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審決分類 |
審判 査定不服 2項進歩性 取り消して特許、登録 G01B 審判 査定不服 特36条6項1、2号及び3号 請求の範囲の記載不備 取り消して特許、登録 G01B |
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管理番号 | 1226412 |
審判番号 | 不服2008-32700 |
総通号数 | 132 |
発行国 | 日本国特許庁(JP) |
公報種別 | 特許審決公報 |
発行日 | 2010-12-24 |
種別 | 拒絶査定不服の審決 |
審判請求日 | 2008-12-25 |
確定日 | 2010-11-24 |
事件の表示 | 平成10年特許願第331297号「薄膜磁気ヘッド寸法・配列測定方法および薄膜磁気ヘッド寸法・配列測定装置」拒絶査定不服審判事件〔平成12年6月6日出願公開、特開2000-155015、請求項の数(6)〕について、次のとおり審決する。 |
結論 | 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。 |
理由 |
本願は、平成10年11月20日の出願であって、その請求項1ないし6に係る発明は、特許請求の範囲の請求項1ないし6に記載された事項により特定されるとおりのものであると認める。 そして、本願については、原査定の拒絶理由を検討してもその理由によって拒絶すべきものとすることはできない。 すなわち、原審で引用された下記刊行物1ないし5のいずれにも、請求項1に係る発明を特定する事項である「磁気抵抗効果素子と研磨加工用抵抗検知素子を順次撮像し、該撮像して得た画像信号を上記ステージの真直度プロファイルを用いて補正する」構成について記載されていない。 すなわち、刊行物1は、薄膜磁気ヘッドにおける加工量検知用マーカー及び該マーカーを用いた薄膜磁気ヘッドの製造方法に係るものであって、マーカーは目視又はパターン認識により検知するものの、パターン認識の具体的構成については記載されていない。 刊行物2、刊行物3は、いずれも半導体製造装置において300nm台以下の波長光の光源を用いることが周知であることを示すにとどまる。 刊行物4には、基板上に変換器と共に研磨加工用抵抗検知素子を形成して、その研磨加工用抵抗検知素子の抵抗値から変換器の高さを測定する薄膜磁気ヘッドが、刊行物5には、トワイマン・グリーンタイプの干渉計で物体の形状を測定する方法及び装置が記載されているに過ぎない。 請求項1の従属請求項である請求項2,3についても同様である。 同様に、上記刊行物1ないし5のいずれにも、請求項4に係る発明を特定する事項である「磁気抵抗効果素子と研磨加工用抵抗検知素子を順次撮像して得た画像信号を上記ステージ変位計測手段で計測して得た上記ステージ手段の真直度プロファイルを用いて補正する」構成が記載されていない。 そして、上記構成により本願請求項1及び請求項4に係る発明は、「トラック幅Wt が0.5μm以下の微細なMR素子、あるいは抵抗検知素子の各種寸法と配列誤差の高精度な計測が・・・可能になる」という明細書に記載の効果を奏し得る。 以上のことは、請求項1を引用する請求項2,3に係る発明についても同様であり、また、請求項4を引用する請求項5,6に係る発明についても同様である。 したがって、本願請求項1ないし6に係る発明は、いずれも、刊行物1?5に記載された発明に基づいて、当業者といえども容易に発明をすることができたものではない。 また、特許請求の範囲に記載された発明が明確でないともいえない。 さらに、他に本願を拒絶すべき理由を発見しない。 よって、結論のとおり審決する。 記 刊行物1.特開平2-29913号公報 刊行物2.特開平10-185531号公報 刊行物3.特開平8-94338号公報 刊行物4.特開昭63-191570号公報 刊行物5.特開平10-141926号公報 |
審決日 | 2010-11-11 |
出願番号 | 特願平10-331297 |
審決分類 |
P
1
8・
121-
WY
(G01B)
P 1 8・ 537- WY (G01B) |
最終処分 | 成立 |
前審関与審査官 | 鈴野 幹夫、横林 秀治郎 |
特許庁審判長 |
飯野 茂 |
特許庁審判官 |
後藤 亮治 山川 雅也 |
発明の名称 | 薄膜磁気ヘッド寸法・配列測定方法および薄膜磁気ヘッド寸法・配列測定装置 |
代理人 | 特許業務法人 武和国際特許事務所 |