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| 審決分類 |
審判 査定不服 5項独立特許用件 特許、登録しない。 C09K 審判 査定不服 1項3号刊行物記載 特許、登録しない。 C09K |
|---|---|
| 管理番号 | 1196076 |
| 審判番号 | 不服2006-17981 |
| 総通号数 | 114 |
| 発行国 | 日本国特許庁(JP) |
| 公報種別 | 特許審決公報 |
| 発行日 | 2009-06-26 |
| 種別 | 拒絶査定不服の審決 |
| 審判請求日 | 2006-08-17 |
| 確定日 | 2009-04-06 |
| 事件の表示 | 平成9年特許願第8771号「研磨用組成物」拒絶査定不服審判事件〔平成10年8月4日出願公開、特開平10-204416〕について、次のとおり審決する。 |
| 結論 | 本件審判の請求は、成り立たない。 |
| 理由 |
第1 手続の経緯 本願は、平成9年1月21日の出願であって、平成18年4月25日付けの拒絶理由通知に対して、同年6月27日に意見書が提出されたところ同年7月13日付けで拒絶査定がされ、これに対し、同年8月17日に拒絶査定に対する審判請求がされた後に同年9月19日に手続補正書が提出され、その後、平成20年5月21日付けで審尋がされ、これに対して、同年7月22日に回答書が提出されたものである。 第2 平成18年9月19日付けの手続補正についての補正の却下の決定 [補正の却下の決定の結論] 平成18年9月19日付けの手続補正を却下する。 [理由] 1 補正の内容 平成18年9月19日付け手続補正(以下、「本件補正」という。)は、本件補正前の特許請求の範囲の請求項1である、 「二酸化ケイ素、酸化アルミニウム、酸化セリウム、酸化ジルコニウム、酸化チタン、窒化ケイ素、および二酸化マンガンからなる群より選ばれる少なくとも1種類の研磨材および水を含んでなるメモリーハードディスクの研磨用組成物であって、さらにこの組成物中に溶存している鉄化合物を含んでなることを特徴とする、メモリーハードディスクの研磨用組成物。」 を、 「二酸化ケイ素、酸化アルミニウム、酸化セリウム、酸化ジルコニウム、酸化チタン、窒化ケイ素、および二酸化マンガンからなる群より選ばれる少なくとも1種類の研磨材および水を含んでなるメモリーハードディスクの研磨用組成物であって、さらにこの組成物中に溶存している無機酸鉄塩を含んでなることを特徴とする、メモリーハードディスクの研磨用組成物。」 とする補正事項を含むものである。 2 補正の適否について (1) 新規事項の追加及び補正の目的について 本件補正は、補正前の「鉄化合物」をこの出願の願書に最初に添付した明細書の記載に基づき「無機酸鉄塩」と限定して特定するものであるから、同明細書に記載した事項の範囲内においてしたものであり、また補正前の請求項1に記載した発明を特定するために必要な事項を限定するものである。 したがって、本件補正は、特許法17条の2第3項に規定する要件を満たすものであり、また平成18年法律第55号改正附則3条1項によりなお従前の例によるとされる同法による改正前の特許法17条の2第4項2号に掲げる特許請求の範囲の減縮を目的とするものである。 (2) 独立特許要件について そこで、本件補正後の特許請求の範囲の請求項1に記載されている事項により特定される発明が特許出願の際独立して特許を受けることができるものであるか(すなわち、平成18年法律第55号改正附則3条1項によりなお従前の例によるとされる同法による改正前の特許法17条の2第5項において準用する同法126条5項の規定に違反しないものであるか)どうかについて、以下、検討する。 ア 本件補正発明 平成18年9月19日付けの手続補正により補正された特許請求の範囲の請求項1に係る発明は以下のとおりのものである。 「二酸化ケイ素、酸化アルミニウム、酸化セリウム、酸化ジルコニウム、酸化チタン、窒化ケイ素、および二酸化マンガンからなる群より選ばれる少なくとも1種類の研磨材および水を含んでなるメモリーハードディスクの研磨用組成物であって、さらにこの組成物中に溶存している無機酸鉄塩を含んでなることを特徴とする、メモリーハードディスクの研磨用組成物。」 (以下、これを「本件補正発明」という。) イ 刊行物について 本願出願前に頒布された刊行物である特開平3-76782号公報(原審における拒絶理由の引用例1。以下、「刊行物1」という。)には、以下の事項が記載されている。 a 「1.金属表面を研磨する方法であって、 (a)水、研磨剤および塩を含有する水性研磨組成物を提供すること、ここで、該塩は、酸と塩基との反応および酸と金属との反応からなる群から選択された反応の反応産物であって、該塩はカチオン成分およびアニオン成分を含有し、該カチオン成分は、研磨される金属表面で無電解めっきによって沈澱しないイオン化元素からなる群から選択される; (b)該組成物を研磨される金属表面に塗布すること;および (c)該金属表面を研磨することを包含する、方法。」(特許請求の範囲、請求項1) b 「(産業上の利用分野) 本発明は、金属表面の速い研磨速度を提供し、高品質の表面を作り出す研磨組成物を用いた金属表面を研磨する方法および新規な金属研磨組成物に関する。 特に、本発明は、研磨剤、塩もしくは塩の組み合せおよび所望により酸を含有する水性研磨組成物を用いて、金属光学、記憶ディスク、工作機械、コンパクトディスクスタンパー、装飾金属表面、機械部品等の金属表面を研磨する方法および本方法に使用される新規な組成物に関する。」(2頁右下欄7?16行) c 「本発明は、研磨剤および塩もしくは塩の組み合せを含有する水性研磨組成物が、アルミニウム、ニッケル、鉄、スチール、銅、ベリリウム、亜鉛、チタン、クロム等の様な金属表面、特に、高度に研磨された鏡状の表面が望ましい、もしくは必須である、記憶ディスク、宇宙船や望遠鏡の鏡等に用いられる金属光学機器の様な金属表面を高度に研磨するという発見に基づいている。 本発明に用いられる研磨剤は、金属表面を研磨するのに用いられる、粒子状の適当な研磨剤であればどの様なものでも良い。一般的な研磨剤は、例えば、酸化アルミニウム、酸化セリウム、酸化ジルコニウム、酸化スズ、二酸化ケイ素、シリコンカーバイド、二酸化チタンおよびチタニウムカーバイドを含む。」(3頁左下欄3?17行) d 「本発明の塩成分は、酸と塩基もしくは酸と金属との反応産物である。 ・・・ 本発明の好ましい方法に用いられた好ましい水性研磨組成物は、塩化アルミニウム、硝酸ジルコニル、硫酸ジルコニル、硝酸セリウム、硝酸アルミニウム、臭化アルミニウム、ヨー化アルミニウム、塩化アルミニウム、塩化ジルコニル、塩化スズ、過塩素酸アルミニウム、塩化マグネシウム、塩化亜鉛、過塩素酸マグネシウム、塩化鉄等を有する少なくとも1種の塩を用いて調製され得る。」(3頁右下欄17行?4頁右上欄13行) e 「研磨組成物は、塩もしくは塩の組み合せ、研磨剤および水を均一に混合することによって作られる。」(4頁左下欄15?17行) f 「(実施例) 次に挙げる実施例1、2および3で研磨された金属基板は、直径130mmのニッケルめっきアルミニウム記憶ディスクであった。表示研磨組成物は、記憶ディスクに塗布され、Rodel Suba 750研磨パッドを装備したHahn & Kolb 2L-801-S研磨機で研磨された。次の研磨試験の終了後、金属の表面は、しみ、傷等の有無を検査された。金属表面は、その後、特定の研磨組成物の効果を評価するために表1および表2に記載の対照試験と比較された。表面の粗さは、Tencor Alpha Step 200テスターで測定された。」(5頁右上欄10行左下欄1行) g 「実施例3 カリウム塩、鉄塩、マグネシウム塩および亜鉛塩を有する一連の水性研磨組成物が、表3に示されるように調製された。塩は、単体でもしくは組み合わせて、研磨組成物の約0.25重量%から約0.5重量%の量で存在した。前記の加えられた塩の量は、金属表面と塩の反応で発生する酸化物がより簡単に除去されるので、アルミニウム塩の場合よりもかなり少なかった。」(6頁左下欄下から5行?右下欄4行) h 「  」(7頁左上欄) ウ 対比・判断 (ア) 刊行物に記載された発明 刊行物1には 「1.金属表面を研磨する方法であって、 (a)水、研磨剤および塩を含有する水性研磨組成物を提供すること、ここで、該塩は、酸と塩基との反応および酸と金属との反応からなる群から選択された反応の反応産物であって、該塩はカチオン成分およびアニオン成分を含有し、該カチオン成分は、研磨される金属表面で無電解めっきによって沈澱しないイオン化元素からなる群から選択される; (b)該組成物を研磨される金属表面に塗布すること;および (c)該金属表面を研磨することを包含する、方法。」(摘示a) に関する発明が記載されており、また、 「本発明は、研磨剤、塩もしくは塩の組み合せおよび所望により酸を含有する水性研磨組成物を用いて、・・・記憶ディスク・・・の金属表面を研磨する方法および本方法に使用される新規な組成物に関する。」(摘示b)こと、 「本発明に用いられる研磨剤は、金属表面を研磨するのに用いられる、粒子状の適当な研磨剤であればどの様なものでも良い。一般的な研磨剤は、例えば、酸化アルミニウム・・・を含む。」(摘示c)こと、 「本発明の好ましい方法に用いられた好ましい水性研磨組成物は、・・・塩化鉄等を有する少なくとも1種の塩を用いて調製され得る。」(摘示d)こと、及び 「研磨組成物は、塩もしくは塩の組み合せ、研磨剤および水を均一に混合することによって作られる。」(摘示e)こと、 が記載されている。 そして、これらの点が記載された後、特に、実施例3には、鉄塩(具体的には、組成サンプル番号9及び組成サンプル番号10において、それぞれ、塩化鉄(FeCl_(3))が0.25重量%及び0.5重量%)と研磨剤である1μmアルミナを10%固形分含有する水性研磨組成物が調製され、当該水性研磨組成物で直径130mmのニッケルめっきアルミニウム記憶ディスクの金属基板を研磨して、平均除去(μm)と平均表面粗さ(Å)を測定した結果が示されている(摘示f?摘示h)。 ここで、アルミナは酸化アルミニウムと同義であり、また、塩化鉄(FeCl_(3))の溶解度は水0°,74.4g/100g ; 100°,535.8g/100g である(「化学大辞典1 縮刷版」(1989年8月15日 縮刷版第32刷発行),発行所 共立出版株式会社,「えんかてつ 塩化鉄」の項,1051頁右欄3?4行参照。)から、刊行物1における組成サンプル番号9(FeCl_(3):0.25重量%)及び組成サンプル番号10(FeCl_(3):0.5重量%)の塩化鉄(FeCl_(3))を含有する水性研磨組成物は、塩化鉄(FeCl_(3))が水性研磨組成物中に溶存していることは明らかである。 してみると、本件補正発明の記載ぶりに合わせると、刊行物1には、 「酸化アルミニウムよりなる研磨材および水を含んでなる記憶ディスクの水性研磨組成物であって、さらにこの組成物中に溶存している塩化鉄(FeCl_(3))を含んでなる、記憶ディスクの水性研磨組成物。」 という発明(以下「引用発明」という。)が記載されていると認められる。 (イ) 本件補正発明と引用発明との対比 引用発明における「記憶ディスク」及び「水性研磨組成物」は、それぞれ、本件補正発明における「メモリーハードディスク」及び「研磨用組成物」に対応すること、及び本件補正発明における「無機酸鉄塩」と引用発明における「塩化鉄(FeCl_(3))」は共に鉄を含有する化合物であるといえること、を考慮して本件補正発明と引用発明とを対比すると、両者は、 「酸化アルミニウムよりなる研磨材および水を含んでなるメモリーハードディスクの研磨用組成物であって、さらにこの組成物中に溶存している鉄を含有する化合物を含んでなる、メモリーハードディスクの研磨用組成物。」 の点で一致するが、鉄を含有する化合物について、本件補正発明が「無機酸鉄塩」と規定するのに対し、引用発明においては「塩化鉄(FeCl_(3))」である点で一応相違すると認められる。 (以下、この一応の相違点を「本件相違点」という。) (ウ) 本件相違点についての判断 まず、引用発明における塩化鉄(FeCl_(3))は、無機酸である塩酸と鉄との塩であるから、無機酸鉄塩であるといえる。 しかも、本願明細書には「この鉄塩は、無機酸鉄塩または有機酸鉄塩のいずれであってもよい。用いる鉄化合物は、本発明の効果を損なわないものであれば特に限定されず、・・・塩化鉄・・・(それぞれ鉄の価数は2価、3価、またはそれ以上であってよい)、など・・・であってもよい。」(段落【0033】)と記載されており、そして塩化鉄(FeCl_(3))は、有機酸鉄塩ではなく、無機酸鉄塩であるから、本件補正発明における「無機酸鉄塩」には「塩化鉄(FeCl_(3))」が包含されているものと認められる。 してみると、本件相違点は実質的な相違点であるとは認められない。 エ 小括 したがって、本件補正発明は、刊行物1に記載された発明(引用発明)であるから、特許法29条1項3号の規定により特許を受けることができないものである。 3 補正の却下の決定のむすび 以上のとおり、本件補正発明は特許法29条1項3号の規定により特許を受けることができないものであるから、本件補正発明は特許出願の際独立して特許を受けることができるものではないので、本件補正は平成18年法律第55号改正附則3条1項によりなお従前の例によるとされる同法による改正前の特許法17条の2第5項において準用する同法126条5項の規定に違反する。 したがって、本件補正は、その余の点を検討するまでもなく、同法159条1項の規定において読み替えて準用する同法53条1項の規定により却下すべきものである。 第3 本願発明について 1 本願発明 本件補正は上記のとおり却下されたから、本願発明は、拒絶査定時の特許請求の範囲に記載されたとおりのものと認められ、その請求項1に係る発明は以下のとおりのものである。 「二酸化ケイ素、酸化アルミニウム、酸化セリウム、酸化ジルコニウム、酸化チタン、窒化ケイ素、および二酸化マンガンからなる群より選ばれる少なくとも1種類の研磨材および水を含んでなるメモリーハードディスクの研磨用組成物であって、さらにこの組成物中に溶存している鉄化合物を含んでなることを特徴とする、メモリーハードディスクの研磨用組成物。」 (以下、これを「本願発明」という。) 2 原査定の理由の概要 原査定の拒絶の理由は、本願発明は、その出願前に頒布された引用例1(特開平3-76782号公報)に記載された発明であるから、特許法29条1項3号に該当し、特許を受けることができない、という事項を含むものである。 3 当審の判断 (1) 刊行物について 原査定の拒絶の理由で引用された引用例1(特開平3-76782号公報)は、先に「第2 2(2)イ」に示した刊行物1と同じものであるので、以下、これを「第2 2(2)イ」と同様に「刊行物1」という。 そして、刊行物1の記載事項は、先に「第2 2(2)イ」に記載したとおりである。 (2) 対比・判断 ア 刊行物1に記載された発明 刊行物1には、先に「第2 2(2)ウ(ア)」に示したのと同様の理由により、本願発明の記載ぶりに合わせると、 「酸化アルミニウムよりなる研磨材および水を含んでなる記憶ディスクの水性研磨組成物であって、さらにこの組成物中に溶存している塩化鉄(FeCl_(3))を含んでなる、記憶ディスクの水性研磨組成物。」 という発明(以下、「第2 2(2)ウ(ア)」と同様に「引用発明」という。)が記載されていると認められる。 イ 本願発明と引用発明との対比 先に「第2 2(2)ウ(イ)」に示した点を考慮して本願発明と引用発明とを対比すると、両者は、 「酸化アルミニウムよりなる研磨材および水を含んでなるメモリーハードディスクの研磨用組成物であって、さらにこの組成物中に溶存している鉄を含有する化合物を含んでなる、メモリーハードディスクの研磨用組成物。」 の点で一致するが、鉄を含有する化合物について、本願発明が「鉄化合物」と規定するのに対し、引用発明においては「塩化鉄(FeCl_(3))」である点で一応相違すると認められる。 (以下、この一応の相違点を「本願相違点」という。) ウ 本願相違点についての判断 まず、引用発明における塩化鉄(FeCl_(3))は、鉄を含有する化合物であるから、鉄化合物であるといえる。 しかも、本願明細書には「用いる鉄化合物は、本発明の効果を損なわないものであれば特に限定されず、・・・塩化鉄・・・(それぞれ鉄の価数は2価、3価、またはそれ以上であってよい)、など・・・であってもよい。」(段落【0033】)と記載されているから、本願発明における「鉄化合物」には「塩化鉄(FeCl_(3))」が包含されているものと認められる。 してみると、本件相違点は実質的な相違点であるとは認められない。 エ 請求人の主張について 請求人は、審判請求書についての平成18年11月6日付け手続補正書の「3.本願発明が特許されるべき理由」の項において、 「今回補正されたところの発明は、引用例に記載された数多くの金属の中から鉄だけを選択し、さらにその無機酸塩だけが、メモリーハードディスクに適した、昨今の精密な研磨面と大きな研磨速度とを両立できることを見出すことにより達成されたものであり、そのような鉄のみを選択し、さらに無機酸塩とすることにより、このような顕著な効果を達成できることがいずれの引用例にも示唆されていないのですから、本願発明は、引用例1?3に記載された発明とは異なるものであり、またそれらから推考容易なものではないと本出願人は思料いたします。」 と主張している。 しかしながら、先に「第2」で述べたように本件補正は却下されたし、しかも、前記ウで述べたように、本願発明における「鉄化合物」には「塩化鉄」が包含されているものと認められるから、発明特定事項に差異がない以上、引用発明においても本願発明と同様の効果を奏すると解するほかないので、請求人の主張は審決の結論を左右するものではない。 (3) 小括 したがって、本願発明は、刊行物1に記載された発明(引用発明)であるから、特許法29条1項3号の規定により特許を受けることができないものである。 第4 むすび 以上のとおり、本願発明は特許法29条1項3号の規定により特許を受けることができないものであるから、本願は、その余の請求項に係る発明について検討するまでもなく、拒絶すべきものである。 よって、結論のとおり審決する。 |
| 審理終結日 | 2009-02-03 |
| 結審通知日 | 2009-02-06 |
| 審決日 | 2009-02-20 |
| 出願番号 | 特願平9-8771 |
| 審決分類 |
P
1
8・
113-
Z
(C09K)
P 1 8・ 575- Z (C09K) |
| 最終処分 | 不成立 |
| 前審関与審査官 | 小川 知宏 |
| 特許庁審判長 |
唐木 以知良 |
| 特許庁審判官 |
鈴木 紀子 中田 とし子 |
| 発明の名称 | 研磨用組成物 |
| 代理人 | 吉武 賢次 |
| 代理人 | 中村 行孝 |
| 代理人 | 横田 修孝 |
| 代理人 | 紺野 昭男 |