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審決分類 審判 査定不服 発明同一 特許、登録しない。 H01L
審判 査定不服 5項独立特許用件 特許、登録しない。 H01L
管理番号 1240412
審判番号 不服2009-17645  
総通号数 141 
発行国 日本国特許庁(JP) 
公報種別 特許審決公報 
発行日 2011-09-30 
種別 拒絶査定不服の審決 
審判請求日 2009-09-18 
確定日 2011-07-20 
事件の表示 特願2005-364265「リソグラフィ装置及びデバイス製造方法」拒絶査定不服審判事件〔平成18年 7月 6日出願公開、特開2006-179906〕について、次のとおり審決する。 
結論 本件審判の請求は、成り立たない。 
理由 1.手続の経緯
本願は,平成17年12月19日の出願(パリ条約による優先権主張 2004年12月20日 米国)であって,平成20年10月17日付で拒絶理由が通知され,平成21年3月23日に意見書とともに手続補正書が提出され,同年5月22日付で拒絶査定がなされ,同年9月18日に拒絶査定に対する審判請求がなされるとともに,同日付で手続補正書が提出され,その後,審判において送付した審尋に対して平成22年11月4日付で回答書が提出されたものである。

2.平成21年9月18日付の手続補正についての補正却下の決定

【補正却下の決定の結論】

平成21年9月18日付の手続補正を却下する。

【理由】
2-1.補正内容
平成21年9月18日付の手続補正(以下「本件補正」という。)は,補正前の特許請求の範囲の請求項1を

(1)「パターンの付与された放射ビームを基板に投影するリソグラフィ装置に用いるための位置決め装置において,該位置決め装置が,第1のテーブルと第2のテーブルとを含み,
前記第1のテーブルが,前記第1のテーブルを前記パターンの付与された放射ビームの経路内及び経路外へ移動させるように構成された第1の位置決めシステムに接続され,前記第1のテーブルが,基板を保持するように構成され,
前記第2のテーブルが,前記第1のテーブルを前記パターンの付与された放射ビームの経路外へ移動させる際に,前記第2のテーブルを前記パターンの付与された放射ビームの経路内に位置決めするように構成された第2の位置決めシステムに接続され,前記第2のテーブルが,基板を保持するようには構成されておらず,
投影システムと前記基板との間の空間に液体を供給するように構成された液体供給システムをさらに含み,該液体供給システムは投影システムの下方に配置され投影システムを取り囲む液体閉じ込め構造体を有する位置決め装置。」

から

(2)「パターンの付与された放射ビームを基板に投影するリソグラフィ装置に用いるための位置決め装置において,該位置決め装置が,第1のテーブルと第2のテーブルとを含み,
前記第1のテーブルが,前記第1のテーブルを前記パターンの付与された放射ビームの経路内及び経路外へ移動させるように構成された第1の位置決めシステムに接続され,前記第1のテーブルが,基板を保持するように構成され,
前記第2のテーブルが,前記第1のテーブルを前記パターンの付与された放射ビームの経路外へ移動させる際に,前記第2のテーブルを前記パターンの付与された放射ビームの経路内に位置決めするように構成された第2の位置決めシステムに接続され,前記第2のテーブルが,基板を保持するようには構成されておらず,
投影システムと前記基板との間の空間に液体を供給するように構成された液体供給システムをさらに含み,該液体供給システムは投影システムの下方に配置され投影システムを取り囲む液体閉じ込め構造体を有し,
前記第2のテーブルが,前記パターンの付与された放射ビームの特性を検知するように構成されたセンサ・ユニットを有するセンサ・テーブルを含み,
前記センサ・ユニットは偏光センサを含む位置決め装置。」

と補正しようとする補正事項が含まれている。(上記の下線は補正箇所)

本件補正は,補正前の特許請求の範囲における請求項2に規定されていた「第2のテーブルが,前記パターンの付与された放射ビームの特性を検知するように構成されたセンサを有するセンサ・テーブルを含む」という事項を同請求項1に組み入れて該請求項2を削除し,さらに同請求項3に規定されていた規定の一部である「偏向センサ」という事項を同請求項1に組み入れて該請求項3を新たな請求項2とし,組み入れられた同請求項1を新たな請求項1とした補正事項が含まれている。

したがって,本件補正は,平成18年法律第55号改正附則第3条第1項によりなお従前の例によるとされる同法による改正前の特許法第17条の2第4項第1号の請求項の削除,並びに同第2号の特許請求の範囲の減縮を目的とするものに該当する。

そこで,本件補正後の請求項1に係る発明(上記(2)参照。以下,「本願補正発明」という。)が特許出願の際独立して特許を受けることができるものであるか(平成18年法律第55号改正附則第3条第1項によりなお従前の例によるとされる同法による改正前の特許法第17条の2第5項において準用する同法第126条第5項の規定に適合するか)について以下に検討する。

2-2.引用先願明細書の記載
原査定の拒絶の理由に引用された,本願出願の優先日前の他の特許出願であって,その出願後に出願公開がされた特願2003年185389号(以下,「先願」という。特開2005-19864号公報参照)の明細書及び図面(以下「先願明細書」という。)には,以下の記載がある。(下線は,当審にて付与。)

(1a)「【0014】
【課題を解決するための手段】
本発明の第1の側面は,原版のパターンを投影光学系を介して基板に投影し転写する露光装置に係り,該装置は,基板を保持し移動させる基板ステージと,液体供給ノズルを有し前記基板の表面上に液体を供給して前記表面上に液膜を形成する液体供給部とを備える。ここで,前記液体供給ノズルは,前記投影光学系の周辺かつ前記投影光学系から見て第1方向に配置されており,前記液体供給部は,前記基板ステージが前記基板を前記第1方向の反対方向である第2方向に向かって移動させる際に,前記基板の移動に伴って前記液膜が連続的に広がるように,前記液体供給ノズルを通して前記基板の表面上に液体を連続的に供給するように構成されている。
【0015】
本発明の好適な実施の形態によれば,前記液体供給部は,前記基板が移動することにより前記投影光学系の最終面と前記基板との間隙に前記液体が進入し該間隙が前記液体で満たされるように,前記液体供給ノズルを通して前記基板の表面上に液体を供給することが好ましい。
【0016】
本発明の好適な実施の形態によれば,本発明の露光装置は,液体回収ノズルを有する液体回収部を更に備えることが好ましい。ここで,前記液体回収ノズルは,前記投影光学系の外側かつ前記投影光学系から見て前記第2方向に配置されており,前記液体回収部は,前記基板の移動に伴って広がる液膜を構成する液体を前記液体回収ノズルを通して回収するように構成されていることが好ましい。
【0017】
本発明の好適な実施の形態によれば,本発明の露光装置は,前記投影光学系を取り囲むように配置された複数の液体回収ノズルを有する液体回収部を更に備えることが好ましく,前記液体回収部は,前記基板上に形成された液膜を構成する液体を前記複数の液体回収ノズルの全部又は一部を通して回収することが好ましい。
【0018】
本発明の好適な実施の形態によれば,前記液体供給部は,前記投影光学系からみて互いに異なる方向に配置された複数の液体供給ノズルを有し,前記基板ステージが前記基板を移動させる際に,前記複数の液体供給ノズルのうち少なくとも前記投影光学系から見て前記基板の移動方向の反対方向に位置する液体供給ノズルを通して前記基板の表面に液体を供給することが好ましい。
【0019】
本発明の好適な実施の形態によれば,前記液体供給部は,前記投影光学系からみて互いに異なる方向に配置された複数の液体供給ノズルを有し,前記基板ステージが前記基板を移動させる際に,前記複数の液体供給ノズルのうち少なくとも前記投影光学系から見て前記基板の移動方向の反対方向に位置する液体供給ノズルを通して前記基板の表面に液体を供給し,前記液体回収部は,前記複数の液体回収ノズルのうち少なくとも前記投影光学系から見て前記基板の移動方向に位置する液体回収ノズルを通して前記基板上に形成された液膜を構成する液体を回収することが好ましい。
【0020】
本発明の好適な実施の形態によれば,前記複数の液体回収ノズルは,前記複数の液体供給ノズルの外側に配置されていることが好ましい。
【0021】
本発明の好適な実施の形態によれば,前記液体供給部は,前記投影光学系から出た露光光についての前記基板の移動方向に直交する方向の幅と同一かそれよりも大きい幅で液体を前記基板の表面に供給するように構成されていることが好ましい。
【0022】
本発明の好適な実施の形態によれば,前記液体供給ノズルの出口における液体の平均的な流速をμ,前記投影光学系の最終面と前記基板との間隔をd,前記基板の移動速度をυ,前記基板の移動速度に沿った前記液体供給ノズルの出口の幅をｗとしたときに,
μ≧d・υ/ｗ
を満たすように,前記液体供給部が液体の供給を制御することが好ましい。
【0023】
本発明の好適な実施の形態によれば,前記液体供給部は,前記基板の移動速度に基づいて,前記液体供給ノズルを通して前記基板に供給する液体の流量を制御することが好ましい。
【0024】
本発明の好適な実施の形態によれば,前記液体供給ノズルの出口と前記ウエハステージとの間隔は,前記投影光学系の最終面と前記ウエハステージとの間隔と実質的に等しいことが好ましい。或いは,前記液体供給ノズルの出口と前記ウエハステージとの間隔は,前記投影光学系の最終面と前記ウエハステージとの間隔よりも大きくてもよい。
【0025】
本発明の好適な実施の形態によれば,前記液体回収ノズルの入口と前記ウエハステージとの間隔は,前記投影光学系の最終面と前記ウエハステージとの間隔と実質的に等しいことが好ましい。或いは,前記液体回収ノズルの入口と前記ウエハステージとの間隔は,前記投影光学系の最終面と前記ウエハステージとの間隔よりも小さくてもよい。」

(1b)「【0033】
本発明の第2の側面は,原版のパターンを投影光学系を介して基板に投影し転写する露光装置に係り,該装置は,基板を保持し移動させる基板ステージと,前記基板ステージ上に載置される前記基板と実質的に等しい高さの面を有する平面板と,前記投影光学系の最終面と前記基板又は前記平面板との間に液体を供給する液体供給部と,前記投影光学系の最終面と前記基板又は前記平面板との間に存在する液体を回収する液体回収部とを備える。
【0034】
本発明の好適な実施の形態によれば,前記平面板は,前記基板ステージ上に載置される前記基板の少なくとも一部に隣接するように配置されていることが好ましい。」

(1c)「【0044】
本発明の第4の側面は,原版のパターンを投影光学系を介して基板に投影し転写する露光装置に係り,該装置は,基板を保持し移動させる基板ステージと,前記投影光学系の最終面から延びた連続部材と,前記最終面の周囲に配置された液体供給口を通して前記最終面と前記基板との間隙に液体を供給する液体供給部と,前記最終面の周囲に配置された液体回収口を通して前記最終面と前記基板との間隙から液体を回収する液体回収部と,前記液体供給口及び前記液体回収部を取り囲むように配置され,前記基板の周囲を覆うように気体を吹き出す気体吹き出し口とを備える。
【0045】
本発明の好適な実施の形態によれば,本発明の露光装置は,前記吹き出し口の周囲を取り囲むように配置され,前記気体吹き出し口から吹き出された気体を回収する気体回収口を更に備えることが好ましい。」

(1d)「【0060】
【発明の実施の形態】
本発明の露光装置は,例えば,露光光として紫外光を用い,投影光学系と基板(例えば,ウエハ)間を液体で満たす液浸法が適用されるあらゆる露光方法及び露光装置に有用である。そのような露光装置には,例えば,基板を静止させた状態で該基板に原版のパターンを投影転写する露光装置や,基板と原版とを同期スキャンしながら該基板に該原版のパターンをスリット光によりスキャン露光する露光装置が含まれうる。
【0061】
以下,本発明の好適な実施形態を例示的に説明する。図1は,本発明の好適な実施形態の構成を概略的に示す図である。図1において,AｒFエキシマレーザやF2レーザなどの露光光源(不図示)から射出された光が照明光学系2に提供される。照明光学系2は,露光光源から提供された光を用いて,レチクル(原版)1の一部をスリット光(スリットを通過したような断面形状を有する光)により照明する。スリット光によってレチクル1を照明している間,レチクル1を保持しているレチクルステージ(原版ステージ)3とウエハ(基板)9を保持しているウエハステージ(基板ステージ)10は,一方が他方に同期しながらスキャン移動する。このような同期スキャンを通して,結果としてレチクル1上のパターン全体が投影光学系4を介してウエハ9上に連続的に結像し,ウエハ9表面に塗布されたレジストを感光させる。
【0062】
レチクルステージ3やウエハステージ10の二次元的な位置は,参照ミラー11とレーザー干渉計12によってリアルタイムに計測される。この計測値に基づいて,ステージ制御装置13は,レチクル1(レチクルステージ3)やウエハ9(ウエハステージ10)の位置決めや同期制御を行う。ウエハステージ10には,ウエハ9の上下方向(鉛直方向)の位置や回転方向,傾きを調整,変更或いは制御する駆動装置が内蔵されており,露光時は,この駆動装置により投影光学系4の焦点面にウエハ9上の露光領域が常に高精度に合致するようにウエハステージ10が制御される。ここで,ウエハ9上の面の位置(上下方向位置と傾き)は,不図示の光フォーカスセンサーによって計測され,ステージ制御装置13に提供される。
【0063】
露光装置本体は,不図示の環境チャンバの中に設置されており,露光装置本体を取り巻く環境が所定の温度に保たれる。レチクルステージ3,ウエハステージ10,干渉計12を取り巻く空間や,投影レンズ4を取り巻く空間には,更に個別に温度制御された空調空気が吹き込まれて,環境温度が更に高精度に維持される。
【0064】
この実施形態では,投影光学系4とウエハ9との間の空間或いは間隙を液体で満たす液浸法は,ウエハ9の上方かつ投影光学系4の近傍に配置された液体供給ノズル5と,投影光学系4を挟んで液体供給ノズル5の反対側に配置された液体回収ノズル6によって実現される。」

(1e)「【0106】
ウエハステージ上10に吸着されたウエハ9に隣接して平面板21が設けられている。平面板21は,その上面がウエハステージ10上に真空吸着などによって固定されるウエハ9の上面とほぼ同じ高さになるように,配置されている。投影光学系最終面4ｓの直下に平面板21が位置している際に,ウエハ9をウエハステージ10上から回収し,及び,ウエハ9をウエハステージ10上に載置することができるように,不図示のウエハ搬送装置が配置されている。
【0107】
図9を参照しながら本実施形態の工程を説明する。図9は,図8の主要部の横断面図を用いて各部の挙動を工程順に示している。
【0108】
露光中は,必要に応じて液体供給ノズル5より液体が供給され,液体回収ノズル6により液体が回収されつつ,ウエハ9と投影光学系最終面4ｓとの間隙が液体で常に満たされた状態に維持される(図9(a))。一枚のウエハ9に対する一連の露光が終了した時点で,ウエハ9に隣接する平面板21が投影光学系最終面4ｓの直下に位置するようにウエハステージ10を移動する(図9(b))。ウエハステージ10を移動する際には液体供給ノズル5より液体を供給し,液体回収ノズル6より液体を回収し続けることにより,平面板21が投影光学系最終面4ｓの下に位置した状態においても,投影光学系最終面4ｓの下は常に液体で満たされている。次に,この状態を維持しつつウエハステージ10上に吸着固定されている露光済みのウエハ9をウエハステージ10より不図示のウエハ収納部に回収する。更に,新しいウエハ9’をウエハステージ10上に載置し,吸着固定させる(図9(c))。
【0109】
そして,液体供給ノズル5から液体を供給し,液体回収ノズル6によって液体を回収しながらウエハステージ10を移動し,投影光学系最終面4ｓの下に常に液体を満たし続けながら,ウエハ9’を投影光学系最終面4ｓの直下に送り込む(図9(d))。」

(1f)「【0120】
図9,図10では,平面板21がウエハステージ10上に配置されているが,不図示の専用の駆動装置を設けて,平面板21をウエハステージ10から独立して移動できるように構成してもよい。ただし,この場合は,平面板21は,ウエハステージ10上に吸着固定されたウエハとの間に大きな間隙が形成されないように駆動されるべきである。例えば,図9(a)から(b)の状態に移行する際や,図9(c)から(d)の状態に移行する際には,ウエハステージ10と平面板21は,互いに隣接する位置関係を保つように連携しながら投影光学系最終面付近を移動するように駆動されるべきである。ここで,少なくともウエハと平面板21との間隙が投影光学系最終面の直下を通過する間は,平面板21の高さがウエハー上面とほぼ同じ高さに維持されるべきである。
【0121】
投影光学系最終面と平面板21との間に液膜を移動させた後は,平面板21についてはその位置を維持し,ウエハステージ10についてはその位置を任意に変更し,種々の工程を行うことができる。このように平面板21をウエハステージ10から独立して移動させる機構を設けることにより,ウエハステージ10が露光以外の種々の作業のために使用されている時間区間を利用して,投影光学系最終面の下を液体で満たし続けることができる利点がある。また,このような機構を設けることにより,複数の平面板や吸引口を設けたり,平面板を大きくしたりする必要がなくなるので,露光装置を小型化することができる。
【0122】
平面板21の適当な箇所に露光光の照度分布を計測するための照度ムラセンサや,露光光の絶対照度を計測するための絶対照度計を設けてもよい。この場合,一旦液体を回収することなく投影光学系最終面下に液体を満たし続けたままで,しかも露光状態とほぼ同じ液浸状態で照度ムラや絶対照度を計測することができる。これにより,露光装置の生産性を落とすことなく,高い精度で照度ムラや絶対照度を計測することができる。以上のように,平面板はウエハステージとは個別に移動できることが生産性の点で好ましいが,走査型露光装置の場合においては,走査時の積算照度ムラを計測できる点で照度ムラセンサを平面板と一緒にウエハステージ上に配置することにも利点がある。」

(1g)「【0147】
図14に示す構成例では,投影光学系最終面4ｓとほぼ同面となる液接触面20aに液体供給ノズル5と液体回収ノズル6を設け,その外周側に平面20aよりもウエハに近い平面20cを設け,平面20cに不活性ガス吹き出し部を設けている。このように液接触面20aよりもウエハに近い面に不活性ガス吹き出し部を設けることにより,比較的少ないガス流量で,大きな圧力差を得ることができ,露光装置のランニングコストを抑え,また,不活性ガスが外部に与える影響を最小限に抑えることができる。もちろん,不活性ガス吹き出し部の効果は,これを液接触面20a内に設けた場合においても,十分に発揮されうる。また,図3?図5に示す構成例においても,液体供給口5や液体回収口6の外側であって,ウエハ移動方向の上流側に,それらと同じ長さかそれより長い不活性ガス吹き出し部を設けることができる。」

(1h)「【図1】

」

(1i)「【図9】

」

(1j)「【図14】

」

以上の記載事項から,先願明細書には,以下の発明(以下「先願発明」という。)が記載されている。

「ウエハにレチクルのパターンを投影転写する露光装置において、
ウエハ9を保持しているウエハステージ10の位置決めを行うステージ制御装置13と,
ウエハステージ10から独立してかつウエハステージ10と互いに隣接する位置関係を保つように連携しながら投影光学系最終面付近を移動するように駆動される平面板21の移動機構と,
を備え,
一枚のウエハ9に対する一連の露光が終了した時点で,ウエハ9と平面板21との間隙が投影光学系最終面の直下を通過する間は,平面板21の上面がウエハステージ10上に固定されるウエハ9の上面とほぼ同じ高さになり,平面板21がウエハ9との間に大きな間隙が形成されないように,ウエハステージ10と平面板21は互いに隣接する位置関係を保つように連携しながら投影光学系最終面付近を移動され,平面板21が投影光学系最終面4ｓの直下に位置し,
投影光学系最終面4ｓの直下に平面板21が位置している際に,ウエハ搬送装置がウエハステージ10上に吸着固定されている露光済みのウエハ9をウエハステージ10よりウエハ収納部に回収し,新しいウエハ9’をウエハステージ10上に載置し,吸着固定させるとともに,

投影光学系最終面4ｓとほぼ同面となる液接触面20aと,
投影光学系最終面4ｓとほぼ同面となる液接触面20aに,投影光学系の周辺かつ前記投影光学系から見て第1方向に配置される液体供給ノズル5を通して前記最終面4ｓと前記ウエハ9との間隙に液体を供給する液体供給部と,
投影光学系最終面4ｓとほぼ同面となる液接触平面20aに,投影光学系の外側かつ前記投影光学系から見て前記第2方向に投影光学系を取り囲むように配置される複数の液体回収ノズル6を通して前記最終面4ｓと前記ウエハ9との間隙から液体を回収する液体回収部と,
平面20aよりもウエハに近い平面20cに,液体供給ノズル5及び液体回収ノズル6を取り囲むように配置され前記ウエハ9の周囲を覆うように気体を吹き出す不活性ガス吹き出し部と,
を備え,
液体供給ノズル5を通して,ウエハステージ10がウエハ9を前記第1方向の反対方向である第2方向に向かって移動させる際に,前記ウエハ9の移動に伴って前記液膜が連続的に広がるように液体を供給する液体供給部と,
液体回収ノズル6の全部又は一部を通して,基板上に基板の移動に伴って広がって形成された液膜を構成する液体を回収する液体回収部と,により,投影光学系最終面4ｓと前記ウエハ9との間隙に前記液体が進入し該間隙が前記液体で満たされ,
ウエハステージ10を移動する際には,液体供給ノズル5より液体を供給し,液体回収ノズル6より液体を回収し続けることにより,平面板21が投影光学系最終面4ｓの下に位置した状態においても,投影光学系最終面4ｓの下は常に液体で満たされ,

平面板21が,照度ムラセンサや,絶対照度計を設け,一旦液体を回収することなく投影光学系最終面下に液体を満たし続けたまま,高い精度で照度ムラや絶対照度を計測する露光装置。」

2-3.対比
(1)先願発明の「ウエハにレチクルのパターンを投影転写する露光装置」は,本願補正発明の「パターンの付与された放射ビームを基板に投影するリソグラフィ装置」に相当する。

(2)先願発明の「ウエハ9を保持しているウエハステージ10」は,本願補正発明の「基板を保持する」「第1のテーブル」に相当し,先願発明の「平面板21」は,本願補正発明の「基板を保持するようには構成されて」いない「第2のテーブル」に相当する。
そして,先願発明の「ウエハ9を保持しているウエハステージ10の位置決めを行うステージ制御装置13」は本願補正発明の「第1の位置決めシステム」に相当し,先願発明の「平面板21の移動機構」は本願補正発明の「第2の位置決めシステム」に相当する。

先願発明においては,「一枚のウエハ9に対する一連の露光が終了した時点で」「ウエハステージ10と平面板21は互いに隣接する位置関係を保つように連携しながら投影光学系最終面付近を移動され,平面板21が投影光学系最終面4ｓの直下に位置し,投影光学系最終面4ｓの直下に平面板21が位置している際に,ウエハ搬送装置がウエハステージ10上に吸着固定されている露光済みのウエハ9をウエハステージ10よりウエハ収納部に回収し,新しいウエハ9’をウエハステージ10上に載置し,吸着固定させ」ていることは,「ウエハ9を保持しているウエハステージ10の位置決めを行うステージ制御装置13」が投影露光対象のウエハを保持するウエハステージを投影光学系最終面の直下に出し入れしていることを意味するから,本願補正発明において「第1の位置決めシステム」が「第1のテーブルを第1のテーブルを前記パターンの付与された放射ビームの経路内及び経路外へ移動させる」ことに相当する。
また,先願発明において,「一枚のウエハ9に対する一連の露光が終了した時点で,ウエハ9と平面板21との間隙が投影光学系最終面の直下を通過する間は,平面板21の上面がウエハステージ10上に固定されるウエハ9の上面とほぼ同じ高さになり,平面板21がウエハ9との間に大きな間隙が形成されないように,ウエハステージ10と平面板21は互いに隣接する位置関係を保つように連携しながら投影光学系最終面付近を移動され,平面板21が投影光学系最終面4ｓの直下に位置」することは,「平面板21の移動機構」が「平面板21」を「互いに隣接する位置関係を保つようにウエハステージ10と連携しながら投影光学系最終面付近を移動」させ,「平面板21が投影光学系最終面4ｓの直下に位置」させるのであるから,本願補正発明において,「第2の位置決めシステム」が「第1のテーブルを前記パターンの付与された放射ビームの経路外へ移動させる際に,前記第2のテーブルを前記パターンの付与された放射ビームの経路内に位置決めする」ことに相当する。
そして,先願発明では上記のように「ウエハステージ10」「平面板21」の位置決めを行っているのであるから,先願発明の「露光装置」は,本願補正発明の「パターンの付与された放射ビームを基板に投影するリソグラフィ装置に用いるための位置決め装置」と,「位置決め装置」を有する点で共通する。

(3)本願補正発明の「液体供給システム」は「1つ又は複数の構造体,1つ又は複数の液体入口,1つ又は複数のガス入口,1つ又は複数のガス出口,及び/又は1つ又は複数の液体出口の任意の組み合わせを有し,その組み合わせによって液体を空間に提供し,閉じ込めることができる」もの(本願明細書【0043】参照。)であるから,
先願発明の「前記最終面4ｓと前記ウエハ9との間隙に液体を供給する液体供給部と,最終面4ｓと前記ウエハ9との間隙から液体を回収する液体回収部と,ウエハ9の周囲を覆うように気体を吹き出す不活性ガス吹き出し部と」は,本願補正発明の「投影システムと前記基板との間の空間に液体を供給するように構成された液体供給システム」に相当する。
そして,先願発明の「前記最終面4ｓと前記ウエハ9との間隙に液体を供給する液体供給部と,最終面4ｓと前記ウエハ9との間隙から液体を回収する液体回収部と,ウエハ9の周囲を覆うように気体を吹き出す不活性ガス吹き出し部と」が,
「投影光学系最終面4ｓとほぼ同面となる液接触平面20aに,投影光学系の周辺かつ前記投影光学系から見て第1方向に」「液体供給ノズル5」を「配置」し,
「投影光学系最終面4ｓとほぼ同面となる液接触平面20aに,投影光学系の外側かつ前記投影光学系から見て前記第2方向に投影光学系を取り囲むように」「複数の液体回収ノズル6」を「配置」し,
「平面20aよりもウエハに近い平面20cに,液体供給ノズル5及び液体回収ノズル6を取り囲むように」「不活性ガス吹き出し部」を「配置」した構造を有し,「投影光学系最終面4ｓと前記ウエハ9との間隙に前記液体が進入し該間隙が前記液体で満たされ」たことは,
本願補正発明において「液体供給システム」が「投影システムの下方に配置され投影システムを取り囲む液体閉じ込め構造体を有」することに相当する。

(4)先願発明において「平面板21が,照度ムラセンサや,絶対照度計を設け」ていることは,本願補正発明の「第2のテーブルが,前記パターンの付与された放射ビームの特性を検知するように構成されたセンサ・ユニットを有する」ことに相当する。


したがって,両者は,
「パターンの付与された放射ビームを基板に投影するリソグラフィ装置に用いるための位置決め装置において,該位置決め装置が,第1のテーブルと第2のテーブルとを含み,
前記第1のテーブルが,前記第1のテーブルを前記パターンの付与された放射ビームの経路内及び経路外へ移動させるように構成された第1の位置決めシステムに接続され,前記第1のテーブルが,基板を保持するように構成され,
前記第2のテーブルが,前記第1のテーブルを前記パターンの付与された放射ビームの経路外へ移動させる際に,前記第2のテーブルを前記パターンの付与された放射ビームの経路内に位置決めするように構成された第2の位置決めシステムに接続され,前記第2のテーブルが,基板を保持するようには構成されておらず,
投影システムと前記基板との間の空間に液体を供給するように構成された液体供給システムをさらに含み,該液体供給システムは投影システムの下方に配置され投影システムを取り囲む液体閉じ込め構造体を有し,
前記第2のテーブルが,前記パターンの付与された放射ビームの特性を検知するように構成されたセンサ・ユニットを有する位置決め装置。」
で一致し,以下の点で一応相違する。

(相違点1)
本願補正発明では「第2のテーブルが,センサ・ユニットを有するセンサ・テーブルを含」むのに対して,先願発明では「センサ・テーブル」について記載されていない点。

(相違点2)
本願補正発明では「センサ・ユニットは偏光センサを含む」のに対して,先願発明では「平面板21が,照度ムラセンサや,絶対照度計を設け」たものである点。

2-4.判断
(相違点1について)
先願明細書には,センサを保持するのにセンサ・テーブルを用いることを記載していない。しかし,センサ一般の取付けに際してセンサ・テーブルを用いる程度のことは、従来慣用の技術的事項である。
してみると,センサ・テーブルを用いることは先願明細書に記載されているに等しい事項に過ぎないものであるか、または、センサ・テーブルを採用し上記相違点1に係る本願補正発明の構成とすることは,放射ビームの特性を調べるという課題解決のための具体化手段における設計上の微差に過ぎないものである。

(相違点2について)
先願明細書には,偏光センサを設けたことを記載していない。しかし,偏光センサは,従来周知慣用の技術的事項(特開昭61-109053号公報(特許請求の範囲,2頁左下欄2行?3頁左上欄7行,図1),国際公開2004/104654号(12頁1行目?3行目,図2)参照)である。してみると,先願発明において,センサとして「照度ムラセンサや,絶対照度計」に代えて,偏光センサを採用し,上記相違点2に係る本願補正発明の構成とすることは,放射ビームの特性を調べるという課題解決のための具体化手段における設計上の微差にすぎないものである。
特に,偏光センサを平面板にそのまま設置する際に,偏光センサが場合によっては非常にかさばるものであるとしても,平面板とはいえセンサを支える強度があるものにすればよいことや,平面板の投影露光計とは反対側には十分な空間的な余地があることなどを考慮すると,先願発明の平面板21に設ける際の設置の問題は,やはり具体化の際における設計上の微差に過ぎない。

(作用効果について)
平面板に,従来慣用の技術的事項であるセンサ・テーブルを用いて,従来周知慣用の技術的事項である偏光センサを取り付けたとしても,新たな効果の差異を生じるものではない。

(請求人の主張について)
請求人は,平成22年11月4日付回答書中「(4-1)」で,以下のように主張する。
『先願2によれば,平面板21は投影光学系最終面4ｓとの間で液膜を維持する機能を提供する部材です。また,平面板21は,図9の開示及びその用語の通常の意味から,平坦な表面をもつ板状の部材であるとも理解されます。照度ムラセンサ等は液浸状態で計測するとされています。よって先願2は,平面板21の主たる機能である液膜維持を阻害しないような態様で照度ムラセンサ等を付随的に平面板21に内蔵または設置したものです。
したがって,「非常にかさばる可能性のある偏光センサ(本願明細書の段落0034)」はそうした板状部材に必ずしも適切に収容し得ないであろうと当業者が先願2から理解することに合理性があります。よって,偏光センサが露光装置で用いられるセンサとして単に知られていることを理由として先願2に記載されているに等しいとするのは妥当ではないと考えます。
引用文献11乃至13には,液浸ではない従来型の露光装置のウエハステージにおいて偏光状態を測定するための構成が記載されています。よって,それらの構成を偏光状態を測定するために先願2にそのまま適用すれば,ウエハステージに設けることになります。』

しかし,上記「相違点2について」にて検討したように,従来周知慣用の技術的事項である偏光センサを平面板にそのまま設置する際に,偏光センサが場合によっては非常にかさばるものであるとしても,平面板とはいえセンサを支える強度があるものにすればよいことや,平面板の投影露光計とは反対側には十分な空間的な余地があることなどを考慮すると,先願発明の平面板21に設ける際の設置の問題は,やはり具体化の際における設計上の微差に過ぎない。

請求人は,また以下のように主張する。
『また,平面板21に単に設置したとしても,投影光学系最終面下に液体を満たし続けたまま偏光を測定できるとは言えません。例えば引用文献11には,ウエハWからいくらか離れかつ異なる高さに表面をもつ偏光板56及び光センサ58が記載されているにすぎません。引用文献13においてはウェハステージWSの側面に偏光状態測定器6が取り付けられているにすぎません。』
しかし,先願発明において「ウエハ9と平面板21との間隙が投影光学系最終面の直下を通過する間は,面板21の上面がウエハステージ10上に固定されるウエハ9の上面とほぼ同じ高さになり,平面板21がウエハ9との間に大きな間隙が形成されないように,ウエハステージ10と平面板21は互いに隣接する位置関係を保つように連携しながら投影光学系最終面付近を移動され」るのであるから,偏光センサを平面板に設置すれば,投影光学系最終面下に液体を満たし続けたまま偏光を測定できることは,当業者に明らかである。

以上のことから,請求人の主張は採用できない。

(補正案について)
請求人は,上記回答書において以下の補正案を提示している。
『なお,請求項3に係る発明は,「前記第1のテーブルを前記パターンの付与された放射ビームの経路外へ移動させる際に,前記第2のテーブルが,少なくとも部分的に前記空間の境界を定める面を形成するようになって」います。第1のテーブルをビーム経路外に移動させる際に第2のテーブルが投影システムと基板との間の空間に液体を閉じ込めるよう構成されていることがより明確に記載されています。
請求項4に係る発明は,第1のテーブルをビーム経路外に移動させるのと同期して第2のテーブルをビーム経路内に位置決めするものであり,第1及び第2のテーブルの移動が同期して行われる一連の処理であることがより明確に記載されています。
出願人は,これらの構成を組み入れることで請求項1に係る発明の特徴的な構成をより明確とするように補正する用意がございますことを申し添えます。審理の際に考慮に入れていただきたく存じます。 』

しかし,先願発明では
「一枚のウエハ9に対する一連の露光が終了した時点で,ウエハ9と平面板21との間隙が投影光学系最終面の直下を通過する間は,平面板21の上面がウエハステージ10上に固定されるウエハ9の上面とほぼ同じ高さになり,平面板21がウエハ9との間に大きな間隙が形成されないように,ウエハステージ10と平面板21は互いに隣接する位置関係を保つように連携しながら投影光学系最終面付近を移動され」「ウエハステージ10を移動する際には,液体供給ノズル5より液体を供給し,液体回収ノズル6より液体を回収し続けることにより,平面板21が投影光学系最終面4ｓの下に位置した状態においても,投影光学系最終面4ｓの下は常に液体で満たされ」るものであって,ウエハステージの移動と平面板の移動とが同期して平面板が投影光学面の下の位置まで移動する際にも,液体が満たされた状態を維持されることが,明らかである。
してみると,仮に審判請求時に請求人の補正案のような手続補正がなされたとしても,先願発明との間に差異は生じえず,当該手続補正は独立特許要件に違反するものである。

(まとめ)
以上のように,上記相違点は実質的な相違点ではなく,本願補正発明は,先願発明と実質同一である。

2-5.むすび
以上のことから,本願補正発明は,先願発明と実質同一であるから,特許法第29条の2の規定により特許出願の際独立して特許を受けることができないものである。そして,本件補正は,平成18年改正前特許法第17条の2第5項で準用する同法第126条第5項の規定に違反するものであり,特許法第159条第1項で読み替えて準用する同法第53条第1項の規定により却下されるべきものである。

3.本願発明について
3-1.本願の請求項1に係る発明
平成21年9月18日日付の手続補正は前記のとおり却下されたので,本願の請求項1?22に係る発明は,平成21年3月23日付手続補正書により補正された特許請求の範囲の請求項1?22に記載されたとおりのものであると認められるところ,請求項1に係る発明(以下,「本願発明」という。)は,前記「2-1.(1)」のとおりである。

3-2.引用先願明細書の記載
原査定の拒絶の理由に引用された先願明細書には,前記「2-2」に記載したとおりの事項が記載されている。

3-3.対比・判断
本願発明は,
本願補正発明(前記「2-1(2)」参照)の
「第2のテーブル」について「第2のテーブルが,前記パターンの付与された放射ビームの特性を検知するように構成されたセンサを有するセンサ・テーブルを含む」という事項,並びに同請求項3に規定されていた規定の一部である「偏向センサ」という事項を省いたものに相当する。
そして,前記「第2のテーブルが,前記パターンの付与された放射ビームの特性を検知するように構成されたセンサを有するセンサ・テーブルを含む」という事項は,本願補正発明について前記「2-3」で検討した「相違点1」に係るものであり,前記「偏向センサ」という事項は,本願補正発明について前記「2-3」で検討した「相違点2」に係るものである。
したがって,本願発明と先願発明との間に差異はなく,両者は,同一である。

4.むすび
以上のことから,本願の請求項1に係る発明は,特許法第29条の2の規定により特許を受けることができないものであるから,他の請求項について検討するまでもなく,本願は拒絶すべきものである。
よって,結論のとおり審決する。
 
審理終結日 2011-02-08 
結審通知日 2011-02-15 
審決日 2011-03-04 
出願番号 特願2005-364265(P2005-364265)
審決分類 P 1 8・ 575- Z (H01L)
P 1 8・ 161- Z (H01L)
最終処分 不成立  
前審関与審査官 佐藤 秀樹  
特許庁審判長 柏崎 康司
特許庁審判官 一宮 誠
木村 史郎
発明の名称 リソグラフィ装置及びデバイス製造方法  
代理人 森下 賢樹  

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