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審決分類 審判 査定不服 2項進歩性 取り消して特許、登録 H01L
管理番号 1069700
審判番号 不服2000-14193  
総通号数 38 
発行国 日本国特許庁(JP) 
公報種別 特許審決公報 
発行日 1993-08-27 
種別 拒絶査定不服の審決 
審判請求日 2000-09-07 
確定日 2003-01-07 
事件の表示 平成3年特許願第73947号「高輝度集束イオンビームを用いた化合物の薄膜パターン生成方法」拒絶査定に対する審判事件〔平成5年8月27日出願公開、特開平5-217896、請求項の数(1)〕について、次のとおり審決する。 
結論 原査定を取り消す。本願の発明は、特許すべきものとする。 
理由 本願は、平成3年3月13日の出願であって、その請求項1に係る発明は、平成14年11月28日付けの手続補正書により補正された、特許請求の範囲の請求項1に記載されたとおりのものである。
そして、本願については、原査定の拒絶理由を検討してもその理由によって拒絶すべきものとすることはできない。
また、他に本願を拒絶すべき理由を発見しない。
よって、結論のとおり審決する。
 
審決日 2002-12-16 
出願番号 特願平3-73947
審決分類 P 1 8・ 121- WY (H01L)
最終処分 成立  
前審関与審査官 坂本 薫昭酒井 英夫  
特許庁審判長 影山 秀一
特許庁審判官 川真田 秀男
中西 一友
発明の名称 高輝度集束イオンビームを用いた化合物の薄膜パターン生成方法  
代理人 喜多 俊文  
代理人 江口 裕之  

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