 昌浩 その他   株式会社日立国際電気   原文 保存
該当なし  
2014/08/27 不服
2013 -10953 
半導体装置の製造方法及び基板処理装置 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。 阿仁屋 節雄 その他   株式会社日立国際電気   原文 保存
該当なし  
2014/06/19 不服
2013 -16900 
半導体装置の製造方法、基板処理方法および基板処理装置 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。 油井 透 その他   株式会社日立国際電気   原文 保存
該当なし  
2014/03/27 不服
2013 -8908 
ディスク媒体再生装置のデータアプリケーションの提供方法 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。 阿仁屋 節雄 その他   エスケープラネット株式会社   原文 保存
該当なし  
2014/03/25 不服
2014 -1980 
圧電薄膜素子及び圧電薄膜デバイス 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。 油井 透 その他   日立金属株式会社   原文 保存
該当なし  
2014/02/12 不服
2013 -2655 
短絡安全装置 本件審判の請求は、成り立たない。 阿仁屋 節雄 その他   エスケー イノベーション カンパニー リミテッド   原文 保存
該当なし  
2013/12/17 不服
2012 -14152 
供給電力調節装置、半導体製造装置および電力制御方法 本件審判の請求は、成り立たない。 福岡 昌浩 その他   株式会社三幸 株式会社国際電気セミコンダクターサービス   原文 保存
該当なし  
2013/10/30 不服
2012 -17473 
銀粉の製造方法 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。 奥山 知洋 その他   DOWAエレクトロニクス株式会社   原文 保存
該当なし  
2013/10/09 不服
2012 -23487 
表面処理酸化亜鉛微粒子の製造方法、表面処理酸化亜鉛微粒子、その分散液体および分散固体、並びに酸化亜鉛微粒子被覆基材 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。 清野 仁 その他   住友金属鉱山株式会社   原文 保存
該当なし  
2013/06/12 不服
2012 -15855 
金属資源回収方法及び金属資源回収装置 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。 清野 仁 その他   DOWAエコシステム株式会社   原文 保存
該当なし  
2013/06/10 不服
2012 -17474 
銀粉の製造方法 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。 阿仁屋 節雄 その他   DOWAエレクトロニクス株式会社   原文 保存
該当なし  
2013/05/28 不服
2011 -22387 
透光性物品の検査方法、マスクブランク用透光性基板の製造方法、マスクブランクの製造方法、及び露光用マスクの製造方法、並びに半導体装置の製造方法 本件審判の請求は,成り立たない。 奥山 知洋 その他   HOYA株式会社   原文 保存
該当なし  
2013/04/15 不服
2012 -23750 
金属製品の製造方法および金属製品 本件審判の請求は、成り立たない。 阿仁屋 節雄 その他   株式会社ナノプラス 株式会社エース技研 サンレックス工業株式会社   原文 保存
該当なし  
2013/04/04 不服
2012 -13417 
半導体製造システム、半導体製造装置のロギング方法、管理装置及び管理装置のプログラム 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。 阿仁屋 節雄 その他   株式会社日立国際電気   原文 保存
該当なし  
2013/02/21 不服
2012 -17313 
基板処理装置及び半導体装置の製造方法 本件審判の請求は、成り立たない。 清野 仁 その他   株式会社日立国際電気   原文 保存
該当なし  
2012/12/14 不服
2012 -9413 
基板処理装置及びその表示方法、データ収集方法、並びにイベント収集プログラム 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。 清野 仁 その他   株式会社日立国際電気   原文 保存
該当なし  
2012/11/19 不服
2011 -21345 
光学装置 本件審判の請求は、成り立たない。 油井 透 その他   ホーヤ コーポレイション ユーエスエイ   原文 保存
該当なし  
2012/09/18 不服
2011 -16884 
SiドープGaAs単結晶インゴットおよびその製造方法 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。 奥山 知洋 その他   DOWAエレクトロニクス株式会社   原文 保存
該当なし  
2012/09/14 不服
2011 -17183 
電子写真現像用キャリア粉および電子写真現像剤 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。 阿仁屋 節雄 その他   DOWA IPクリエイション株式会社 DOWAホールディングス株式会社   原文 保存
該当なし  
2012/09/12 不服
2011 -28321 
水素吸蔵合金 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。 奥山 知洋 その他   DOWAホールディングス株式会社   原文 保存
該当なし  
2012/08/29 不服
2011 -16765 
電子写真現像用キャリアの製造方法及び二成分系現像剤の製造方法 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。 清野 仁 その他   DOWAホールディングス株式会社 DOWA IPクリエイション株式会社   原文 保存
該当なし  
2012/05/29 不服
2011 -4284 
SiドープGaAs単結晶 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。 阿仁屋 節雄   DOWAホールディングス株式会社   原文 保存
該当なし  
2012/01/05 無効
2011 -800044 
光学的フィルター 特許第3854392号の請求項1ないし3、5ないし6に係る発明についての…… 阿仁屋 節雄 その他   菊井 俊一   原文 保存
該当なし  
2011/10/25 不服
2010 -19858 
ジェットミルおよびジェット粉砕方法 本件審判の請求は、成り立たない。 阿仁屋 節雄 その他   サンレックス工業株式会社 株式会社ナノプラス 株式会社エース技研   原文 保存
該当なし  
2011/08/02 不服
2009 -48 
垂直磁気記録媒体の製造方法 本件審判の請求は、成り立たない。 油井 透 その他   HOYA株式会社   原文 保存
該当なし  
2011/06/20 不服
2008 -23872 
垂直磁気記録媒体 本件審判の請求は、成り立たない。 福岡 昌浩 その他   ダブリュディ・メディア・シンガポール・プライベートリミテッド   原文 保存
 進歩性(29条2項)  
2011/04/04 不服
2008 -7071 
ガラス光学素子の成形装置及び成形方法 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。 油井 透 その他   HOYA株式会社   原文 保存
該当なし  
2010/12/17 不服
2009 -19129 
電子写真現像用キャリアおよびその製造方法並びに電子写真用現像剤 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。 阿仁屋 節雄 その他   DOWA IPクリエイション株式会社 DOWAホールディングス株式会社   原文 保存
該当なし  

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