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| 審決分類 |
審判 査定不服 2項進歩性 特許、登録しない。 G11B 審判 査定不服 5項独立特許用件 特許、登録しない。 G11B |
|---|---|
| 管理番号 | 1242688 |
| 審判番号 | 不服2008-28509 |
| 総通号数 | 142 |
| 発行国 | 日本国特許庁(JP) |
| 公報種別 | 特許審決公報 |
| 発行日 | 2011-10-28 |
| 種別 | 拒絶査定不服の審決 |
| 審判請求日 | 2008-11-06 |
| 確定日 | 2011-09-01 |
| 事件の表示 | 特願2003-376486「磁気ディスク用ガラス基板の製造方法及び磁気ディスクの製造方法」拒絶査定不服審判事件〔平成17年 6月 2日出願公開、特開2005-141824〕について、次のとおり審決する。 |
| 結論 | 本件審判の請求は、成り立たない。 |
| 理由 |
第1 手続の経緯 本願は、平成15年11月6日に出願したものであって、平成20年6月30日付け拒絶理由通知に対して同年9月7日付けで手続補正がなされたが、同年10月1日付けで拒絶査定がされた。これに対し、同年11月6日付けで拒絶査定不服審判が請求されるとともに、同日付けで手続補正がなされた。 その後、平成22年11月30日付けで前置報告書を利用した審尋がなされ、平成23年1月31日付けで回答書が提出されたものである。 第2 平成20年11月6日付けの手続補正についての補正却下の決定 [補正却下の決定の結論] 平成20年11月6日付けの手続補正を却下する。 [理由] 1.本件補正 平成20年11月6日付けの手続補正(以下「本件補正」という。)は、特許請求の範囲についてするもので、本件補正前に、 「 【請求項1】 ガラスディスクの主表面に、研磨砥粒としてダイヤモンド砥粒とシリカ砥粒を含むアルカリ性である研磨液を供給し、ガラスディスクの主表面に研磨テープを押圧させながらガラスディスクと研磨テープとを相対的に移動させて前記主表面を研磨する工程を有することを特徴とする磁気ディスク用ガラス基板の製造方法。 【請求項2】 前記研磨液中に含まれるダイヤモンド砥粒とシリカ砥粒の混合比は、重量比で1:1?8:2であることを特徴とする請求項1記載の磁気ディスク用ガラス基板の製造方法。 【請求項3】 前記研磨テープのガラスディスク主表面に接する面は不織布からなることを特徴とする請求項1又は2記載の磁気ディスク用ガラス基板の製造方法。 【請求項4】 前記ガラスディスクは、化学強化されたガラスディスクであることを特徴とする請求項1乃至3の何れかに記載の磁気ディスク用ガラス基板の製造方法。 【請求項5】 ロードアンロード方式用の2.5インチサイズ未満の磁気ディスクに用いるガラス基板であることを特徴とする請求項1乃至4の何れかに記載の磁気ディスク用ガラス基板の製造方法。 【請求項6】 請求項1乃至5の何れかに記載の製造方法によって得られた磁気ディスク用ガラス基板上に、少なくとも磁性層を形成することを特徴とする磁気ディスクの製造方法。」 とあったところを、 本件補正後、 「 【請求項1】 化学強化されたガラスディスクの主表面に、研磨砥粒としてダイヤモンド砥粒とシリカ砥粒を含むアルカリ性である研磨液を供給し、前記ガラスディスクの主表面に研磨テープを押圧させながらガラスディスクと研磨テープとを相対的に移動させて前記主表面にテクスチャーを形成するよう研磨する工程を有することを特徴とする磁気ディスク用ガラス基板の製造方法。 【請求項2】 前記研磨液中に含まれるダイヤモンド砥粒とシリカ砥粒の混合比は、重量比で1:1?8:2であることを特徴とする請求項1記載の磁気ディスク用ガラス基板の製造方法。 【請求項3】 前記研磨テープのガラスディスク主表面に接する面は不織布からなることを特徴とする請求項1又は2記載の磁気ディスク用ガラス基板の製造方法。 【請求項4】 ロードアンロード方式用の2.5インチサイズ未満の磁気ディスクに用いるガラス基板であることを特徴とする請求項1乃至3の何れかに記載の磁気ディスク用ガラス基板の製造方法。 【請求項5】 請求項1乃至4の何れかに記載の製造方法によって得られた磁気ディスク用ガラス基板上に、少なくとも磁性層を形成することを特徴とする磁気ディスクの製造方法。」 とするものである。 上記本件補正の内容は、請求項1については、発明特定事項である「ガラスディスク」について「化学強化された」、「研磨する」について「テクスチャーを形成するよう」と限定したものである。 本件補正は、発明特定事項を限定するものであるから、平成18年法律第55号改正附則第3条第1項によりなお従前の例によるとされる同法による改正前の特許法第17条の2第4項第2号に掲げる特許請求の範囲の減縮を目的とするものに該当する。 そこで、本件補正後の請求項1に係る発明(以下「本件補正発明」という。)が特許出願の際独立して特許を受けることができるものであるか(平成18年法律第55号改正附則第3条第1項によりなお従前の例によるとされる同法による改正前の特許法第17条の2第5項において準用する同法第126条第5項に規定する要件を満たすか)否かについて、以下検討する。 2.引用例 原査定の拒絶の理由に引用された特開2002-32909号公報(平成14年1月31日公開、以下「引用例1」という。)には、図面と共に、以下の記載がある。(なお、下線は当審で付与した。) (1)「【0001】 【発明の属する技術分野】本発明は磁気記録媒体用基板とその製造方法に関する。さらに、本発明は磁気記録媒体とその製造方法に関する。」 (2)「【0012】(構成5)前記磁気記録媒体用基板はガラスからなることを特徴とする構成1乃至4の何れか一に記載の磁気記録媒体用基板。 (構成6)構成1乃至5の何れか一に記載された磁気記録媒体用基板の主表面上に、少なくとも磁性層が形成されていることを特徴とする磁気記録媒体。 (構成7)円盤状基板の主表面を研磨して磁気記録媒体用基板を製造する製造方法において、前記円盤状基板の主表面を研磨した後、両主表面に研磨剤を含む研磨液を供給しながら、前記円盤状基板の中心を中心軸として回転する前記円盤状基板の主表面に研磨テープを接触させることを特徴とする磁気記録媒体用基板の製造方法。 【0013】(構成8)前記研磨剤は、平均粒径1.0μm以下であることを特徴とする構成7記載の磁気記録媒体用基板の製造方法。 (構成9)前記研磨剤は、前記基板の材料と化学的な反応による結合を起こさないものであることを特徴とする構成7又は8記載の磁気記録媒体用基板の製造方法。 (構成10)前記研磨剤は、ダイヤモンド砥粒、アルミナ砥粒、コロイダルシリカ砥粒、酸化ジルコニア砥粒、シリコンカーバイド砥粒の中から選択された少なくとも1種からなることを特徴とする構成9記載の磁気記録媒体用基板の製造方法。 【0014】(構成11)前記再研磨の研磨量(取しろ)が、5?30nmであることを特徴とする構成7乃至10の何れか一に記載の磁気記録媒体用基板の製造方法。 (構成12)前記基板は、ガラスからなることを特徴とする構成7乃至11の何れか一に記載の磁気記録媒体用基板の製造方法。 (構成13)化学強化処理を施したガラス基板の主表面を研磨し平滑にする磁気記録媒体用ガラス基板の製造方法において、研磨し削減するガラス厚さは各研磨面につき5?30nmであることを特徴とする磁気記録媒体用ガラス基板の製造方法。 (構成14)構成7乃至13の何れか一に記載の磁気記録媒体用基板の主表面上に、少なくとも磁性層を形成することを特徴とする磁気記録媒体の製造方法。」 (3)「【0020】また、構成7のように、円盤状基板の主表面を研磨した後、該円盤状基板の両主表面に研磨剤を含む研磨液を供給しながら、円盤状基板の中心を中心軸として回転する円盤状基板の主表面に研磨テープを接触させて再研磨することにより、基板毎の品質のバラツキも少なく、同心円状の凹凸を形成した基板を安定して製造することができる。研磨テープは、ある一定速度で常に新しい面が基板主表面に接触するようにする。使用する研磨テープの材質、幅については特に制限されない。研磨テープの種類としては、植毛、織物、不織布、ポリウレタンなどが挙げられる。中でも、織物テープが好ましい。同心円状凹凸を形成しやすいことと、平滑性の観点から、材料としては、限定されない。材料としては、ポリエステル、ナイロンなどが挙げられる。また、研磨テープの幅は、基板のサイズによって適宜調整される。具体的には、5?40mmである。また、研磨テープの送り速度、基板に対する研磨テープの加重、圧力についても、平滑性、同心円凹凸形状に応じ適宜調整される。例えば、研磨テープの送り速度は、1?10mm/ｓecである。好ましくは、2mm/ｓecが望ましい。また、研磨テープの加重、圧力についても平滑性に応じ適宜調整される。例えば、加重は、0.5?5kgである。好ましくは、1.5kg程度が望ましい。圧力は、4.5?45g/mm2である。また、再研磨する前の基板の表面粗さはRmaxで8nm以下が望ましい。研磨量(取しろ)が10nm以下だからである。研磨量を10nm以下にすることの理由は後述する。」 (4)「【0022】また、構成9にあるように、研磨剤は、基板の材料と化学的な反応による結合を起こさないものであることが望ましい。基板材料と化学的な反応を起こす研磨剤は、中性の洗剤を用いたスクラブによる研磨剤の除去が困難だからである。ここで、化学的な反応を起こさないとは、基板の材料と研磨剤が化学的な結合による吸着しない状態を指す。具体的な研磨剤としては、構成10にあるように、ダイヤモンド砥粒、アルミナ砥粒、コロイダルシリカ砥粒、酸化ジルコニア砥粒、シリコンカーバイド砥粒などが挙げられる。研磨剤は、平滑性、同心円状凹凸形状に応じて適宜選択される。中でも、基板がガラスの場合は、安定した研磨、テクスチャ処理の点から粒度分布が小さい多結晶ダイヤモンド砥粒が望ましい。なお、これらの研磨剤は、使用する際、1種類に限らず、2種類以上の研磨剤を混合させて用いても良い。」 (5)「【0029】 【発明の実施の形態】以下に実施例を挙げて、本発明の実施の形態についてさらに詳細に説明する。 [実施例1,2]本実施例の磁気記録媒体用ガラス基板1は、図1に示す通り、化学強化されたアルミノシリケートガラスに、研磨、及び同心円状テクスチャが施された基板である。このガラス基板1を使用した本実施例の磁気記録媒体は、シード層2、下地層3、中間層4、磁性層5、保護層6、潤滑層7が順次積層してなる磁気ディスクである。ガラス基板1は、Rmax=7nm、Ra=0.8nm程度の鏡面研磨された化学強化されたアルミノシリケートガラスに対して、テープ(Taｐe)式のテクスチャ装置を用いて、研磨、及び同心円状テクスチャ処理が施されている。」 上記摘示事項及び図面の記載を総合勘案すると、引用例1には、次の発明(以下「引用発明」という。)が記載されているものと認める。 「化学強化処理を施した円盤状ガラス基板の主表面に、ダイヤモンド砥粒、アルミナ砥粒、コロイダルシリカ砥粒、酸化ジルコニア砥粒、シリコンカーバイド砥粒の中から選択された少なくとも1種からなる研磨剤を含む研磨液を供給しながら、前記円盤状ガラス基板の中心を中心軸として回転する前記円盤状ガラス基板の主表面に研磨テープを接触させ、圧力を加えてテクスチャ処理を施す磁気ディスク用ガラス基板の製造方法。」 同じく、原査定の拒絶の理由に引用された特開平6-187637号公報(平成6年7月8日公開、以下「引用例2」という。)には、図面と共に、以下の記載がある。(なお、下線は当審で付与した。) (6)「【0031】矢印Aの方向に600rpm で回転させた65mmφのチタン合金基板11の表裏両面にセルロース織布から成る研摩布12,12′をポリウレタン系の加圧ローラ13,13′で2kgfの力で押しつけ、平均粒径0.75μm のダイヤモンド10ｗｔ%,平均粒径0.7μmのAl_(2)O_(3)5ｗｔ%,平均粒径0.25μmのCeO_(2)45ｗｔ% 、および平均粒径0.1μmのSiO_(2)40ｗｔ%を親油性溶媒に分散させたスラリ状の複合砥粒14,14′をノズル15,15′を介して基板面と研摩布間に供給しながら、研摩布12,12′を矢印Bの方向に0.5cm/sec の速度で走行させ、矢印Cの方向に4回往復運動させ基板面全面を研摩して、磁気ディスク用基板とした。この基板上に形成された傷は基板の円周方向とほぼ平行であった。」 (7)「【0040】矢印Aと逆方向に550rpm で回転させた34mmφのNiPメッキAl-Mg合金基板11の表裏両面にセルロース織布から成る研摩布12,12′をポリウレタン系の加圧ローラ13,13′で1.8kgf の力で押しつけ、平均粒径 0.75μm のダイヤモンド20ｗｔ%,平均粒径0.25μmのCeO_(2)50ｗｔ%、および平均粒径0.1μmのSiO_(2)30ｗｔ%を親油性溶媒に分散させたスラリ状の複合砥粒14,14′をノズル15,15′を介して基板面と研摩布間に供給しながら、研摩布12,12′を矢印Bの方向に0.5cm/secの速度で走行させ、矢印Cの方向に4回往復運動させ基板面全面を研摩して、磁気ディスク用基板とした。この基板上に形成された傷は基板の円周方向とほぼ平行であった。」 3.対比 そこで、本件補正発明と引用発明とを対比する。 引用発明の「円盤状ガラス基板」「研磨剤」「テクスチャ処理を施す」は、それぞれ、本件補正発明の「ガラスディスク」「研磨砥粒」「テクスチャーを形成するよう研磨する」に相当する。引用発明において、「前記円盤状ガラス基板の中心を中心軸として回転する前記円盤状ガラス基板の主表面に研磨テープを接触させ」ると、円盤状ガラス基板と研磨テープとを相対的に移動させることになるから、引用発明の「前記円盤状ガラス基板の中心を中心軸として回転する前記円盤状ガラス基板の主表面に研磨テープを接触させ、圧力を加えて」は、本件補正発明の「前記ガラスディスクの主表面に研磨テープを押圧させながらガラスディスクと研磨テープとを相対的に移動させて」に相当する。 そうすると、本件補正発明と引用発明とは、次の点で一致する。 ＜一致点＞ 「化学強化されたガラスディスクの主表面に、研磨砥粒を含む研磨液を供給し、前記ガラスディスクの主表面に研磨テープを押圧させながらガラスディスクと研磨テープとを相対的に移動させて前記主表面にテクスチャーを形成するよう研磨する工程を有する磁気ディスク用ガラス基板の製造方法。」の点。 そして、次の点で相違する。 ＜相違点＞ (1)「研磨液」について、本件補正発明は、「研磨砥粒としてダイヤモンド砥粒とシリカ砥粒を含む」のに対し、引用発明は、「ダイヤモンド砥粒、アルミナ砥粒、コロイダルシリカ砥粒、酸化ジルコニア砥粒、シリコンカーバイド砥粒の中から選択された少なくとも1種からなる研磨剤を含む」点。 (2)「研磨液」について、本件補正発明は、「アルカリ性である」のに対し、引用発明は、そのような限定がない点。 4.判断 そこで、上記相違点について検討する。 相違点(1)について 引用例1には、具体的な研磨剤としては、ダイヤモンド砥粒、アルミナ砥粒、コロイダルシリカ砥粒、酸化ジルコニア砥粒、シリコンカーバイド砥粒などが挙げられること、これらの研磨剤は、使用する際、1種類に限らず、2種類以上の研磨剤を混合させて用いても良いことが記載され(【0022】)、「研磨砥粒としてダイヤモンド砥粒とシリカ砥粒を含む」「研磨液」が既に知られている(引用例2【0031】【0040】)ことを考慮すると、引用発明において、研磨剤として、ダイヤモンド砥粒、アルミナ砥粒、コロイダルシリカ砥粒、酸化ジルコニア砥粒、シリコンカーバイド砥粒の中からダイヤモンド砥粒とシリカ砥粒を含む組み合わせを選択することは、当業者が適宜なし得るといえる。 相違点(2)について 磁気ディスク用ガラス基板の研磨液としてアルカリ性のものは周知である(例えば、特開2003-173518号公報、特開2001-72962号公報【0044】、特開2000-86301号公報【0026】参照)から、引用発明において、研磨液をアルカリ性のものとすることは、当業者が適宜なし得る。 したがって、本件補正発明は、引用例1、2に記載された発明及び周知技術に基づいて当業者が容易に発明をすることができたものであり、特許法第29条第2項の規定により、特許出願の際独立して特許を受けることができないものである。 5.本件補正についてのむすび 以上のとおり、本件補正は、平成18年法律第55号改正附則第3条第1項によりなお従前の例によるとされる同法による改正前の特許法第17条の2第5項において準用する同法第126条第5項の規定に違反するので、同法第159条第1項において読み替えて準用する同法第53条第1項の規定により却下すべきものである。 第3 本願発明について 1.本願発明 平成20年11月6日付けの手続補正は、上記のとおり却下されたので、本願の請求項1ないし6に係る発明は、平成20年9月7日付けの手続補正により補正された特許請求の範囲の請求項1ないし6に記載された事項により特定されるものであるところ、請求項1に係る発明(以下「本願発明」という。)は、上記「第2[理由]1.」に本件補正前の請求項1として記載したとおりのものである。 2.引用例 原査定の拒絶の理由で引用された引用例及びその記載事項は、上記「第2[理由]2.」に記載したとおりである。 3.対比・判断 本願発明は、上記「第2[理由]3.及び4.」で検討した本件補正発明から、発明特定事項である「ガラスディスク」について「化学強化された」、「研磨する」について「テクスチャーを形成するよう」との構成を削除したものである。 そうすると、本願発明の構成要件を全て含み、さらに他の構成要件を付加したものに相当する本件補正発明が、上記「第2[理由]3.及び4.」に記載したとおり、引用例1、2に記載された発明及び周知技術に基づいて当業者が容易に発明をすることができたものであるから、本願発明も、同様の理由により、引用例1、2に記載された発明及び周知技術に基づいて当業者が容易に発明をすることができたものである。 4.むすび 以上のとおり、本願の請求項1に係る発明は、特許法第29条第2項の規定により特許を受けることができない。 したがって、本願は、その余の請求項について論及するまでもなく拒絶すべきものである。 よって、結論のとおり審決する。 |
| 審理終結日 | 2011-06-28 |
| 結審通知日 | 2011-07-05 |
| 審決日 | 2011-07-19 |
| 出願番号 | 特願2003-376486(P2003-376486) |
| 審決分類 |
P
1
8・
121-
Z
(G11B)
P 1 8・ 575- Z (G11B) |
| 最終処分 | 不成立 |
| 前審関与審査官 | 蔵野 雅昭、山下 達也 |
| 特許庁審判長 |
山田 洋一 |
| 特許庁審判官 |
月野 洋一郎 関谷 隆一 |
| 発明の名称 | 磁気ディスク用ガラス基板の製造方法及び磁気ディスクの製造方法 |
| 代理人 | 大塚 武史 |