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審決分類 審判 査定不服 2項進歩性 取り消して特許、登録 H01L
管理番号 1071193
審判番号 不服2000-7986  
総通号数 39 
発行国 日本国特許庁(JP) 
公報種別 特許審決公報 
発行日 1998-07-21 
種別 拒絶査定不服の審決 
審判請求日 2000-05-29 
確定日 2003-02-04 
事件の表示 平成9年特許願第277619号「半導体装置製造用乾式エッチング装置」拒絶査定に対する審判事件〔平成10年7月21日出願公開、特開平10-189538、請求項の数(7)〕について、次のとおり審決する。 
結論 原査定を取り消す。 本願の請求項1〜7に係る発明は、特許すべきものとする。 
理由 本願は、平成9年10月9日(パリ条約による優先権主張 1996年12月24日 (KR)大韓民国)の出願であって、その請求項1〜7に係る発明は、平成11年7月2日付け手続補正書及び平成14年12月25日付け手続補正書により補正された明細書及び図面の記載からみて、その特許請求の範囲の請求項1〜7に記載された事項により特定されるとおりのものであると認める。
そして、本願については、原査定の拒絶理由を検討してもその理由によって拒絶すべきものとすることはできない。
また、他に本願を拒絶すべき理由を発見しない。
よって、結論のとおり審決する。
 
審決日 2003-01-22 
出願番号 特願平9-277619
審決分類 P 1 8・ 121- WY (H01L)
最終処分 成立  
前審関与審査官 大日方 和幸今井 淳一田中 永一  
特許庁審判長 関根 恒也
特許庁審判官 市川 裕司
伊藤 明
発明の名称 半導体装置製造用乾式エッチング装置  
代理人 志賀 富士弥  
代理人 富岡 潔  
代理人 橋本 剛  

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