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| 審決分類 |
審判 査定不服 2項進歩性 特許、登録しない。 G06T 審判 査定不服 4号2号請求項の限定的減縮 特許、登録しない。 G06T |
|---|---|
| 管理番号 | 1177035 |
| 審判番号 | 不服2006-5027 |
| 総通号数 | 102 |
| 発行国 | 日本国特許庁(JP) |
| 公報種別 | 特許審決公報 |
| 発行日 | 2008-06-27 |
| 種別 | 拒絶査定不服の審決 |
| 審判請求日 | 2006-03-16 |
| 確定日 | 2008-05-01 |
| 事件の表示 | 平成 8年特許願第254987号「設計データに基づく図形データ展開装置」拒絶査定不服審判事件〔平成10年 4月24日出願公開、特開平10-104168〕について、次のとおり審決する。 |
| 結論 | 本件審判の請求は、成り立たない。 |
| 理由 |
1.手続の経緯 本願は、平成8年9月26日の出願であって、平成18年2月7日付けで拒絶査定がなされ、これに対し、同年3月16日に拒絶査定に対する審判請求がなされるとともに、同年4月17日付けで手続補正がなされたものである。 2.平成18年4月17日付けの手続補正についての補正却下の決定 [補正却下の決定の結論] 平成18年4月17日付けの手続補正を却下する。 [理由] 2-1.補正後の特許請求の範囲の記載 本件補正により、特許請求の範囲の請求項2は、 「【請求項2】パターン位置とパターン寸法とを画素の1/n(nは整数)の精度で含み、パターン設計者により用意された設計パターンを表わしているパターンデータを入力するステップと、 前記設計パターンの図形形状と、図形位置と、図形寸法から基本図形を生成する基本図形生成手段と、 各々が所定の寸法を有し、マトリックスに配列された複数のセグメントに分割される複数のマス目に前記基本図形を割り付けるステップと、 前記パターンによって各マス目のいくつのセグメントが占有されているかを示す占有率を計算するステップと、 占有率に対応して0?nの多階調レベルを表わす複数の階調レベルの図形データを出力するステップと、 でなり、画素単位で表わされる階調パターンを生成する方法。」 と補正された。(下線部が、補正箇所である。) 2-2.補正の目的 請求項2はその記載から、階調パターンを生成する方法に関するものといえるので、「前記設計パターンの図形形状と、図形位置と、図形寸法から基本図形を生成する基本図形生成手段」を発明を特定する事項として追加することは、請求項の削除、特許請求の範囲の減縮、誤記の訂正、又は明りょうでない記載の釈明のいずれかを目的とするものとはいえない。 そして、「前記設計パターンの図形形状と、図形位置と、図形寸法から基本図形を生成する基本図形生成手段」が「前記設計パターンの図形形状と、図形位置と、図形寸法から基本図形を生成する基本図形生成ステップ」の誤記であるとしても、そのような新たなステップを発明を特定する事項として追加するとともに、追加した新たなステップに基づいて、「各々が所定の寸法を有し、マトリックスに配列された複数のセグメントに分割される複数のマス目に前記設計パターンを割り付けるステップ」の「設計パターン」を「基本図形」と変更することは、補正前の発明を特定するために必要な事項を限定するものではないから、平成18年改正前特許法第17条の2第4項第2号でいう特許請求の範囲の減縮には該当しない。請求項の削除、誤記の訂正、又は拒絶理由通知に係る拒絶の理由に示す事項についてする明りょうでない記載の釈明でないことは明らかである。 2-3.むすび したがって、本件補正は、平成18年改正前特許法第17条の2第4項の規定に適合しないので、特許法第159条第1項において読み替えて準用する同法第53条第1項の規定により、却下する。 2-4.備考 なお、請求項2の「前記パターンデータによって各マス目のいくつのセグメントが占有されているかに関して前記パターンデータによって各マス目のどの程度がパターンデータによって占有されているかを規定する占有率を計算するステップ」を「前記パターンによって各マス目のいくつのセグメントが占有されているかを示す占有率を計算するステップ」とする補正についても、「(占有)されているかに関して前記パターンデータによって各マス目のどの程度がパターンデータによって占有(されているか)」との文言を削除することが、特許請求の範囲の減縮を目的とするものとはいえない。 また、上記文言を削除することで、その記載がより明りょうになるとしても、補正前の「計算するステップ」が不明りょうであったわけではないし、補正前の「計算するステップ」について明りょうでないとする拒絶の理由は示されていない。 さらに、請求項の削除又は誤記の訂正を目的とするものでないことは明らかであるから、この点においても本件補正は、平成18年改正前特許法第17条の2第4項の規定に適合しない。 以上のことは、請求項1の「計算手段」についてする補正も同様である。 さらに、補正後の請求項1に係る発明は、後述のように補正前の請求項1に係る発明が、引用発明1及び2に基づいて当業者が容易に発明をすることができたものであり、引用発明2には基本図形の生成についても記載されているので、引用発明1及び2に基づいて当業者が容易に発明をすることができたものといえるので、特許法第29条第2項の規定により、特許出願の際独立して特許を受けることができないから、平成18年改正前特許法第17条の2第5項において準用する同法第126条第5項の規定に違反し、この点においても本件補正は却下すべきものである。 3.本願発明について 3-1.本願発明 平成18年4月17日付けの手続補正は上記のとおり却下されたので、本願の請求項1に係る発明(以下、同項記載の発明を「本願発明」という。)は、平成17年5月23日付けの手続補正書の特許請求の範囲の請求項1に記載された事項により特定される、以下のとおりのものである。 「パターン設計者により用意され設計パターンを表わす複数の設計パタ一ンデ一タを格納する記憶手段と、 前記記憶手段から読出された各設計パターンから、図形形状と、図形位置と、図形寸法とを有する復号図形を得る復号手段と、 各々が所定の寸法をもちマトリックスに配列された複数のセグメントに分割される複数のマス目に前記復号図形を割り付ける割付手段と、 各マス目のいくつのセグメントが前記図形によって占有されているかに関して各マス目のどの程度が図形によって占有されているかを規定する占有率を計算する計算手段と、 前記占有率にそれぞれ対応する0?nの階調を表わす多階調レベルを出力する出力手段により構成されるパターンデータ生成装置。」 3-2.引用例 原査定の拒絶の理由に引用された特開平7-260699号公報(以下、引用例1という。)には、図面とともに以下の記載がなされている。 (1)「【特許請求の範囲】 【請求項1】 画像メモリ(7)に格納された被検査用画像データ(D1)と、設計データ(D2)に基づいてデータ処理装置(15)により生成された比較用画像データ(D3)とを比較回路(13)で比較して、被検査用画像データ(D1)に含まれる欠陥データを検出する画像データ比較装置であって、 前記データ処理装置(15)には、前記設計データ(D2)に基づいて前記被検査用画像データ(D1)より細かい画素寸法で生成した基本画像データをあらかじめ生成し、前記基本画像データに基づいて前記被検査用画像データ(D1)と画素寸法が等しい前記比較用画像データ(D3)を生成する画素寸法調整回路(11)を備えたことを特徴とする画像データ比較装置。 【請求項2】 前記被検査用画像データ(D1)はビットマップとして前記 画像メモリ(7)に格納され、前記基本画像データは前記被検査用画像データ(D1)より細かい画素寸法のビットマップで形成し、前記比較用画像データ(D3)は前記画素寸法調整回路(11)により前記基本画像データに基づいて前記被検査用画像データ(D1)と等しい画素寸法のビットマップで形成したことを特徴とする請求項1記載の画像データ比較装置。」 (2)「【0017】画像データ検査装置8内のデータ格納装置9は磁気ディスクあるいは磁気テープ等に設計データが格納される。前記データ格納装置9に格納される設計データは次に示す態様で格納される。 【0018】図3に示すように、マスクパターンの検査領域10が所定の走査幅Wを有する走査線Lで走査される。図4に示すように例えば一つの走査線L1内に方形の図形P1,P2が存在したとき、図形P1では一つの頂点の座標ｘ1,ｙ1と、その頂点と対角位置にある頂点の座標ｘ2,ｙ2とが図形データとして格納される。座標ｘ2,ｙ2は座標ｘ1,ｙ1を基準とした座標値として格納される。 【0019】同様に図形P2では一つの頂点の座標ｘ3,ｙ3と、その頂点と対角位置にある頂点の座標ｘ4,ｙ4とが図形データとして格納される。座標ｘ4,ｙ4は座標ｘ3,ｙ3を基準とした座標値として格納される。 【0020】前記データ格納装置9に格納された設計データはパターン展開回路11でビットマップ化される。すなわち、パターン展開回路11は例えば前記図形P1の図形データを読み出すと、座標ｘ1,ｙ1と、同ｘ2,ｙ2とに基づいて走査線L1内の図形P1を復元する。 【0021】次いで、パターン展開回路11は走査線L1の走査幅Wを例えば512ビットに分解し、図形の存在する部分を「1」とし、図形が存在しない部分を「0」として、同走査線L1を例えば図5に示すビットマップBM1に展開して、内蔵するメモリに格納する。 【0022】前記パターン読み取り装置1の画素が図5に示すビットマップBM1の4ビット分であると、パターン展開回路11は図5に実線で区画される4ビットの画素データを加算して1つの画素データとし、図6に示すビットマップBM2を生成する。 【0023】ビットマップBM2は各画素が多値を持つが、前記画像メモリ7に格納されているビットマップがこのような多値を持つものであれば、パターン展開回路11はビットマップBM2を画像メモリ12に格納する。」 上記(2)の段落【0022】の「図5に実線で区画される4ビットの画素データ」は、図5のとおり2×2のマトリックスに配列されているから、引用例1には次の発明(以下、「引用発明1」という。)が記載されているといえる。 「設計データが格納されるデータ格納装置9と、 前記データ格納装置9から読み出された図形データの一つの頂点の座標 (ｘ1,ｙ1)と、その頂点と対角位置にある頂点の座標(ｘ2,ｙ2)から、方形の図形を復元し、 前記図形の存在する部分を「1」とし、図形が存在しない部分を「0」として、ビットマップBM1に展開し、 ビットマップBM1の2×2のマトリックスに配列されている4ビットの画素データを加算し、 前記加算した値を1つの画素データとし、ビットマップBM2を生成するパターン展開回路11により構成される画像データ比較装置。」 また、原査定の拒絶の理由に引用された特開平4-34434号公報(以下、引用例2という。)には、図面とともに以下の記載がなされている。 (3)「(産業上の利用分野) 本発明は、図形情報をビットパターンイメージとして展開するビットパターン展開方法およびその装置とそれらを利用し半導体の製造等に用いられるマスクあるいはレチクル等の欠陥を検査するためのパターン欠陥検査方法およびその装置に関する。」 (第5頁右上欄第17行-左下欄第3行) (4)「第2図はパラメータコンディショナ9とビットパターン発生回路7の概略図を示すものであり、その構成は種々考えられるものであるが、ここではその例を示す。したがってこれに限定されるものではない。計算機6で変換処理された設計パターンデータは、検査に必要な一部をビットパターン発生回路7のパターンメモリ71にストアされる。記号化されているデータは次のデータ展開回路72によって基本図形データとして展開される。 すなわち、第4図に示されるように四角形、3角形、台形等の基本図形データとして図に示すようなイメージで展開していく。」 (第9頁右上欄第17行-左下欄第8行) (5)「第5図は本発明のビットパターン展開回路の第1の実施例である。ベクトルデータ21(ベクトルデータとは、任意図形の形状を解析し、線分あるいは三角形・四角形等の簡単な基本要素図形の集合として認識し、要素図形毎に位置、大きさ、線分の方向等をベクトルデータとして記録するものである。)はこの回路の上位制御計算機のディスク装置やメモリに保存されている。保存されているデータの形態は第6図に例示した図形の場合は、直角三角形と四角形の要素図形に分割して、第7図に示すように要素図形ごとの集合体としである。 要素図形の情報は、同じ直角三角形でもｘ,ｙ座標軸に対してどの状態になっているかの情報が織り込まれている。ベクトルデータ21の要素情報の、図形コードは図形コードレジスタ26に、また(ｘ,ｙ)座標、および図形の辺の長さは、それぞれレジスタ22乃至25に書き込まれる。」 (第10頁左下欄第3行-第19行) したがって、引用例2には次の発明(以下、「引用発明2」という。)が記載されている。 「任意図形の形状を解析し、線分あるいは三角形・四角形等の簡単な基本要素図形の集合として認識し、要素図形毎に位置、大きさ、線分の方向等をベクトルデータとして、メモリに保存されている設計パターンデータから基本図形データを展開するビットパターン発生回路。」 3-3.対比 引用発明1の「設計データが格納されるデータ格納装置9」は、後述の相違点1の点を除いて、本願発明の「パターン設計者により用意され設計パターンを表わす複数の設計パタ一ンデ一タを格納する記憶手段」と、設計パターンを表わす複数の設計パターンデータを格納する機能の点で共通する。 引用発明1の「前記データ格納装置9から読み出された図形データの一つの頂点の座標 (ｘ1,ｙ1)と、その頂点と対角位置にある頂点の座標(ｘ2,ｙ2)から、方形の図形を復元し」とする機能は、図形データから図形を復元することは、復号図形を得ることといえるから、後述の相違点2の点を除いて、本願発明の「前記記憶手段から読出された各設計パターンから、図形形状と、図形位置と、図形寸法とを有する復号図形を得る復号手段」と、記憶手段から読出された各設計パターンから復号図形を得る機能の点で共通する。 引用発明1の「前記図形の存在する部分を「1」とし、図形が存在しない部分を「0」として、ビットマップBM1に展開し」とする機能は、ビットマップBM1の2×2のマトリックスに配列されている4ビットの画素データを加算した値を1つの画素データとし、ビットマップBM2が生成されるので、ビットマップBM1の画素及びビットマップBM2の画素がそれぞれ本願発明の「セグメント」及び「マス目」に対応することから、本願発明の「各々が所定の寸法をもちマトリックスに配列された複数のセグメントに分割される複数のマス目に前記復号図形を割り付ける割付手段」と、その機能の点で共通する。 引用発明1の「ビットマップBM1の2×2のマトリックスに配列されている4ビットの画素データを加算し」とする機能は、ビットマップBM1では、図形の存在する部分を「1」とし、図形が存在しない部分を「0」としていることから、4ビットの画素データを加算することは、「マス目」に対応するビットマップBM2の画素の、いくつの「セグメント」に対応するビットマップBM1の画素が図形によって占有されているかを規定する数値を計算することといえるから、後述の相違点3の点を除いて、本願発明の「各マス目のいくつのセグメントが前記図形によって占有されているかに関して各マス目のどの程度が図形によって占有されているかを規定する占有率を計算する計算手段」と、各マス目のいくつのセグメントが前記図形によって占有されているかに関して各マス目のどの程度が図形によって占有されているかを規定する数値を計算する機能の点で共通する。 引用発明1の「前記加算した値を1つの画素データとし、ビットマップBM2を生成する」とする機能は、「マス目」に対応するビットマップBM2の画素の、いくつの「セグメント」に対応するビットマップBM1の画素が図形によって占有されているかを規定する数値にそれぞれ対応する多値の画像データを生成するから、本願発明の「前記占有率にそれぞれ対応する0?nの階調を表わす多階調レベルを出力する出力手段」と、マス目のいくつのセグメントが図形によって占有されているかを規定する数値にそれぞれ対応する0?nの階調を表わす多階調レベルを出力する機能の点で共通する。 また、引用発明1の画像データ比較装置が、パターンデータ生成装置としての機能を有することは明らかである。 したがって、本願発明と引用発明とを対比すると、次の点で一致する。 「設計パターンを表わす複数の設計パターンデータを格納する記憶手段と、 前記記憶手段から読出された各設計パターンから、復号図形を得る復号手段と、 各々が所定の寸法をもちマトリックスに配列された複数のセグメントに分割される複数のマス目に前記復号図形を割り付ける割付手段と、 各マス目のいくつのセグメントが前記図形によって占有されているかに関して各マス目のどの程度が図形によって占有されているかを規定する数値を計算する計算手段と、 前記数値にそれぞれ対応する0?nの階調を表わす多階調レベルを出力する出力手段により構成されるパターンデータ生成装置。」 また次の点で相違する。 相違点1 本願発明の「設計パタ一ンデ一タ」は「パターン設計者により用意され」と特定されているのに対して、引用発明1のものにはそのような特定がなされていない点。 相違点2 本願発明の「復号手段」は、「図形形状と、図形位置と、図形寸法とを有する復号図形」を得るものであるのに対して、引用発明1のものは「方形の図形」を復元することしか示されていない点。 相違点3 本願発明の「計算手段」は、「各マス目のいくつのセグメントが前記図形によって占有されているかに関して各マス目のどの程度が図形によって占有されているかを規定する数値」として占有率を計算するのに対して、引用発明1のものは「ビットマップBM1の2×2のマトリックスに配列されている4ビットの画素データを加算し」とするので、各ビットマップBM2の画素(マス目)の図形によって占有されているビットマップBM1の画素(セグメント)の数を計算するものであり、本願発明の「出力手段」も「占有率にそれぞれ対応する0?nの階調を表わす多階調レベルを出力する」のに対して、引用発明1のものは各ビットマップBM2の画素(マス目)の図形によって占有されているビットマップBM1の画素(セグメント)の数を画素データとする点。 3-4.相違点に対する判断 相違点1について 設計パターンがパターン設計者により設計されることは普通のことであるから、設計パターンデータをパターン設計者により用意されたものとすることに格別の点はない。 相違点2について 引用発明2のように、「任意図形の形状を解析し、線分あるいは三角形・四角形等の簡単な基本要素図形の集合として認識し、要素図形毎に位置、大きさ、線分の方向等をベクトルデータとして、メモリに保存されている設計パターンデータから基本図形データを展開するビットパターン発生回路。」が知られているから、方形の図形を復元するだけではなく、「図形形状と、図形位置と、図形寸法とを有する復号図形」を得るようにすることに困難な点はない。 相違点3について 数値を割合で表すか、数そのままで表すかは設計事項といえる程度のことであり、「各マス目のいくつのセグメントが前記図形によって占有されているかに関して各マス目のどの程度が図形によって占有されているかを規定する数値」として占有率を計算するか、各ビットマップBM2の画素(マス目)の図形によって占有されているビットマップBM1の画素(セグメント)の数そのものを計算するかに、格別の相違はなく、どちらに基づいて対応する階調を表わす多階調レベルを出力するかについても、設計事項といえる程度のことである。 したがって、引用発明1において、各相違点を本願発明のようにすることに困難な点はないから、本願発明は、引用発明1及び2に基づき、当業者が容易に発明をすることができたものである。 3-5.むすび 以上のとおり、本願発明は、引用発明1及び2に基づいて、当業者が容易に発明をすることができたものであるから、特許法第29条第2項の規定により特許を受けることができない。 よって、結論のとおり審決する。 |
| 審理終結日 | 2008-02-28 |
| 結審通知日 | 2008-03-04 |
| 審決日 | 2008-03-17 |
| 出願番号 | 特願平8-254987 |
| 審決分類 |
P
1
8・
121-
Z
(G06T)
P 1 8・ 572- Z (G06T) |
| 最終処分 | 不成立 |
| 前審関与審査官 | 橋爪 正樹、樋口 宗彦 |
| 特許庁審判長 |
原 光明 |
| 特許庁審判官 |
加藤 恵一 井上 健一 |
| 発明の名称 | 設計データに基づく図形データ展開装置 |
| 代理人 | 河野 哲 |
| 代理人 | 橋本 良郎 |
| 代理人 | 村松 貞男 |
| 代理人 | 鈴江 武彦 |
| 代理人 | 中村 誠 |