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審決分類 審判 査定不服 2項進歩性 取り消して特許、登録 G01N
管理番号 1082293
審判番号 不服2001-21219  
総通号数 46 
発行国 日本国特許庁(JP) 
公報種別 特許審決公報 
発行日 1994-08-05 
種別 拒絶査定不服の審決 
審判請求日 2001-11-28 
確定日 2003-09-09 
事件の表示 平成 5年特許願第 7047号「シリコンウェハ表面の超微量金属分析におけるエッチング方法」拒絶査定に対する審判事件〔平成 6年 8月 5日出願公開、特開平 6-213805、請求項の数(1)〕について、次のとおり審決する。 
結論 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。 
理由 本願は、平成 5年 1月19日の出願であって、その請求項1に係る発明は、特許請求の範囲の請求項1に記載された事項により特定されるとおりのものであると認める。
そして、本願については、原査定の拒絶理由を検討してもその理由によって拒絶すべきものとすることはできない。
また、他に本願を拒絶すべき理由を発見しない。
よって、結論のとおり審決する。
 
審決日 2003-08-28 
出願番号 特願平5-7047
審決分類 P 1 8・ 121- WY (G01N)
最終処分 成立  
前審関与審査官 郡山 順野村 伸雄  
特許庁審判長 後藤 千恵子
特許庁審判官 水垣 親房
河原 正
発明の名称 シリコンウェハ表面の超微量金属分析におけるエッチング方法  
代理人 八田 幹雄  

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