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審決分類 審判 査定不服 特36条4項詳細な説明の記載不備 特許、登録しない(前置又は当審拒絶理由) G02B
審判 査定不服 特36条6項1、2号及び3号 請求の範囲の記載不備 特許、登録しない(前置又は当審拒絶理由) G02B
審判 査定不服 2項進歩性 特許、登録しない(前置又は当審拒絶理由) G02B
管理番号 1176186
審判番号 不服2005-3898  
総通号数 102 
発行国 日本国特許庁(JP) 
公報種別 特許審決公報 
発行日 2008-06-27 
種別 拒絶査定不服の審決 
審判請求日 2005-03-07 
確定日 2008-04-10 
事件の表示 特願2001-339576「リソグラフィ装置、デバイス製造方法、およびそれにより製造されたデバイス」拒絶査定不服審判事件〔平成14年 7月12日出願公開、特開2002-196242〕について、次のとおり審決する。 
結論 本件審判の請求は、成り立たない。 
理由 本願は、平成13年11月 5日(パリ条約による優先権主張2000年11月7日、欧州特許庁)の出願であって、その請求項1ないし13に係る発明は、特許請求の範囲の請求項1ないし13に記載された事項により特定されるとおりのものであると認める。
これに対して、平成19年 4月23日付けで拒絶理由を通知し、期間を指定して意見書を提出する機会を与えたが、請求人からは何らの応答もない。
そして、上記の拒絶理由は妥当なものと認められるので、本願は、この拒絶理由によって拒絶すべきものである。
よって、結論のとおり審決する。
 
審理終結日 2007-11-16 
結審通知日 2007-11-19 
審決日 2007-11-30 
出願番号 特願2001-339576(P2001-339576)
審決分類 P 1 8・ 537- WZ (G02B)
P 1 8・ 121- WZ (G02B)
P 1 8・ 536- WZ (G02B)
最終処分 不成立  
前審関与審査官 堀井 康司吉川 陽吾  
特許庁審判長 末政 清滋
特許庁審判官 辻 徹二
森内 正明
発明の名称 リソグラフィ装置、デバイス製造方法、およびそれにより製造されたデバイス  
代理人 浅村 皓  
代理人 浅村 肇  
代理人 吉田 裕  
代理人 森 徹  
代理人 稲葉 良幸  
代理人 大賀 眞司  
代理人 大貫 敏史  

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