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| 審決分類 |
審判 査定不服 特36条6項1、2号及び3号 請求の範囲の記載不備 取り消して特許、登録(定型) C23C 審判 査定不服 2項進歩性 取り消して特許、登録(定型) C23C 審判 査定不服 特36条4項詳細な説明の記載不備 取り消して特許、登録(定型) C23C |
|---|---|
| 管理番号 | 1237108 |
| 審判番号 | 不服2009-17781 |
| 総通号数 | 139 |
| 発行国 | 日本国特許庁(JP) |
| 公報種別 | 特許審決公報 |
| 発行日 | 2011-07-29 |
| 種別 | 拒絶査定不服の審決 |
| 審判請求日 | 2009-09-24 |
| 確定日 | 2011-06-09 |
| 事件の表示 | 特願2001-512943「微結晶質Si:H膜を製造するためのプラズマCVD方法及び装置」拒絶査定不服審判事件〔平成13年 2月 1日国際公開、WO01/07678、平成15年 2月12日国内公表、特表2003-505596、請求項の数(19)〕について、次のとおり審決する。 |
| 結論 | 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。 |
| 理由 |
本願は、平成12年 7月25日(パリ条約による優先権主張 1999年 7月26日 (DE)ドイツ連邦共和国)を国際出願日とする出願であって、その発明は、平成23年5月6日付けで補正された明細書の特許請求の範囲の請求項1?19に記載された事項により特定されるとおりのものであると認める。 そして、本願については、原査定の拒絶理由を検討してもその理由によって拒絶すべきものとすることはできない。 また、他に本願を拒絶すべき理由を発見しない。 よって、結論のとおり審決する。 |
| 審決日 | 2011-05-30 |
| 出願番号 | 特願2001-512943(P2001-512943) |
| 審決分類 |
P
1
8・
536-
WYF
(C23C)
P 1 8・ 121- WYF (C23C) P 1 8・ 537- WYF (C23C) |
| 最終処分 | 成立 |
| 前審関与審査官 | 若土 雅之 |
| 特許庁審判長 |
吉水 純子 |
| 特許庁審判官 |
志水 裕司 大橋 賢一 |
| 発明の名称 | 微結晶質Si:H膜を製造するためのプラズマCVD方法及び装置 |
| 代理人 | アインゼル・フェリックス=ラインハルト |
| 復代理人 | 住吉 秀一 |
| 代理人 | 久野 琢也 |
| 復代理人 | 篠 良一 |
| 代理人 | 矢野 敏雄 |
| 復代理人 | 宮城 康史 |