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審決分類 審判 査定不服 2項進歩性 取り消して特許、登録 H01L
管理番号 1054348
審判番号 不服2001-6732  
総通号数 28 
発行国 日本国特許庁(JP) 
公報種別 特許審決公報 
発行日 1992-11-05 
種別 拒絶査定不服の審決 
審判請求日 2001-04-26 
確定日 2002-03-05 
事件の表示 平成3年特許願第79110号「シリコンウェハーの研磨方法」拒絶査定に対する審判事件〔平成4年11月5日出願公開、特開平4-313224、請求項の数(1)〕について、次のとおり審決する。 
結論 原査定を取り消す。 本件出願の発明は、特許すべきものとする。 
理由 本件出願は、平成3年4月11日の出願であって、その請求項1に係る発明は、願書に添付した明細書及び図面の記載からみて、特許請求の範囲の請求項1に記載された事項により特定されるとおりのものであると認める。
そして、本件出願については、原査定の拒絶の理由を検討してもその理由によって拒絶すべきものとすることはできない。
また、他に本件出願を拒絶すべき理由を発見しない。
よって、結論のとおり審決する。
 
審決日 2002-02-19 
出願番号 特願平3-79110
審決分類 P 1 8・ 121- WY (H01L)
最終処分 成立  
前審関与審査官 森川 元嗣  
特許庁審判長 小池 正利
特許庁審判官 鈴木 孝幸
宮崎 侑久
発明の名称 シリコンウェハーの研磨方法  
代理人 池谷 豊  
代理人 望月 孜郎  
代理人 曾我 道治  
代理人 鈴木 憲七  
代理人 梶並 順  
代理人 曾我 道照  
代理人 白石 泰三  
代理人 古川 秀利  

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