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| 審決分類 |
審判 査定不服 特36条6項1、2号及び3号 請求の範囲の記載不備 特許、登録しない(前置又は当審拒絶理由)(定型) H01L 審判 査定不服 特36条4項詳細な説明の記載不備 特許、登録しない(前置又は当審拒絶理由)(定型) H01L |
|---|---|
| 管理番号 | 1216973 |
| 審判番号 | 不服2007-11808 |
| 総通号数 | 127 |
| 発行国 | 日本国特許庁(JP) |
| 公報種別 | 特許審決公報 |
| 発行日 | 2010-07-30 |
| 種別 | 拒絶査定不服の審決 |
| 審判請求日 | 2007-04-24 |
| 確定日 | 2010-05-17 |
| 事件の表示 | 特願2000-294406「シリコンウェーハの熱処理方法」拒絶査定不服審判事件〔平成14年4月12日出願公開,特開2002-110685〕について,次のとおり審決する。 |
| 結論 | 本件審判の請求は,成り立たない。 |
| 理由 |
本願は,平成12年9月27日の出願であって,「シリコンウェーハの熱処理方法」に関するものと認める。 これに対して,平成21年12月17日付けで,本願は,その明細書と図面の記載が不備で特許法第36条第4項に規定する要件を満たしていない旨の拒絶理由を通知したが,依然として上記の拒絶理由で指摘した不備の点 は解消していない。 したがって,本願は,上記の拒絶理由によって拒絶すべきものである。 よって,結論のとおり審決する。 |
| 審理終結日 | 2010-03-15 |
| 結審通知日 | 2010-03-16 |
| 審決日 | 2010-04-06 |
| 出願番号 | 特願2000-294406(P2000-294406) |
| 審決分類 |
P
1
8・
537-
WZF
(H01L)
P 1 8・ 536- WZF (H01L) |
| 最終処分 | 不成立 |
| 前審関与審査官 | 萩原 周治 |
| 特許庁審判長 |
相田 義明 |
| 特許庁審判官 |
高橋 宣博 近藤 幸浩 |
| 発明の名称 | シリコンウェーハの熱処理方法 |
| 代理人 | 石原 詔二 |
| 代理人 | 石原 進介 |