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審決分類 審判 査定不服 2項進歩性 特許、登録しない。 H01L
審判 査定不服 5項独立特許用件 特許、登録しない。 H01L
管理番号 1173374
審判番号 不服2005-15821  
総通号数 100 
発行国 日本国特許庁(JP) 
公報種別 特許審決公報 
発行日 2008-04-25 
種別 拒絶査定不服の審決 
審判請求日 2005-08-18 
確定日 2008-02-21 
事件の表示 平成10年特許願第 24660号「基板処理装置」拒絶査定不服審判事件〔平成11年 8月17日出願公開、特開平11-224874〕について、次のとおり審決する。 
結論 本件審判の請求は、成り立たない。 
理由 第1 手続の経緯
本件に係る出願(以下、「本願」という。)は、平成10年2月5日の特許出願であって、平成15年10月24日付け手続補正書により明細書を対象とした補正がされ、平成17年7月12日付けで拒絶査定がされ(発送日:平成17年7月19日)、これに対し、平成17年8月18日に拒絶査定不服審判が請求されるとともに、同年9月5日付け手続補正書により明細書を対象とした補正がされたものである。


第2 平成17年9月5日付け手続補正書による補正の却下の決定
[結論]
平成17年9月5日付け手続補正書による補正を却下する。

[理由]
1.本件補正発明
平成17年9月5日付け手続補正書による補正(以下、「本件補正」という。)により、特許請求の範囲の請求項1は、次のとおりに補正された。

「基板に対して所定の処理を施す基板処理装置であって、
純水と薬液とを混合して得られた処理液で基板の表面処理を行う基板処理部と、
前記基板処理部と純水供給源との間に連通接続された純水供給路と、
前記純水供給源から前記純水供給路に供給される純水の供給量を調節する純水供給量調節手段と、
一端側が前記純水供給路に接続され、他端側が薬液供給源に接続されている薬液供給路と、
前記純水供給路を流通する処理液の濃度を測定する濃度測定手段と、
前記純水供給路を流通する純水の流量を検出する純水流量センサと、
前記濃度測定手段による濃度現在値と濃度目標値との偏差に基づいて濃度操作量を求め、この濃度操作量を濃度から流量へ変換させて更新目標値を求め、この更新目標値と前記純水流量センサにより検出された純水の流量に基づいて純水流量操作量を求め、この純水流量操作量に基づいて前記純水供給量調節手段を制御する制御手段と、
を備えていることを特徴とする基板処理装置。」

上記補正は、請求項1に係る発明を特定するために必要な事項である「制御手段」について、「前記濃度測定手段による濃度現在値と濃度目標値との偏差、及び前記純水流量センサにより検出された純水の流量に基づき、前記純水供給量調節手段を制御する」とされていたのを「前記濃度測定手段による濃度現在値と濃度目標値との偏差に基づいて濃度操作量を求め、この濃度操作量を濃度から流量へ変換させて更新目標値を求め、この更新目標値と前記純水流量センサにより検出された純水の流量に基づいて純水流量操作量を求め、この純水流量操作量に基づいて前記純水供給量調節手段を制御する」としたものである。これは、濃度現在値と濃度目標値との偏差に基づいて「濃度操作量」を求め、この「濃度操作量」を濃度から流量へ変換させて「更新目標値」を求める点を付加するものである。
したがって、上記補正は、限定的減縮を目的とするものであり、平成18年改正前特許法第17条の2第4項第2号に該当する。

そこで、本件補正後の前記請求項1に記載された発明(以下、「本件補正発明」という。)が特許出願の際独立して特許を受けることができるものであるか否か(平成18年改正前特許法第17条の2第5項において準用する特許法第126条第5項の規定に適合するか否か)につき以下に検討する。
2.刊行物
原審の拒絶の理由で示された、本願の出願前に日本国内で頒布された刊行物である「特開平8-78380号公報」(以下、「公知刊行物」という。)には、図面と共に次の事項が記載されている。

ア.「【産業上の利用分野】本発明は、処理液が流通する試料フローセルと、一定温度に保持した状態で溶媒を流通または充填した参照セルとの透過光強度の比をもって透過率を算出し、この透過率に基づいて前記処理液の濃度を制御する濃度制御方法または試料フローセルに処理液を流通させた場合と、同じ試料フローセルに一定温度に保持した状態で溶媒を流通させた場合の透過光強度の比をもって透過率を算出し、この透過率に基づいて前記処理液の濃度を制御する濃度制御方法及びこれを利用して処理液の濃度を制御し、半導体ウエハ、フォトマスク用のガラス基板、液晶表示装置用のガラス基板、光ディスク用の基板等の基板を対象に洗浄やエッチングなどの処理を行う基板処理装置に関する。」(段落【0001】)

イ.「本発明は、このような事情に鑑みてなされたものであって、処理液の温度依存性を補正することにより高精度で、かつ、応答性の良い濃度制御方法及びこれを利用した基板処理装置を提供することを目的とする。」(段落【0007】)

ウ.「【作用】本発明の作用は次のとおりである。請求項1に記載の発明方法は、処理液が流通する試料フローセルと、一定温度に保持した状態で溶媒を充填した参照セルとの透過光強度の比をもって透過率を算出する。そして算出された透過率に基づいて濃度を制御する濃度制御方法である。」(段落【0016】)

エ.「図中、符号1はオーバーフロー式の処理槽である。この処理槽1は、半導体ウエハを複数枚収納した図示しないウエハキャリアが浸積される処理槽本体1_(1 )と、その周囲に配設されて処理槽本体1_(1) から溢れた処理液を滞留するためのオーバーフロー部1_(2 )とから構成されている。オーバーフロー部1_(2 )には、純水供給配管3によって純水が所定圧力で供給され、この供給量は流量調節弁V_(1) によって調節されるようになっており、また、薬液タンク5から薬液の流量を調節するための流量調節弁V_(2 )と薬液供給配管7を介して薬液が供給されるようになっている。なお、純水供給配管3は、本発明における溶媒供給手段に相当し、薬液タンク5および薬液供給配管7は、薬液供給手段に相当する。
さらにオーバーフロー部1_(2 )には、滞留している処理液を循環させるための処理液供給配管9の一端側が配設されており、これには処理液を循環させるためのポンプ11と、循環している処理液を所定温度に加熱するためのヒーター13と、処理液の温度を測定するための温度センサ15と、循環している処理液中のパーティクルなどを除去するためのフィルタ17と、所定光路長dを有する試料フローセル19とが配設されており、その他端側が処理槽本体11 の底部に接続されている。」(段落【0065】?【0066】)

オ.「次に図4を参照して、フィードバック制御処理について説明する。
なお、このフィードバック制御処理は本発明におけるフィードバック制御過程に相当する。
ステップS1では、供給量制御部38が純水の流量調整弁V_(1) と薬液の流量調整弁V_(2 )とを制御して、ほぼ所定濃度cになる比率で薬液と純水とを処理槽1に供給する。そしてオーバーフロー部1_(2 )にまで処理液が滞留したのち、ポンプ11によって処理液を処理液供給配管9に循環させつつ、温調部32が所定温度t_(e) になるように温度調整する。
ステップS2では、試料フローセル19の透過光強度を透過光強度測定部31が測定し、この透過光強度を試料透過光強度I_(S) として透過率算出部36へ出力するとともに、温調部32が処理液の温度を測定して測定温度t_(m) ’(ほぼ所定温度t_(e )に等しい)を補正係数算出部35へ送る。次に、光路切換部24を参照セル23側へ切り換えて参照透過光強度I_(V) を測定し、補正係数算出部35へ送る(ステップS3)。
ステップS4では、補正係数Kを求める。補正係数算出部35は検量線データ格納部34に〔ステップS2で測定したほぼ所定温度t_(e) に等しい〕処理液の測定温度t_(m) ’を入力し、検量線データ格納部34は検量線データから測定温度t_(m) ’に対応する透過光強度を求めて補正係数算出部35に返す。この透過光強度は、参照セル23に充填されている純水の温度を基準処理液の測定温度t_(m) ’とした場合の透過光強度に相当し、これを予測透過光強度I_(F) とする。そしてステップS3で測定された参照透過光強度I_(V) と予測透過光強度I_(F) との比から補正係数K(=I_(V) /I_(F) )を算出する。
そしてステップS5では、試料透過光強度I_(S) と参照透過光強度I_(V) および補正係数Kとから試料透過率T_(S) (=K・I_(S )/I_(V ))を算出する。
このように、参照透過光強度I_(V) を処理液の温度t_(m) ’で補正して試料透過率T_(S )を求めているので、処理液の温度を参照セルの純水の温度にまで冷却することなくそのままの状態で正確に試料透過率T_(S) を求めることができる。
ステップS6では、基準透過率T_(R) と試料透過率T_(S) とを比較して等しい場合(濃度が基準処理液と同じ)にはステップS2へ戻る。その一方、等しくない場合(濃度が基準処理液と異なる)には、ステップS7の処理を行う。ステップS7では、基準透過率T_(R) と試料透過率T_(S) との差分に応じて薬液または純水のどちらか一方を処理液に補充する。具体的には、透過率算出部36から前記両透過率T_(R) ,T_(S) がフィードバック制御部37に入力され、この差分に応じて供給量制御部38に制御信号を出力する。供給量制御部38は、制御信号に応じた量だけ流量調整弁V_(1) または流量調整弁V_(2 )を調整する。そして、ステップS2へと戻ってこの処理を繰り返す。
これらのステップS2?S7の繰り返しにより、濃度に関連する基準透過率T_(R )と試料透過率T_(S )との差分に応じて濃度調整が行われる。すなわち、濃度を算出することなくこれに関連する透過率の差分に基づいて濃度制御を行うので、演算処理の負荷が軽減される。また、温度依存性による影響を除去しているので、処理液の濃度を正確にかつ、応答性よく基準処理液の濃度と一致させることができる。」(段落【0081】?【0088】)

これらの事項及び図面の記載内容からして、公知刊行物には、次の発明(以下、「公知刊行物記載の発明」という。)が記載されていると認める。

「基板に対して所定の処理を施す基板処理装置であって、
純水と薬液とを混合して得られた処理液で基板の表面処理を行う処理槽と、
前記処理槽のオーバーフロー部に連通接続された純水供給配管と、
前記純水供給配管に供給される純水の供給量を調節する純水の流量調整弁と、
一端側が前記処理槽のオーバーフロー部に接続されている薬液供給配管と、
前記薬液供給配管に供給される薬液の供給量を調節する薬液の流量調整弁と、
処理槽のオーバーフロー部に接続された処理液供給配管に設けた試料フローセルと、
前記試料フローセルを用いて検出される試料透過率と基準透過率との偏差に基づいて前記純水の流量調整弁又は前記薬液の流量調整弁を制御して濃度を制御する制御手段と、
を備えている基板処理装置。」

3.対比
本件補正発明と公知刊行物記載の発明を対比する。
公知刊行物記載の発明の「処理槽」、「純水供給配管」、「薬液供給配管」、「純水の流量調整弁」は、それぞれ、本件補正発明の「基板処理部」、「純水供給路」、「薬液供給路」、「純水供給量調節手段」に相当する。
また、公知刊行物記載の発明における「試料透過率」は、本件補正発明における「濃度現在値」に相当するものであり、公知刊行物記載の発明における「試料フローセル」は、本件補正発明における「濃度測定手段」に相当し、公知刊行物記載の発明における「基準透過率」は、本件補正発明における「濃度目標値」に相当する。
さらに、公知刊行物記載の発明において、純水供給路(純水供給配管)の一端側が純水供給源に連通接続されていること、及び、薬液供給路(薬液供給配管)の一端側が薬液供給源に接続されていることは、いずれも、当業者にとって自明の技術的事項である。
そうしてみると、両者の一致点及び相違点は、次のとおりである。

[一致点]
「基板に対して所定の処理を施す基板処理装置であって、
純水と薬液とを混合して得られた処理液で基板の表面処理を行う基板処理部と、
前記基板処理部に連通接続された純水供給路と、
前記純水供給源から前記純水供給路に供給される純水の供給量を調節する純水供給量調節手段と、
一端側が薬液供給源に接続されている薬液供給路と、
処理液の濃度を測定する濃度測定手段と、
前記濃度測定手段による濃度現在値と濃度目標値との偏差に基づいて前記純水供給量調節手段を制御する制御手段と、
を備えている基板処理装置。」

[相違点1]
本件補正発明では、純水供給路の純水供給源に連通接続されない側の端部が接続されるのが基板処理部であり、薬液供給路の薬液供給源に接続されない側の端部が接続されるのが純水供給路であるのに対して、公知刊行物記載の発明では、純水供給路の純水供給源に連通接続されない側の端部が接続されるのも薬液供給路の薬液供給源に接続されない側の端部が接続されるのも基板処理部のオーバーフロー部である点。

[相違点2]
濃度測定手段が、本件補正発明では、純水供給路に設けられていてこの純水供給路を流通する処理液の濃度を測定するものであるのに対して、公知刊行物記載の発明では、基板処理部のオーバーフロー部に接続された処理液供給配管に設けられていてこの処理液供給配管を流通する処理液の濃度を測定するものである点。

[相違点3]
制御手段が、本件補正発明では、純水供給量調節手段を制御するものであるのに対して、公知刊行物記載の発明では、純水供給量調節手段(純水の流量調整弁)又は薬液の流量調整弁を制御するものである点。

[相違点4]
本件補正発明は、濃度現在値と濃度目標値との偏差に基づいて濃度操作量を求め、この濃度操作量を濃度から流量へ変換させて更新目標値を求めると共に、純水供給路を流通する純水の流量を検出する純水流量センサを備えており、前記更新目標値と前記純水流量センサにより検出された純水の流量に基づいて純水流量操作量を求め、この純水流量操作量に基づいて純水供給量調節手段を制御するのに対して、公知刊行物記載の発明では、濃度現在値と濃度目標値との偏差に基づいて純水供給量調節手段を制御する点。

4.判断
上記相違点1?4について検討する。

(1)相違点1?3について
一端側が薬液供給源に接続されている薬液供給路の他端側を純水供給路に接続し、純水と薬液を純水供給路で混合してから処理液として基板処理部に供給することは、当業者にとって周知の技術的事項である。原審において、公知刊行物と共に示された特開平7-22369号公報もその一例ということができる。かかる周知の技術的事項を勘案すれば、公知刊行物記載の発明において上記相違点1に係る本件補正発明の構成を採用することに、当業者にとっての格別の創意工夫は見いだせない。
また、そのような構成を採用すれば、純水供給路を流通する処理液の濃度を測定することができることは、当業者にとって自明であり、公知刊行物記載の発明において上記相違点1に併せて上記相違点2に係る本件補正発明の構成を採用することにも、当業者にとっての格別の創意工夫は見いだせない。
さらに、濃度の調節のために純水の供給量だけを制御することは、当業者が適宜採用し得たことであり、公知刊行物記載の発明において上記相違点3に係る本件補正発明の構成を採用することにも、当業者にとっての格別の創意工夫は見いだせない。

(2)相違点4について
公知刊行物記載の発明も、濃度現在値と濃度目標値との偏差に基づいて濃度操作量を求め、この濃度操作量を濃度から流量へ変換させて更新目標値を求め、この更新目標値に基づく純水流量操作量に基づいて純水供給量調節手段を制御しているものと理解できるから、相違点4は、本件補正発明では、純水供給路を流通する純水の流量を検出する純水流量センサを設け、更新目標値とこの純水流量センサにより検出された純水の流量に基づいて純水流量操作量を求めているのに対して、公知刊行物記載の発明では、更新目標値のみに基づいて純水流量操作量を求めている点、と言い換えることができる。
一般に、流体の流量を制御するに当たり、目標値のみならず実際の流量値も加味して流量調節手段を制御することは、当業者にとって周知の技術的事項である。原審において示された特開平7-74462号公報もその一例ということができる。
請求人は、この特開平7-74462号公報に記載されたものと本件補正発明との異同について縷々述べるが、その図1における不活性ガスの供給についてみると、酸素濃度測定手段15により検出される濃度の現在値及びガス流量計測手段8によって検出される不活性ガスの流量に基づいてガス流量調節手段7を制御することにより、その供給量が調節されるものであり、検出された濃度の現在値と検出された流体の流量とに基づいて流体の供給量を調節するという意味では、本件補正発明と同趣旨の技術内容を開示しているものと評価できるのである。
そして、このような周知の技術的事項が公知刊行物記載の発明の純水流量の制御に適用できないとする事情が存在するものでもない。

そうしてみると、公知刊行物記載の発明において相違点4に係る本件補正発明の構成を採用することにも、当業者にとっての格別の創意工夫を見いだすことはできない。

(3)したがって、本件補正発明の発明特定事項は、公知刊行物記載の発明及び周知の技術的事項に基づいて当業者が容易に想到し得たものである。
しかも、本件補正発明の発明特定事項により、公知刊行物記載の発明及び周知の技術的事項から予期される以上の格別顕著な効果がもたらされるということもできない。

よって、本件補正発明は、公知刊行物記載の発明及び周知の技術的事項に基づいて、当業者が容易に発明をすることができたものであるから、特許法第29条第2項の規定により特許出願の際独立して特許を受けることができないものである。

5.むすび
以上をふまえると、本件補正は、平成18年改正前特許法第17条の2第5項において準用する特許法第126条第5項の規定に違反するので、同法第159条第1項の規定において読み替えて準用する同法第53条第1項の規定により却下すべきものである。


第3 本願発明について
本件補正、すなわち平成17年9月5日付け手続補正書による補正は、上記のとおり却下されたので、本願の請求項1?4に係る発明は、平成15年10月24日付け手続補正書により補正された明細書及び図面の記載からみて、平成15年10月24日付け手続補正書の特許請求の範囲の請求項1?4に記載された事項により特定されるとおりのものと認められるところ、その請求項1に係る発明(以下、「本願発明」という。)は、次のとおりである。

「基板に対して所定の処理を施す基板処理装置であって、
純水と薬液とを混合して得られた処理液で基板の表面処理を行う基板処理部と、
前記基板処理部と純水供給源との間に連通接続された純水供給路と、
前記純水供給源から前記純水供給路に供給される純水の供給量を調節する純水供給量調節手段と、
一端側が前記純水供給路に接続され、他端側が薬液供給源に接続されている薬液供給路と、
前記純水供給路を流通する処理液の濃度を測定する濃度測定手段と、
前記純水供給路を流通する純水の流量を検出する純水流量センサと、
前記濃度測定手段による濃度現在値と濃度目標値との偏差、及び前記純水流量センサにより検出された純水の流量に基づき、前記純水供給量調節手段を制御する制御手段と、
を備えていることを特徴とする基板処理装置。」

1.刊行物
公知刊行物に記載された事項及び公知刊行物記載の発明は、既に前記「第2 2.」で述べたとおりのものである。

2.対比・判断
本願発明は、前記「第2」で検討した本件補正発明からその発明を特定するために必要な事項たる「制御手段」について濃度現在値と濃度目標値との偏差に基づいて「濃度操作量」を求め、この「濃度操作量」を濃度から流量へ変換させて「更新目標値」を求めるとする限定事項を省いたものである。
そうすると、本願発明を特定するために必要な事項を全て含み、さらに他の事項を発明を特定するために必要な事項として付加したものに相当する本件補正発明が、前記「第2」に記載したとおり、公知刊行物記載の発明及び周知の技術的事項に基づいて当業者が容易に発明をすることができたものであるから、本願発明も、同様の理由により、公知刊行物記載の発明及び周知の技術的事項に基づいて当業者が容易に発明をすることができたものといえる。

3.むすび
以上のとおり、本願発明は、公知刊行物記載の発明及び周知の技術的事項に基づいて当業者が容易に発明をすることができたものであるから、特許法第29条第2項の規定により特許を受けることができない。

よって、 結論のとおり審決する。
 
審理終結日 2007-12-11 
結審通知日 2007-12-18 
審決日 2008-01-04 
出願番号 特願平10-24660
審決分類 P 1 8・ 121- Z (H01L)
P 1 8・ 575- Z (H01L)
最終処分 不成立  
前審関与審査官 稲垣 浩司  
特許庁審判長 岡 千代子
特許庁審判官 関口 哲生
新海 岳
発明の名称 基板処理装置  
代理人 杉谷 勉  
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