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審決分類 審判 全部無効 特123条1項6号非発明者無承継の特許  H01L
管理番号 1238691
審判番号 無効2008-800004  
総通号数 140 
発行国 日本国特許庁(JP) 
公報種別 特許審決公報 
発行日 2011-08-26 
種別 無効の審決 
審判請求日 2008-01-15 
確定日 2011-06-13 
事件の表示 上記当事者間の特許第3611568号「基板処理装置及び基板処理方法及び基板の製造方法」の特許無効審判事件についてされた平成20年10月14日付け審決に対し、知的財産高等裁判所において審決取消の判決(平成20年(行ケ)第10427号平成21年 6月29日判決言渡)があったので、更に審理の上、次のとおり審決する。 
結論 特許第3611568号の請求項1ないし20に係る発明についての特許を無効とする。 審判費用は、被請求人の負担とする。 
理由 第1 手続の経緯
1 本件特許の設定登録までの手続の経緯
本件特許第3611568号は、平成13年4月27日に出願した特願2001-170284号(以下「原出願」という。)の一部を平成15年12月11日に新たな特許出願(特願2003-413773号)とし、平成16年10月29日にその請求項1ないし20に係る発明について特許権の設定登録がされたものである。

2 本件無効審判の手続の経緯
(1)請求人は、平成20年1月15日に本件請求項1ないし20に係る発明の特許(以下総称して「本件特許」という。)についての無効審判を請求した。
(2)請求人は、平成20年2月1日付けで手続補正書、平成20年5月29日付けで第1回上申書、平成20年7月2日付けで第2回上申書、平成20年8月27日付けで審理の方式の申立書、平成20年8月29日付けで当事者尋問申出書及び尋問事項書、平成20年9月18日付けで審理再開申立書、平成20年9月24日付けで証人尋問申出書及び尋問事項書を提出し、一方、被請求人は、平成20年4月7日付けで答弁書、平成20年4月10日付けで上申書を提出した。
(3)平成20年10月14日付けで「本件審判の請求は、成り立たない。」との審決がされたところ、知的財産高等裁判所において、審決取消の判決(平成20年(行ケ)第10427号、平成21年6月29日判決言渡)がされ、同判決は確定した。
(4)請求人は、平成22年4月19日付けで証人尋問申出書及び尋問事項書、平成22年5月31日差出で上申書、平成22年9月9日差出で上申書、平成22年11月5日付けで上申書、証人尋問申出書及び尋問事項書、平成23年2月15日付けで上申書及び尋問事項書を提出し、被請求人は、平成22年7月6日付けで答弁書、平成22年9月7日付けで上申書、平成22年10月25日付けで証拠説明書、平成23年2月16日付けで口頭審理陳述要領書を提出した。
(5)平成23年3月2日に口頭審理及び証拠調べ(証人尋問)が行われた。
(6)請求人は平成23年3月4日付けで証拠申出書を提出した。

第2 本件発明
本件特許は、願書に添付された明細書の特許請求の範囲の請求項1ないし20に記載された事項により特定される次のとおりのものである。

「【請求項1】
被処理基板をローラーにて搬送するローラー搬送機構を内部に備えるとともに前記被処理基板を前記ローラー搬送機構にて搬送しつつ処理を施す複数の処理部を内部に備えた第一の処理部と、被処理基板を非ローラー搬送で搬送する第一の非ローラー搬送機構を内部に備えるとともに第一の非ローラー搬送機構にて搬送される被処理基板に対して処理を施す複数の処理部を内部に備えた第二の処理部と、この第二の処理部の上方に温調処理部を介して配置され被処理基板に対して熱処理を施す熱処理部と、前記第二の処理部外部に設けられ前記熱処理部と前記第二の処理部に対して被処理基板を非ローラー搬送で搬送する第二の非ローラー搬送機構と、前記第一の処理部と前記第二の処理部との間に配置され前記第一の処理部及び前記第二の処理部に対して被処理基板を搬送する第三の非ローラー搬送機構と、を具備したことを特徴とする基板処理装置。
【請求項2】
前記第二の処理部は、前記非ローラー搬送機構にて搬送される被処理基板に対して少なくともレジスト液を塗布するレジスト塗布処理部を含み、前記被処理基板を非ローラー搬送で搬送する非ローラー搬送機構を内部に備えるとともに非ローラー搬送機構にて搬送される被処理基板に形成されたレジスト膜に対して現像処理を施すレジスト現像処理部を含む複数の処理部を内部に備えた第三の処理部と、この第三の処理部と前記第二の処理部とは平行に配置され第三の処理部と前記第二の処理部との間に設けられた空間部と、を具備したことを特徴とする請求項1記載の基板処理装置。
【請求項3】
被処理基板を複数収納自在に構成されたカセットを複数配置するとともに前記カセットにて対して被処理基板を搬入出自在に構成された搬送機構を配置するカセット配置部を具備し、前記第一の処理部は、前記カセット配置部の搬送機構から被処理基板を直接搬入自在であり、前記第二の処理は、前記カセット配置部の搬送機構に被処理基板を直接搬出自在であり、前記第二の処理部と前記第一の処理部とは平行に配置され第二の処理部と前記第一の処理部との間に空間部が設けられたことを特徴とする請求項1又は請求項2記載の基板処理装置。
【請求項4】
被処理基板をローラーにて搬送するローラー搬送機構を内部に備えるとともに前記被処理基板を前記ローラー搬送機構にて所定の方向に搬送しつつ処理を施す複数の処理部を内部に備えた第一の処理部と、前記所定の方向上に配置され被処理基板を非ローラー搬送で搬送する第一の非ローラー搬送機構を内部に備えるとともに非ローラー搬送機構にて搬送される被処理基板に対して処理を施す複数の処理部を内部に備えた第二の処理部と、この第二の処理部と前記第一の処理部との間に配置され前記第一の処理部及び/または第二の処理部の上方に温調処理部を介して設けられた被処理基板に対して熱処理を施す熱処理部に対して被処理基板を搬送する第二の非ローラー搬送機構と、前記第一の処理部と前記第二の処理部との間に配置され前記第一の処理部及び前記第二の処理部に対して被処理基板を搬送する第三の非ローラー搬送機構と、を具備したことを特徴とする基板処理装置。
【請求項5】
被処理基板を搬送する搬送機構を内部に備えるとともにこの処理部内搬送機構にて搬送される被処理基板に対して少なくともレジスト液を塗布するレジスト塗布処理部を含む複数の処理部を内部に備えた塗布処理部と、前記塗布処理部と前記熱処理部との間に配置され前記塗布処理部及び前記熱処理部に対して被処理基板を搬送する別の搬送機構と、被処理基板を搬送する搬送機構を内部に備えるとともにこの処理部内搬送機構にて搬送される被処理基板に形成されたレジスト膜に対して現像処理を施すレジスト現像処理部を含む複数の処理部を内部に備えた現像処理部と、この現像処理部と前記塗布処理部とは平行に配置されその間に設けられた直線状の空間部と、この空間部内に配置され被処理基板を搬送する処理部外搬送機構と、を具備したことを特徴とする基板処理装置。
【請求項6】
被処理基板をローラーにて搬送するローラー搬送機構を内部に備えるとともに前記被処理基板を前記ローラー搬送機構にて所定の方向に搬送しつつ液処理を施す複数の処理部を内部に備えた液処理部と、前記所定の方向上に配置され被処理基板を非ローラー搬送で搬送する第一の非ローラー搬送機構を内部に備えるとともに前記第一の非ローラー搬送機構にて搬送される被処理基板に対してレジスト処理を施す複数の処理部を内部に備えたレジスト処理部と、このレジスト処理部と前記液処理部との間に配置され前記液処理部及び/またはレジスト処理部の上方温調処理部を介してに設けられた被処理基板に対して熱処理を施す熱処理部に対して被処理基板を搬送する第二の非ローラー搬送機構と、を具備したことを特徴とする基板処理装置。
【請求項7】
被処理基板を複数収納自在に構成されたカセットを複数配置するとともに前記カセットにて対して被処理基板を搬入出自在に構成された搬送機構を配置するカセット配置部を具備し、前記液処理部は、前記カセット配置部に接続され前記搬送機構から直接被処理基板をに対して搬入自在に構成され、前記カセット配置部に接続され前記搬送機構に被処理基板を直接搬出自在に構成されるとともに被処理基板をローラーにて搬送するローラー搬送機構を内部に備えるとともに前記被処理基板を前記ローラー搬送機構にて前記所定の方向と逆の方向に搬送しつつ液処理を施す複数の処理部を内部に備えた第二の液処理部をさらに具備したことを特徴とする請求項6記載の基板処理装置。
【請求項8】
被処理基板を複数収納自在に構成されたカセットを複数配置するとともに前記カセットにて対して被処理基板を搬入出自在に構成された搬送機構を配置するカセット配置部と、このカセット配置部に接続され前記搬送機構から被処理基板を搬入自在に構成されるとともに被処理基板をローラーにて搬送するローラー搬送機構を内部に備えるとともに前記被処理基板を前記ローラー搬送機構にて所定の方向に搬送しつつ液処理を施す複数の処理部を内部に備えた第一の液処理部と、前記所定の方向上に配置され被処理基板を非ローラー搬送で搬送する非ローラー搬送機構を内部に備えるとともに非ローラー搬送機構にて搬送される被処理基板に対して少なくともレジスト液を塗布する塗布処理部を含む複数の処理部を内部に備えたレジスト塗布処理部と、このレジスト塗布処理部と前記第一の液処理部との間に配置され前記第一の液処理部及び/またはレジスト塗布処理部の上方に温調処理部を介して設けられた被処理基板に対して熱処理を施す熱処理部に対して被処理基板を搬送する第一の搬送機構と、前記カセット配置部に接続され前記搬送機構に被処理基板を搬出自在に構成されるとともに被処理基板をローラーにて搬送するローラー搬送機構を内部に備えるとともに前記被処理基板を前記ローラー搬送機構にて所定の方向に搬送しつつ液処理を施す複数の処理部を内部に備えた第二の液処理部と、前記所定の方向上に配置され被処理基板を非ローラー搬送で搬送する非ローラー搬送機構を内部に備えるとともに非ローラー搬送機構にて搬送されるレジスト膜が形成された被処理基板に対して少なくとも現像処理を施す処理部を含む複数の処理部を内部に備えた現像処理部と、この現像処理部と前記第二の液処理部との間に配置され前記第二の液処理部及び/または現像処理部の上方に温調処理部を介して設けられた被処理基板に対して熱処理を施す熱処理部に対して被処理基板を搬送する第二の搬送機構と、を具備したことを特徴とする基板処理装置。
【請求項9】
被処理基板を複数収納自在に構成されたカセットを複数配置するとともに前記カセットにて対して被処理基板を搬入出自在に構成された搬送機構を配置するカセット配置部と、このカセット配置部に接続され前記搬送機構から被処理基板を搬入自在に構成されるとともに被処理基板をローラーにて搬送するローラー搬送機構を内部に備えるとともに前記被処理基板を前記ローラー搬送機構にて所定の方向に搬送しつつ液処理を施す複数の処理部を内部に備えた第一の液処理部と、前記所定の方向上に配置され被処理基板を非ローラー搬送で搬送する非ローラー搬送機構を内部に備えるとともに非ローラー搬送機構にて搬送される被処理基板に対して少なくともレジスト液を塗布する塗布処理部を含む複数の処理部を内部に備えたレジスト塗布処理部と、このレジスト塗布処理部と前記第一の液処理部との間に配置され前記第一の液処理部及び/またはレジスト塗布処理部の上方に温調処理部を介して設けられた被処理基板に対して熱処理を施す熱処理部に対して被処理基板を搬送する第一の搬送機構と、前記カセット配置部に接続され前記搬送機構に被処理基板を搬出自在に構成されるとともに被処理基板をローラーにて搬送するローラー搬送機構を内部に備えるとともに前記被処理基板を前記ローラー搬送機構にて所定の方向に搬送しつつ液処理を施す複数の処理部を内部に備えた第二の液処理部と、前記所定の方向上に配置され被処理基板を非ローラー搬送で搬送する非ローラー搬送機構を内部に備えるとともに非ローラー搬送機構にて搬送されるレジスト膜が形成された被処理基板に対して少なくとも現像処理を施す処理部を含む複数の処理部を内部に備えた現像処理部と、この現像処理部と前記第二の液処理部との間に配置され前記第二の液処理部及び/または現像処理部の上方に温調処理部を介して設けられた被処理基板に対して熱処理を施す熱処理部に対して被処理基板を搬送する第二の搬送機構と、前記第一の液処理部と第二の液処理部との間及び前記レジスト塗布処理部と現像処理部との間に設けられた直線状の第の空間部と、を具備したことを特徴とする基板処理装置。
【請求項10】
被処理基板を水平に搬送する処理部内搬送機構を内部に備えるとともに前記被処理基板を前記処理部内搬送機構にて所定の方向に搬送しつつ液処理を施す複数の処理部を内部に備えた第一の処理部と、前記所定の方向上に配置され被処理基板を水平に搬送する処理部内搬送機構を内部に備えるとともに前記処理部内搬送機構にて搬送される被処理基板に対して少なくともレジスト処理を施す処理部を含む複数の処理部を内部に備えた第二の処理部と、この第二の処理部と前記第一の処理部との間に配置され前記第一の処理部及び第二の処理部の上方に温調処理部を介して設けられた被処理基板に対して熱処理を施す熱処理部に対して被処理基板を搬送する搬送機構と、を具備したことを特徴とする基板処理装置。
【請求項11】
被処理基板を複数収納自在に構成されたカセットを複数配置するとともに前記カセットにて対して被処理基板を搬入出自在に構成された搬送機構を配置するカセット配置部と、前記カセット配置部の搬送機構に直接被処理基板を搬出自在に構成され被処理基板をローラーにて搬送するローラー搬送機構を内部に備えるとともに前記被処理基板を実質的にカセット配置部方向のみに前記ローラー搬送機構にて搬送しつつ処理を施す複数の処理部を内部に備えた第三の処理部と、を具備し、前記第一の処理部は、前記カセット配置部の搬送機構から直接被処理基板を搬入自在に構成され被処理基板をローラーにて実質的にカセット配置部から遠ざかる方向のみに搬送するローラー搬送機構を内部に備え、この第三の処理部と前記第一の処理部とは平行に配置され第三の処理部と前記第一の処理部との間に設けられた空間部と、を具備したことを特徴とする請求項10記載の基板処理装置。
【請求項12】
前記第一の処理部及び/または第三の処理部の上方に温調処理部を介して設けられた被処理基板に対して熱処理を施す熱処理部に対して被処理基板を搬送する別の搬送機構を具備したことを特徴とする請求項10又は請求項11記載の基板処理装置。
【請求項13】
被処理基板を複数収納自在に構成されたカセットを複数配置するとともに前記カセットにて対して被処理基板を搬入出自在に構成された搬送機構を配置するカセット配置部と、このカセット配置部に接続され前記搬送機構から被処理基板を搬入自在に構成されるとともに被処理基板をローラーにて搬送するローラー搬送機構を内部に備えるとともに前記被処理基板を前記ローラー搬送機構にて所定の方向に搬送しつつ液処理を施す複数の処理部を内部に備えた第一の液処理部と、被処理基板を水平に搬送する第一の非ローラー搬送機構を内部に備えるとともに前記第一の非ローラー搬送機構にて搬送される被処理基板に対して少なくともレジスト処理を施す処理部を含む複数の処理部を内部に備えた第二の液処理部と、この第二の液処理部と前記第一の液処理部との間に配置され前記第一の液処理部及び第二の液処理部に対して被処理基板を搬送する第二の非ローラー搬送機構と、前記カセット配置部に接続され前記搬送機構に被処理基板を搬出自在に構成されるとともに被処理基板をローラーにて搬送するローラー搬送機構を内部に備えるとともに前記被処理基板を前記ローラー搬送機構にて所定の方向に搬送しつつ液処理を施す複数の処理部を内部に備えた第三の液処理部と、前記第一の液処理部と第三の液処理部は平行に配置され前記第一の液処理部と第三の液処理部との間に設けられた直線状の空間部と、この空間部に配置され前記被処理基板を搬送自在に構成された別の搬送機構と、を具備したことを特徴とする基板処理装置。
【請求項14】
被処理基板を水平に搬送する処理部内搬送機構を内部に備えるとともに前記被処理基板を前記処理部内搬送機構にて所定の方向に搬送しつつ液処理を施す複数の処理部を内部に備えた第一の処理部と、前記所定の方向上に配置され被処理基板を水平に搬送する処理部内搬送機構を内部に備えるとともに前記処理部内搬送機構にて搬送される被処理基板に対して少なくともレジスト処理を施す処理部を含む複数の処理部を内部に備えた第二の処理部と、前記第一の処理部及び/または第二の処理部の上方に温調処理部を介して設けられた被処理基板に対して熱処理を施す熱処理部と、前記第二の処理部と前記第一の処理部との間に配置され前記第一の処理部及び第二の処理部及び前記熱処理部に対して被処理基板を搬入出自在に構成された搬送機構と、を具備したことを特徴とする基板処理装置。
【請求項15】
被処理基板を複数収納自在に構成されたカセットを複数配置するとともに前記カセットにて対して被処理基板を搬入出自在に構成された搬送機構を配置するカセット配置部と、このカセット配置部に接続され前記搬送機構から被処理基板を搬入自在に構成されるとともに被処理基板をローラーにて搬送するローラー搬送機構を内部に備えるとともに前記被処理基板を前記ローラー搬送機構にて所定の方向に搬送しつつ液処理を施す複数の処理部を内部に備えた第一の液処理部と、被処理基板を水平に搬送する第一の非ローラー搬送機構を内部に備えるとともに前記第一の非ローラー搬送機構にて搬送される被処理基板に対して少なくともレジスト処理を施す処理部を含む複数の処理部を内部に備えた第二の液処理部と、この第二の液処理部と前記第一の液処理部との間に配置され前記第一の液処理部及び第二の液処理部に対して被処理基板を搬送する第二の非ローラー搬送機構と、前記カセット配置部に接続され前記搬送機構に被処理基板を搬出自在に構成されるとともに被処理基板をローラーにて搬送するローラー搬送機構を内部に備えるとともに前記被処理基板を前記ローラー搬送機構にて所定の方向に搬送しつつ液処理を施す複数の処理部を内部に備えた第三の液処理部と、前記第一の液処理部と第三の液処理部は平行に配置され前記第一の液処理部と第三の液処理部との間に設けられた直線状の空間部と、この空間部に配置され前記被処理基板を搬送自在に構成された空間部内搬送機構と、前記第一の液処理部と第三の液処理部との間に設けられ被処理基板に対して熱的処理を施す熱処理部と、を具備し、前記熱処理部で処理された被処理基板はカセット配置部に配置された搬送機構により前記熱処理部から直接搬出或いは前記空間部内搬送機構により前記熱処理部から直接搬出されることを特徴とする基板処理装置。
【請求項16】
被処理基板を複数収納自在に構成されたカセットを複数配置自在に構成され前記カセットにて対して被処理基板を搬入出自在に構成された搬送機構を配置するカセット配置部と、このカセット配置部の搬送機構から被処理基板を搬入自在に構成され被処理基板をローラーにて搬送するローラー搬送機構を内部に備えるとともに前記被処理基板を前記ローラー搬送機構にて搬送しつつ処理を施す複数の処理部を内部に備えた第一の処理部と、被処理基板を水平に搬送する第一の非ローラー搬送機構を内部に備えるとともに前記第一の非ローラー搬送機構にて搬送される被処理基板に対して少なくともレジスト処理を施す処理部を含む複数の処理部を内部に備えた第二の処理部と、この第二の処理部と前記第一の処理部との間に配置され前記第一の処理部及び第二の処理部に対して被処理基板を搬送する第二の非ローラー搬送機構と、前記カセット配置部の搬送機構に被処理基板を搬出自在に構成され被処理基板をローラーにて搬送するローラー搬送機構を内部に備えるとともに前記被処理基板を前記ローラー搬送機構にて搬送しつつ処理を施す複数の処理部を内部に備えた第三の処理部と、この第三の処理部及び/または前記第一の処理部の上方に温調処理部を介して設けられ被処理基板に対して熱的処理及び/または紫外線を含む処理を施す第四の処理部と、を具備し、前記第四の処理部に対して前記カセット配置部の搬送機構は被処理基板を搬入出自在に構成されていることを特徴とする基板処理装置。
【請求項17】
被処理基板を複数収納自在に構成されたカセットを複数配置自在構成され前記カセットにて対して被処理基板を搬入出自在に構成された搬送機構を配置するカセット配置部と、このカセット配置部に接続され前記搬送機構から直接被処理基板を搬入自在に構成されるとともに被処理基板をローラーにて搬送するローラー搬送機構を内部に備えるとともに前記被処理基板を前記ローラー搬送機構にて所定の方向に搬送しつつ液処理を施す複数の処理部を内部に備えた直線状の第一の液処理部と、被処理基板を水平に搬送する第一の非ローラー搬送機構を内部に備えるとともに前記第一の非ローラー搬送機構にて搬送される被処理基板に対して少なくともレジスト処理を施す処理部を含む複数の処理部を内部に備えた第二の液処理部と、この第二の液処理部と前記第一の液処理部との間に配置され前記第一の液処理部及び第二の液処理部に対して被処理基板を搬送する第二の非ローラー搬送機構と、前記カセット配置部に接続され前記搬送機構に被処理基板を直接搬出自在に構成されるとともに被処理基板をローラーにて搬送するローラー搬送機構を内部に備えるとともに前記被処理基板を前記ローラー搬送機構にて所定の方向に搬送しつつ液処理を施す複数の処理部を内部に備えた直線状の第三の液処理部と、この第三の液処理部及び/または前記第一の液処理部の上部の少なくとも一端側に温調処理部を介して配置され被処理基板に熱的処理を施す熱処理部と、を具備したことを特徴とする基板処理装置。
【請求項18】
被処理基板をローラーにて搬送するローラー搬送機構を内部に備えるとともに前記被処理基板を前記ローラー搬送機構にて搬送しつつ液処理を施す複数の処理部を内部に備えた第一の処理部と、被処理基板をローラーにて搬送するローラー搬送機構を内部に備えるとともに前記被処理基板を前記ローラー搬送機構にて搬送しつつ液処理を施す複数の処理部を内部に備えた第二の処理部と、この第二の処理部と前記第一の処理部との間に配置された第一の直線状の空間部と、被処理基板を非ローラー搬送で搬送する第一の非ローラー搬送機構を内部に備えるとともに前記第一の非ローラー搬送機構にて搬送される被処理基板に対して少なくともレジスト液を塗布するレジスト塗布処理部を含む複数の処理部を内部に備えた第三の処理部と、この第三の処理部と前記第二の処理部との間に配置され前記第二の処理部及び第三の処理部に対して被処理基板を搬送する第二の非ローラー搬送機構と、被処理基板を非ローラー搬送で搬送する非ローラー搬送機構を内部に備えるとともに非ローラー搬送機構にて搬送される被処理基板に形成されたレジスト膜に対して現像処理を施すレジスト現像処理部を含む複数の処理部を内部に備えた第四の処理部と、この第四の処理部と前記第三の処理部との間に配置された第二の直線状の空間部と、を具備し、第一の直線状の空間部の延長上に第二の直線状の空間部が配置または第一の直線状の空間部と第二の直線状の空間部とは水平に配置されていることを特徴とする基板処理装置。
【請求項19】
請求項1から請求項18のいずれかに記載の基板処理装置を使用して、被処理基板を順次処理することを特徴とする基板処理方法。
【請求項20】
請求項1から請求項18のいずれかに記載の基板処理装置を使用して、被処理基板を製造することを特徴とする基板製造方法。」

第3 当事者の主張
1 請求人の主張
請求人は、「特許第3611568号の特許は、発明者でない者であってその発明について特許を受ける権利を承継しないものの特許出願(冒認出願)に対してされたものであり、特許法第123条第1項第6号に規定される無効理由に該当する。」と主張し、証拠方法として以下の証拠を申し出ている。

[証拠方法]
(1)書証
ア 請求書に添付したもの
甲第 1号証:特許第3611568号公報(本件特許公報)
甲第 2号証:特開2002-329661号公報(原出願の公開公報)
甲第 3号証:平成19年11月20日付け警告書
甲第 4号証:特開2002-151384号公報(請求人の出願の公開公報)
甲第 5号証:特開2002-334918号公報(請求人の出願の公開公報)
甲第 6号証:特開2002-289501号公報(請求人の出願の公開公報、平成20年2月1日付け手続補正により補正)
甲第 7号証:特開2002-313699号公報(請求人の出願の公開公報)
甲第 8号証:特開2002-324740号公報(請求人の出願の公開公報)
甲第 9号証:平成19年12月12日付け株式会社磯部調査事務所作成の調査報告書(人物Ｂの身上調査)
甲第10号証:企業Ａの商業登記簿謄本
甲第11号証:人物Ｂが所有していた土地の不動産登記簿謄本
甲第12号証:人物Ｂの除住民票
甲第13号証:第一新田荘の写真4葉
甲第14号証:特開2004-72120号公報(人物Ｂの他の出願の公開公報)

イ 平成20年5月29日付け第1回上申書に添付したもの
甲第15号証:平成20年2月25日付けの企業Ｂ知的財産部部長宛の人物Ｃ弁理士の書簡
甲第16号証:平成20年2月20日付け却下理由通知書
甲第17号証:平成20年4月4日付け手続却下の処分

ウ 平成20年7月2日付け第2回上申書に添付したもの
甲第18号証:平成16年10月15日付け包括委任状提出書
甲第19号証:平成16年10月20日付け包括委任状番号通知

エ 平成22年5月31日差出の上申書に添付したもの
甲第23号証:特願2001-170284号の出願書類(原出願の特許願、明細書、図面、要約書)
甲第24号証:特願2001-132191号の要約書
甲第25号証:特開2002-330296号公報(特願2001-132191号の公開公報)
甲第30号証:審決取消訴訟における平成21年1月19日付け証拠説明書
甲第43号証:審決取消訴訟における平成21年4月3日付け証拠説明書
甲第44号証:人物Ａの写真
甲第45号証:平成21年2月27日付け人物Ｄの陳述書(平成23年3月4日付け証拠申出書により再提出)
甲第46号証:請求人社内の人物Ａの人事データを印刷したもの
甲第47号証:請求人従業員の時の人物Ａの名刺
甲第48号証:企業Ｃの人物Ａの名刺
甲第49号証:企業Ｃの商業登記簿謄本
甲第50号証:企業Ｃのホームページを印刷したもの
甲第51号証:2007年8月8日に送信された電子メールを印刷したもの
甲第52号証:2007年8月11日に送信された電子メールを印刷したもの
甲第53号証:2003年11月4日に事務所Ａで受信されたFAX
甲第54号証:審決取消訴訟における平成21年3月2日付け訴訟委任状
甲第55号証:事務所Ａの請求書に関するデータ及び請求書
甲第56号証:平成21年3月27日付け人物Ｇの陳述書
甲第57号証:平成10年5月7日付けの請求人から鈴栄内外国特許事務所に宛てた年金管理依頼書等
甲第58号証:IPDLの公報テキスト検索における検索キーワード「現像の脱色処理」等での検索結果等を印刷したもの
甲第59号証:2000年8月28日受付の知的財産権報告書兼発明等譲渡証等
甲第60号証:2000年11月15日にKOBAYASHIから人物Ａ等に送信された電子メールを印刷したもの等
甲第61号証:「技術的証人尋問に係る尋問事項」の表題のある文書
甲第62号証:「LCD製造装置関連の用語の意味」の表題のある手書き文書
甲第63号証:平成21年9月1日付けの警告状
甲第64号証:平成21年9月15日付けの「回答書」の表題のある文書
甲第65号証:事務所Ａ麹町オフィスのホームページを印刷したもの
甲第66号証:原出願と請求人の特許出願の比較を説明する文書
甲第67号証:IPDLの公報テキスト検索における検索キーワード「特開平2-144333号公報」での検索結果を印刷したもの

オ 平成22年9月9日差出の上申書に添付したもの
甲第21号証:2007年12月3日付け企業Ｂ知的財産部部長宛の書簡
甲第22号証:平成21年1月9日付け企業Ｂ知的財産部部長の宣誓供述書
甲第26号証:平成20年6月11日付け株式会社磯部調査事務所作成の調査報告書(人物Ｃの特殊調査)
甲第27号証:IPDLの公報テキスト検索における検索キーワード「被処理基板 いわゆるフォトリソグラフィー技術により回路パターンを形成する」等での検索結果を印刷したもの
甲第28号証:2001年3月1日受付の知的財産権報告書兼発明等譲渡証等
甲第29号証:2009年1月9日付け元田公男の宣誓供述書
甲第31号証:審決取消訴訟における平成21年1月19日付け原告準備書面(第1回)
甲第32号証:審決取消訴訟における平成21年1月29日付け原告準備書面(第2回)
甲第33号証:審決取消訴訟における平成21年4月3日付け原告準備書面(第3回)
甲第36号証:審決取消訴訟における平成21年1月29日付け証拠説明書

カ 平成22年11月5日付け上申書に添付したもの
甲第68号証:審決取消訴訟における平成21年3月3日付け被告第1準備書面

キ 平成23年3月4日付け証拠申出書に添付したもの
甲第71号証:「尋問事項についての考察ｖeｒ1.0」の表題のある文書
甲第76号証:2003年10月10日に送信された電子メール

ク 欠番
甲第20号証、甲第34、35号証、甲第37?42号証、甲第69?70号証及び甲第72?75号証は欠番となっている。

(2)人証
ア 証人氏名 人物Ｄ
職業 事務所Ａ横浜オフィス 弁理士

イ 証人氏名 人物Ｃ
職業 事務所Ｂ 弁理士

ウ 証人氏名 人物Ａ
職業 企業Ｃ 会社役員

2 被請求人の主張
被請求人は、「本件審判の請求は成り立たない、審判費用は請求人の負担とする、との審決を求める。」と主張し、証拠方法として以下の証拠を申し出ている。

[証拠方法]
(書証)
・平成22年10月25日付け証拠説明書に添付したもの
乙第1号証:人物Ｂの運転免許証

第4 当審の判断
1 事実関係
1-1 証人の証言内容
(1)人物Ｄの証言内容
(ア)事務所Ａは2003年1月に開設した。
(イ)人物Ｂの出願の代理を受任したのは、2001年に当時弁理士でなかった人物Ｃから、人物Ｂが既に特許庁に対して特許出願をしていて、人物Ｂが願書表示上の住所には不在になるというケースが非常に多く、特許庁とのやりとりが始まると書類を紛失してしまう可能性があるので代理人を引き受けてほしいという依頼があった。私の記憶では2001年に中途受任したものと思っていたが、実際に特許庁に代理人受任届が出されたのは2003年だったようだ。人物Ｃが事務所Ａに入所してからは担当は人物Ｃに代わった。
(ウ)2000年に高田馬場で事務所を開業しており、開業した翌年に、人物Ｂを名乗る人物が高田馬場の浜谷第7ビルの事務所に来ており、いきなり拒絶理由通知書を手渡されて、事務所の中のホワイトボードにいろいろ殴り書きをして、この審査官の判断はおかしいということを盛んに言っていた。その後カラーコピーを私に手渡し、この装置はこの特許を侵害している、技術的範囲に属するという説明を口頭で受けたので、特許に関してはかなり詳しい人物であると私は記憶している。人物Ｂを名乗る人と面会した以外は人物Ｂとは電話や書面のやりとりをした記憶はない。
(エ)高田馬場の事務所で会った人物は、私と同年代かちょっと上ぐらいというふうに認識しており、甲第45号証の別紙3の写真の人物や乙第1号証の写真の人物は年齢が明らかに違うから会った人物ではない。高田馬場の事務所で会った人物は、甲第44号証の人物か断定はできないがこの人物であったろうなという印象である。(再尋問では)多分人物Ａに間違いない。大分確信は強くなった。
(オ)本件の審決取消訴訟の第1回準備書面を見たところ、人物Ｃが冒認をしているかのような書き方をされていたので、事務所に残っている人物Ｂ関連の資料を探して、人物Ｂとはどういう人物かとか、そういう資料が残っていないか探した。人物Ｂ関連のファイル等、事件ファイルはすべて麹町の方に既に移管されて何もなかったが、会計資料だけ残っており、人物Ｂの案件を私の方から人物Ｃに譲った後の全ての会計、請求書の送り先が人物Ｂではなくて企業Ｃという会社に書類と請求書が送られているということを発見した。
(カ)平成21年2月20日に人物Ｃと企業Ｂとの面会が行われた際に、人物Ｃは、人物Ａから明細書を渡されて、図面が手書きだったので、その図面に関しては図面屋さんに出して、上がってきたものを書類を整えて私が提出した、と答えていた。
(キ)包括委任状をもらう際に人物Ｂに直接会ったことはなかった。
(ク)人物Ｂを名乗る人物に対して人物Ｂであることの確認はしなかった。
(ケ)人物Ｃは人物Ｂの出願が冒認であるというようなことは言っていない。

(2)人物Ｃの証言内容
(コ)人物Ｂは人物Ａに紹介された。人物Ｂと最初に会ったのは五、六年前で、場所は町田で会った。顔合わせのために会ったが、余り話さない方なので技術的な話はなかったと思う。人物Ｂとは3回ぐらい会った。
(サ)人物Ｂ名義の特許出願の事務所Ａの事務所費用は、人物Ａから企業Ｃで払うので請求してくれと言われたので、企業Ｃに請求した。企業Ｃから金額は期限どおりに支払われていたと思う。
(シ)人物Ｂ名義の出願についての指示は人物Ａから来た。人物Ｂから直接指示が来たことはない。
(ス)人物Ｂの出願の代理は人物Ａを介して依頼された。この時人物Ｂには会っていない。
(セ)人物Ｂの原出願の明細書は、人物Ａから直接手渡された。原出願の明細書を作成したのは誰かわからない。願書、明細書はタイプされたものを渡された。願書には平成13年4月27日の日付もタイプされていた。図面はフリーハンドだったのでトレーサーに依頼して清書した。手書きの図面は誰が書いたか知らない。図面の清書が出来上がった段階で清書図面の確認を人物Ａ、人物Ｂにはとっていない。要約書は後で私の方で取り違えてしまうが、そこについていたかどうかもよく覚えていない。書類を受けて、形式のチェックをして郵送で出願した。
(ソ)出願書類を整えて提出する時に特許印紙は恐らく私が勤務していた事務所の近くの郵便局で自分で買いに行ったと思う。特許印紙を買う費用は、図面の実費プラス必要な費用を人物Ａからいただいたので、その中から払った。
(タ)原出願の代理人に関して、人物Ａから誰か弁理士を紹介してほしいという話があり、多分審査請求した後に人物Ａに、人物Ｄを紹介した。人物Ｄに人物Ｂ名義の出願の代理のことを話した時には人物Ｂにまだ会っていなかったと思う。そのころ人物Ｂと電話で話したこともない。
(チ)原出願とその分割出願の代理人になって、これらの出願について、人物Ｂと打合せはしていない。拒絶理由等中間処理の打合せは人物Ａとした。人物Ｂに確認はとって下さいということは言っているが、人物Ｂと直接は打合せはしていない。
(ツ)本件分割出願3件のうちの1つについて、2004年1月26日に発せられた拒絶理由通知への対応は、意見書は私が作成し補正案は人物Ａからいただいた。人物Ｂとは中間処理について直接話はしていない。
(テ)甲第3号証の警告書を送ることを発案したのは誰だかはわからないが、人物Ａからの指示で警告書を送った。人物Ｂが関与していないかどうかはわからない。警告書の送付先を決めたのは人物Ａである。警告書の文面は、私が素案を書いて、人物Ａに直してもらった。
(ト)本件無効審判及び本件審決取消訴訟において、人物Ｂと協議していない。
(ナ)人物Ｂが本当に発明者であるかどうかの確認はできなかった。
(ニ)人物Ａが人物Ｂの原出願の明細書を書いたという話は聞いていない。人物Ａは原出願は人物Ｂが発明したものだという言い方はしていない。
(ヌ)人物Ｂが発明者であることの確認をするため、人物Ａを介して及び人物Ｂへ直接電話することを試みたが、いなかったりつかまらなかったりとかで確認できなかった。
(ネ)甲第53号証のFAX、甲第51、52号証の電子メールのプリントアウトしたものは、事務所Ｃにおける会合に人物Ｅ弁理士に促されて持参したものである。

(3)人物Ａの証言内容
(ノ)人物Ｂとは30年ほど前に日本電気株式会社で知り合った。
(ハ)原出願の特許出願の手続作業を人物Ｃに依頼していない。
(ヒ)中央区京橋の事務所Ａで、人物Ｂの件でと言って人物Ｄと会い、人物Ｂの出願の拒絶理由通知の対応について説明した。
(フ)甲第53号証のFAXは私が書いた。人物Ｃから電話を受けてこのように書けと言われた。私の名前を書こうとしたら、そこは人物Ｂの名前にしてくれと言うから人物Ｂの名前に変えて字を間違えた。
(ヘ)クレームの補正案を作る時、人物Ｂとうちの会社で会って、クレームの補正案は私が作った。
(ホ)審決取消訴訟の代理人の人物Ｆ弁護士はうちの税理士を通じて知った。そういういきさつから人物Ｆ弁護士が審決取消訴訟の代理人に選任されたと記憶している。
(マ)台湾のLCDメーカーから弊社が修理依頼を受けて、人物Ｂを送った。LCDの製造装置等について修理する能力が人物Ｂにはあった。日本電気時代に人物Ｂも私も入社一、二年くらいは明細書を書かなくてはいけなかった。
(ミ)人物Ｂの出願の事務所Ａの費用を企業Ｃで立て替えた。立て替えた費用はまだ人物Ｂには請求していない。
(ム)原出願の発明者が人物Ｂであるかどうかは知らない。

1-2.書証の記載事項
(メ)甲第2号証
a.「このような、処理を施す例として、被処理基板、例えば半導体ウエハにおけるSOD膜、例えばLｏｗ-K膜(低誘電率膜)等の加熱処理について図26を参照して具体的に述べる。この図26は、加熱処理前雰囲気設定工程或いは加熱処理後雰囲気設定工程における工程が基板の処理に対する影響を指し示すための表である。Lｏｗ-K膜の加熱処理においては、基板と基板に形成されたLｏｗ-K膜とが同温だと仮定すると、基板の温度が所定の温度、例えば約200℃の温度或いはそれ以上の温度において、基板の周囲の雰囲気の酸素濃度が所定の濃度以上、例えば約30?100ｐｐm、好ましくは30ｐｐm以上だとLｏｗ-K膜が酸化等の不具合を起こしてしまうということを本発明者は発見するに至った。」(段落【0136】)

(モ)甲第11号証
a.「【権利部(甲区)】(所有権に関する事項) …(略)…
【原因】 【権利者その他の事項】
平成5年6月25日売買 所有者 xxxx
人物Ｂ
順位2番の登記を移記
平成12年5月29日住所移転 住所 xxxx 」(第1ページ)

(ヤ)甲第23号証
a.「【書類名】 特許願
…(略)…
【提出日】 平成13年4月27日
…(略)…
【発明者】
【氏名】 人物Ｂ
【特許出願人】
【氏名】 人物Ｂ 」(第1ページ)

(ユ)甲第53号証
a.「特願2001-170284号の代理をお願いいたします。人物Ｃ弁理士からも話がいっていると思いますが。」
b.「この親願は、また審査請求せずに分割してその分割を早期審査請求して下さい。尚分割出願用Claimは、FAXにて3枚に案を記載いたしております。」

(ヨ)甲第55号証
a.「請求日 …(略)… 請求先 合計請求額
2003/7/30 …(略)… 人物Ｂ …(略)…
2003/7/30 …(略)… 人物Ｂ …(略)…
2003/9/29 …(略)… 人物Ｂ …(略)…
2003/10/6 …(略)… 人物Ｂ …(略)…
2003/12/1 …(略)… 人物Ｂ …(略)…
2003/12/9 …(略)… 人物Ｂ …(略)…
2004/1/27 …(略)… 人物Ｂ …(略)…
2004/3/23 …(略)… 人物Ｂ …(略)…
2004/6/23 …(略)… 人物Ｂ …(略)…
2004/8/27 …(略)… 人物Ｂ …(略)…
2004/10/26 …(略)… PBS …(略)…
2004/10/26 …(略)… PBS …(略)…
2005/2/1 …(略)… PBS …(略)…」(第1ページ)

(ラ)甲第68号証
a.「被告は,その後,時間があったこと,特許に関心があったことから,装置の制御関係が関連しそうな内容の特許,モーターでもシリンダーでもロボット技術でも,機構と制御,コントロールすることに関連しそうな特許等を読みこむ生活を送った。また,FPDインターナショナル …(略)…といった展示会にも足を運んだ。そのような最中,大日本スクリーンの特許 …(略)…が目に留まり,同特許の記載を出発点として他の特許等も参照するなどしながら被告により発明されたのが本件原出願発明である。」(第11ページ第4?12行)

2 本件特許が、発明者でない者であってその発明について特許を受ける権利を承継しないものの特許出願に対してされたものであるか否かについての検討・判断
(1)人物Ｂが発明者であることについて疑念を抱かせる事情
(a)前記書証の記載事項(ヤ)で摘記したように、甲第23号証である原出願の出願書類の願書には、発明者であり特許出願人でもある人物Ｂの住所は「 xxxx 」と記載されている。一方、前記書証の記載事項(モ)で摘記したように、甲第11号証の人物Ｂが所有していた土地の不動産登記簿謄本には、人物Ｂは、原出願の出願日よりも10月以上前である平成12年5月29日に東京都大田区に住所移転したことが記載されており、原出願を出願した時に、人物Ｂは原出願の願書表示の前記住所には居住していなかった事実が認められる。当該事実及び原出願は代理人が選任されていないことも併せ考えれば、特許庁との手続に必要となる願書の住所を実際の住所ではなく移転前の住所とした事情、また、早期に住所表示の手続補正を行わなかった事情について、特許権の取得を望む発明者の行為として疑念が生ずる。
(b)前記証言内容(ト)によれば、人物Ｃは、本件無効審判及び本件無効審判の第1次審決に対する審決取消訴訟において、代理人を辞任するまでに代理人として人物Ｂと協議していないことが事実と認められる。また、前記証言内容(ヌ)によれば、人物Ｃは、人物Ａを介して及び人物Ｂへ直接電話することを試みて、人物Ｂが発明者であることの確認をしようとしたが、人物Ｂに確認することができなかったことが事実と認められる。これらの事実に照らすと、冒認出願を理由とする無効審判及び無効審判に係る審決取消訴訟ということの重大性に鑑みれば、人物Ｂが代理人である人物Ｃに直接連絡することに積極的にならなかった行為は、発明者の行為として疑念が生ずる。
(c)前記証言内容(ミ)によれば、人物Ｂの出願の費用は、人物Ａが代表を務める企業Ｃで立て替え払いされ、立て替えた費用を人物Ｂに請求していないことが事実と認められ、企業Ｃが立て替えた人物Ｂの出願の費用はかなり高額(甲第55号証参照)である。これらの事実を社会通念に照らすと、人物Ｂが真の発明者であって特許を受ける権利を有していたとすることに疑念が生ずる。
(d)前記証言内容(キ)、(ス)によれば、人物Ｂの出願の代理人となった人物Ｄと人物Ｃは、代理を引き受ける際に人物Ｂに会っていないことが事実と認められる。当該事実は人物Ｂが真の発明者であり出願人であるということについて疑念が生ずる。
(e)前記書証の記載事項(ラ)で摘記したように、甲第68号証である審決取消訴訟の準備書面には、人物Ｂは展示会に足を運び企業Ｅの特許を出発点として他の特許等も参照しながら発明した旨の記載がされているが、前記書証の記載事項(メ)で摘記したように、甲第2号証である原出願の公開公報には、基板の周囲の雰囲気の酸素濃度が所定の濃度以上だとLｏｗ-K膜が酸化等の不具合を起こすことを発見した旨の記載がされており、このようなLｏｗ-K膜の酸化等の不具合は、特許等の参照のみで発見することはできない。そうすると、人物Ｂが真の発明者であることには疑念が生ずる。
(f)前記証言内容(フ)によれば、甲第53号証である2003年11月4日に事務所Ａで受信されたFAXは人物Ａが書いたことが事実と認められるが、甲第53号証のFAXには、人物Ｂの名前を使って(当審注:人物Ｂと表記を間違えている)原出願の審査請求をしないことや、分割してその分割を早期審査請求すること等の特許権利化のための重要な指示内容が記載されている(記載事項(ユ)参照)。前記人物Ａが人物Ｂの名前を使って原出願についての指示をFAXで行った行為は、人物Ｂが真の発明者であることに疑念を抱かせる。

(2)被請求人の人物Ｂが発明者であることについての立証
当審は、被請求人に対して、人物Ｂが本件特許の特許出願に係る発明を実際に行ったことを裏付ける具体的な証拠方法として、出願に関する書類、発明に関するアイデアを記載したノート等のメモ、本人が研究活動のため集めた基板処理に関する資料、基板処理に関する研究会・学会・展示会の資料等、本件特許出願や基板処理の研究に関するパソコンのデータ等の物証、又は人物Ｂが発明者であることを証言できる証人等を例示し、証拠の提出又は証人尋問の申し出を促してきた(平成22年8月9日付けの応対記録参照)。しかしながら、人物Ｂが本件特許の特許出願に係る発明を実際に行ったことを裏付ける証拠の提出はなく、また、人物Ｂが亡くなっているという事情もあり、人物Ｂが本件特許の特許出願に係る発明を実際に行ったことを裏付ける資料については、現在も見つけることはできていない。(第1回口頭審理及び証拠調べ調書参照)。

(3)当審の判断
前記(a)ないし(f)の人物Ｂが発明者であることについて疑念を抱かせる事情や、人物Ｄ、人物Ｃ及び人物Ａの証言内容を全体として見れば、人物Ｂが原出願に係る発明及び原出願の分割出願である本件特許の特許出願に係る発明の真の発明者であると考えるには不自然な点が多いといわざるを得ない。また、前記書証の記載事項(ヨ)によれば、人物Ｂの出願に関する費用は2004年8月27日以前は人物Ｂに請求されているし、人物Ａの証言内容(マ)によれば、人物ＢはLCD装置について修理することができる程度の知識があり、特許明細書も書いた経験があることが事実と認められるから、人物Ｂが真の発明者である可能性も否定できないし、人物Ｂが発明者であることについて疑念を抱かせる個々の事情についても人物Ｂが真の発明者であることと全く両立しないわけではない。したがって、人物Ｂが本件特許の特許出願に係る発明の真の発明者であるか否かについては、真偽不明である。
ところで、本件無効審判の第1次審決に対する審決取消請求事件(平成20年(行ケ)第10427号)の判決において、「冒認出願(123条1項6号)を理由として請求された特許無効審判において,『特許出願がその特許に係る発明の発明者自身又は発明者から特許を受ける権利を承継した者によりされたこと』についての主張立証責任は,特許権者が負担すると解すべきである。」と判示されていることから、本件特許の特許出願が人物Ｂによりされたことの主張立証責任は特許権者である被請求人が負担すべきである。しかし、前記「(2)被請求人の人物Ｂが発明者であることについての立証」に記載したように、当審は、被請求人に対して、人物Ｂが真の発明者であることを裏付ける証拠方法を具体的に例示し、証拠の提出又は証人尋問の申し出を促してきたが、人物Ｂが本件特許の特許出願に係る発明を実際に行ったことを裏付ける証拠の提出はなく、また、人物Ｂが亡くなっているという事情もあり、人物Ｂが本件特許の特許出願に係る発明を実際に行ったことを裏付ける資料については、現在も見つけることはできていない状況であるから、本件特許の特許出願が人物Ｂによりされたことの主張立証責任が被請求人によって果たされているとはいえない。
したがって、人物Ｂが本件特許の特許出願に係る発明の真の発明者であるか否かについては、真偽不明であり、且つ本件特許の特許出願が人物Ｂによりされたことの主張立証責任が被請求人によって果たされているとはいえない以上、本件無効審判の第1次審決に対する審決取消請求事件(平成20年(行ケ)第10427号)の判決で判示された主張立証責任の原則に従って判断すると、本件特許は特許法第123条第1項第6号の「その特許が発明者でない者であつてその発明について特許を受ける権利を承継しないものの特許出願に対してされたとき」に該当すると結論するよりほかない。

第5 むすび
以上のとおりであるから本件の請求項1ないし20に係る特許は、特許法第123条第1項第6号の規定に該当し、無効とすべきものである。
審判に関する費用については、特許法第169条第2項の規定により準用する民事訴訟法第61条の規定により、被請求人が負担すべきものとする。
よって結論のとおり審決する。 
審理終結日 2008-08-29 
結審通知日 2011-04-12 
審決日 2011-04-26 
出願番号 特願2003-413773(P2003-413773)
審決分類 P 1 113・ 152- Z (H01L)
最終処分 成立  
前審関与審査官 岩本 勉  
特許庁審判長 北川 清伸
特許庁審判官 小松 徹三
村田 尚英
森林 克郎
岡田 吉美
登録日 2004-10-29 
登録番号 特許第3611568号(P3611568)
発明の名称 基板処理装置及び基板処理方法及び基板の製造方法  
代理人 大貫 進介  
代理人 伊東 忠彦  
代理人 伊東 忠重  
代理人 舟橋 定之  
代理人 木田 博  

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