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審決分類 審判 査定不服 2項進歩性 特許、登録しない。 C08J
管理番号 1242942
審判番号 不服2008-28297  
総通号数 142 
発行国 日本国特許庁(JP) 
公報種別 特許審決公報 
発行日 2011-10-28 
種別 拒絶査定不服の審決 
審判請求日 2008-11-06 
確定日 2011-09-07 
事件の表示 特願2003- 64842「光学フィルムの製造方法」拒絶査定不服審判事件〔平成16年 9月30日出願公開、特開2004-269772〕について、次のとおり審決する。 
結論 本件審判の請求は、成り立たない。 
理由 1.手続の経緯
本願は、平成15年 3月11日の出願であって、平成20年10月 1日付で拒絶査定がなされ、これに対して同年11月 6日に拒絶査定に対する審判請求がなされたものである。

2.本願発明
本願の特許請求の範囲の請求項1-3に係る発明は、平成20年 7月26日付手続補正書により補正された特許請求の範囲の請求項1-3に記載された事項により特定されると認められるところ、その請求項1に係る発明(以下【本願発明】という。)は以下のとおりである。

「触媒としてチタン化合物を用いて二官能性芳香族カルボン酸のエチレングリコールエステル及び/またはその低重合体を重縮合反応させて得たポリエステルを、ダイから溶融押出し、急冷して、所望によりさらに延伸、熱固定処理を施して製造したフィルムの上に、直接または他の層を介して、窒素を主成分とする雰囲気下において大気圧プラズマ処理によって形成された金属化合物層を有する光学フィルムの製造方法において、該ポリエステルがリン化合物の少くとも1種を含有し、リン原子とチタン原子のグラム原子比(P/Ti)が0.6?4.0であり、かつリン原子が150ppm以下であることを特徴とする光学フィルムの製造方法。」

3.引用例の記載
原査定の拒絶の理由に引用された、本願出願前に頒布された特開2002-339075号公報(原査定の引用文献1。以下「引用例1」という。)には、以下の記載がある。(以下、下線は当審にて付与した。)

(1a)「【請求項1】長尺基材が対向する電極間に配置され、電極間に設けられた長尺基材の幅手方向に沿ってスリット状に配置されたガス導入口から大気圧又は大気圧近傍の圧力下で反応ガスを送り込みながら、前記電極間に高周波電圧を印加して放電させて、基材表面に薄膜を形成することを特徴とする長尺基材の表面処理方法。」

(1b)「【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、長尺基材上に均一な薄膜を形成するための表面処理方法及びその方法により形成された長尺フィルムに関し、特に太陽電池、液晶画像表示装置、各種ディスプレイ装置、有機ELディスプレイ、無機ELディスプレイ、CRT、プラズマディスプレイ等に使用される光学フィルムに関する。」

(1c)「【0049】プラズマ放電処理のために電極間に印加される高周波電圧は周波数100kHz?150MHzであることが特に望ましい。プラズマ放電処理のために印加される周波数が100kHz未満では形成される膜が多孔質となりやすく、膜が弱くなり好ましくない。150MHzを越えると安定した放電空間を得ることが難しく、特に50MHz以下であることが好ましい。これによって、より均一で強固な膜を均一に形成することが可能となる」。

(1d)「【0062】次に、本発明の表面処理方法に係る混合ガスについて説明する。本発明により薄膜を形成するため希ガスに有機金属化合物或いは有機物を含有する混合ガスが好ましく用いられる。反応ガスを変更することで光学干渉層(反射防止層)、導電層、帯電防止層、耐透気性層、防汚層などの様々な機能を有する薄膜(層)を形成することができる。」

(1e)「【0082】上記の支持体(基材としても用いられる)としては、具体的には、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート等のポリエステルフィルム、ポリエチレンフィルム、ポリプロピレンフィルム、セロファン、セルロースジアセテートフィルム、セルロースアセテートブチレートフィルム、セルロースアセテートプロピオネートフィルム、セルロースアセテートフタレートフィルム、セルローストリアセテート、セルロースナイトレート等のセルロースエステル類またはそれらの誘導体からなるフィルム、ポリ塩化ビニリデンフィルム、ポリビニルアルコールフィルム、エチレンビニルアルコールフィルム、シンジオタクティックポリスチレン系フィルム、ポリカーボネートフィルム、ノルボルネン樹脂系フィルム、ポリメチルペンテンフィルム、ポリエーテルケトンフィルム、ポリイミドフィルム、ポリエーテルスルホンフィルム、ポリスルホン系フィルム、ポリエーテルケトンイミドフィルム、ポリアミドフィルム、フッ素樹脂フィルム、ナイロンフィルム、ポリメチルメタクリレートフィルム、アクリルフィルムあるいはポリアリレート系フィルム等を挙げることができる。」

(1f)「【0107】本発明の表面処理方法は基材の表面に直接薄膜を形成することも可能であるが、基材上に設けられた塗布層の上に本発明の方法で薄膜を形成することも出来る。塗布層の種類については特に限度はなく、例えば塗布で設けた帯電防止層、導電層、ハードコート層、防眩層、光学干渉層、屈折率層、バックコート層等があげられる。なかでも特にエチレン性不飽和モノマーを含む成分を重合させて形成した樹脂層上に薄膜を形成する為に好ましく用いることが出来る。」

(1g)「【0168】
【発明の効果】本発明のプラズマ放電を用いた表面処理法によって基材フィルムの表面に均一な薄膜を形成でき光学特性に優れた光学フィルムが得られる。」

以上の記載事項から、引用例1には、以下の発明(以下「引用例発明」という。)が記載されている。
「ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート等のポリエステルフィルムの基材表面に直接、または基材上に設けられた塗布層の上に、プラズマ放電処理で希ガスに有機金属化合物を含有する混合ガスを用い薄膜を形成し、光学干渉層(反射防止層)を形成する方法」

原査定の拒絶の理由に引用された、本願出願前に頒布された特開平6-170911号公報(原査定の引用文献2。以下「引用例2」という。)には、以下の記載がある。

(2a)「【請求項1】チタン化合物をチタン原子換算で7?120ppm用いて重合したポリエステルをダイから溶融押出し急冷して、所望によりさらに延伸、熱固定処理を施してフイルムを製造するに際し、重合が実質的に完了したときから溶融押出す迄の任意の段階で、ポリエステルにリン化合物の少くとも1種を、リン原子とチタン原子のグラム原子比(P/Ti)が0.5?4.0でありかつリン原子の量が150ppm以下となる割合で添加し、含有させることを特徴とするポリエステルフイルムの製造方法。
【請求項2】ポリエステルがポリエチレンテレフタレートである請求項1記載のポリエステルフイルムの製造方法。
【請求項3】ポリエステルがポリエチレン?2,6?ナフタレートである請求項1記載のポリエステルフイルムの製造方法。」

(2b)「【0007】
【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、ポリマーの熱安定性を高めてフイルム中の不溶性異物の生成を抑制し、優れた品質を有し、例えばオーディオ用磁気テープ、ビデオ用磁気テープ、コンピューター用磁気テープ、フロッピーディスク、X線写真フイルム、テレホンカード、メンブレン、ジアゾマイクロフイルム等の基材として有用なポリエステルフイルムの製造方法を提供することにある。」

(2c)「【0019】本明細書における種々の特性は下記の方法で測定される。
【0020】(1)固有粘度[η]
オルソクロロフェノール溶融中35℃で測定した値から求める。
【0021】(2)ポリエステル中のTi,P量
ポリマー又はフイルムの所定量を塩酸と硝酸の混酸で分解し、イットリウム溶液を添加し定容とした後JIS G1258に基づいてイットリウム内標準法により、誘導結合プラズマ発光分光法を用いてフイルム中のTi,P量を測定する。
【0022】(3)耐熱性
フイルムを空気雰囲気下220℃で30分間緊張処理した時の処理前後の固有粘度の低下率を下式により評価する。
【0023】
【数1】

固有粘度の低下率(%)=

[処理前の固有粘度]-[処理後の固有粘度]×100
[処理前の固有粘度]

【0024】×:固有粘度の低下率が50%以上
△:固有粘度の低下率が20?50%
○:固有粘度の低下率が20%未満
【0025】
【実施例】以下、実施例を挙げて本発明を更に説明する。なお、例中の部は重量部を意味する。
【0026】
【実施例1】・・・
【0046】
【表1】

【0047】
【発明の効果】本発明によれば、ポリマーの熱安定性を高めてフイルム中の不溶性異物の生成を抑制し、優れた品質を有し、例えば磁気記録媒体、電気絶縁材、コンデンサー、メンブレンスイッチ、写真フイルム、ジアゾマイクロフイルム等のベースとして有用なポリエステルフイルムの製造方法を提供することができる。」

原査定の拒絶の理由に引用された、本願出願前に頒布された特開2002-151494号公報(原査定の引用文献3。以下「引用例3」という。)には、以下の記載がある。

(3a)「【請求項6】不活性ガス雰囲気が、窒素、アルゴン、ヘリウム、ネオン、キセノンからなる群から選ばれるいずれか一種以上のガスの雰囲気であることを特徴とする請求項1?5のいずれか1項に記載の常圧プラズマ処理方法。」

4.対比
引用例発明の「ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート等のポリエステルフィルムの基材」は、本願発明の「ポリエステル」から「」製造したフィルム」に相当する。
引用例発明の「基材表面に直接、または基材上に設けられた塗布層の上に、プラズマ放電処理で希ガスに有機金属化合物を含有する混合ガスを用い薄膜を形成」することは、本願発明の「フィルムの上に、直接または他の層を介して、プラズマ処理によって」「金属化合物層」を「形成」することに相当する。
したがって、本願発明と引用例発明とは
「ポリエステルフィルムの上に、直接または他の層を介して、プラズマ処理によって形成された金属化合物層を有する光学フィルムの製造方法」
で一致し、以下の点で相違する。

(相違点1)
本願発明のポリエステルフィルムが「触媒としてチタン化合物を用いて二官能性芳香族カルボン酸のエチレングリコールエステル及び/またはその低重合体を重縮合反応させて得たポリエステルを、ダイから溶融押出し、急冷して、所望によりさらに延伸、熱固定処理を施して製造した」ものであり「ポリエステルがリン化合物の少くとも1種を含有し、リン原子とチタン原子のグラム原子比(P/Ti)が0.6?4.0であり、かつリン原子が150ppm以下である」であるのに対して、引用例発明ではどのように製造したかが明らかでない点。

(相違点2)
本願発明の金属化合物層を形成するプラズマ処理が「窒素を主成分とする雰囲気下において大気圧プラズマ処理」をおこなうものであるのに対して、引用例発明のプラズマ処理が「希ガスに有機金属化合物を含有する混合ガスを用いる」ものであること以外明らかでない点。

5.判断
5-1.相違点1について
引用例発明と同じポリエステルフィルムに関する技術的事項を記載する引用例2には、「チタン化合物をチタン原子換算で7?120ppm用いて重合したポリエステルをダイから溶融押出し急冷して、所望によりさらに延伸、熱固定処理を施してフイルムを製造するに際し、重合が実質的に完了したときから溶融押出す迄の任意の段階で、ポリエステルにリン化合物の少くとも1種を、リン原子とチタン原子のグラム原子比(P/Ti)が0.5?4.0でありかつリン原子の量が150ppm以下となる割合で添加し、含有させること」(上記(2a)参照。)が記載されている。
そしてリン原子とチタン原子のグラム原子比を,引用例2よりも若干狭い0.6?4.0とする点は、優れた品質のポリエステルフィルムを製造するという引用例2の課題(上記(2b)(2c)参照。)に鑑みれば、当業者が適宜選択し得た事項であると言わざるを得ない。

5-2.相違点2について
窒素ガス等の不活性ガス雰囲気下で大気圧プラズマ処理を行うことは、従来周知の技術的事項(上記(3a)参照。)であるから、引用例発明において、相違点2にかかる構成を採用することに、格別の困難性はない。

5-3.作用効果について
得られた光学フィルムの評価について、本願発明の詳細な説明では、以下の記載がある。
「【0201】
【実施例】
以下、実施例により本発明を更に具体的に説明するが、本発明の実施態様はこれらに限定されるものではない。
【0202】
実施例
〔ポリエステルフィルムの作製〕
(ポリエステルフィルム1)
・・・
〔光学フィルムの評価〕
得られた光学フィルムについて下記のように、クラック及び膜厚均一性を評価した。その結果を表3に示す。
【0256】
(クラック)
光学フィルムを90℃、ドライで500時間処理し、表面に形成された金属化合物層に発生したクラックを目視及び顕微鏡で観察し、下記のようにランク評価した。
【0257】
◎:クラックはほとんど認められず、透明性に優れる
○:クラックは認められるが、白濁はない
△:クラックが認められ、僅かに白濁している(実用不可)
×:著しくクラックが入り、白濁している(実用不可)
本発明では、◎、○が実用可のレベルである。
【0258】
(膜厚均一性)
光学フィルムの断面を透過電子顕微鏡により観察し、第1酸化珪素層の膜厚を測定した。測定個所は光学フィルム1m×1mの範囲について25点選んだ。測定基準は以下の通り。
【0259】
◎:膜厚の標準偏差が0.5nm未満
○:膜厚の標準偏差が0.5nm以上1nm未満
△:膜厚の標準偏差が1nm以上1.5nm未満
×:膜厚の標準偏差が1.5nm以上
得られた結果を表3に示す。なお、第1酸化珪素層の膜厚が変動すると反射光の色むらとなりやすく、△以上は実用可能レベルである。
【0260】
【表3】



上記の記載によれば、本願発明の詳細な説明で評価しているクラックは、光学フィルムを90℃、ドライで500時間処理した結果によるものである。他方、引用例2で評価している耐熱性は、フイルムを空気雰囲気下220℃で30分間緊張処理した結果(上記(2c)【0022】参照。)によるものである。いずれもフィルムを高温で長時間放置した際の安定性,すなわち耐熱性を評価したものであり,測定条件である温度と時間に一応の差異があるとはいえ、格別大きな差異はない。
そこで、耐熱性が得られた際の製造条件である、ポリエステルが製造された際のP/Tiグラム原子比の条件とそれによって得られている耐熱性を比較すると、引用例2では、P/Tiグラム原子比が1.0?3.0である場合に、フィルムは十分な耐熱性を獲得している(上記(2c)【表1】参照。)のに対して、本願発明では、P/Tiグラム原子比が1.0?3.1である場合に、高温で長時間放置した際のクラックを目視で評価した際に十分な評価が得られており、両者において十分な耐熱性を得ているときのP/Tiグラム原子比はほとんど一致している。
そして、引用例2で評価された耐熱性を有するフィルムは、「ポリマーの熱安定性を高めてフイルム中の不溶性異物の生成を抑制し、優れた品質を有している」(上記(2c)【0047】参照。)のであるから、本願発明の詳細な説明で評価しているクラックを観察すれば、本願発明と同様にクラックを防止する効果を得られたと考えられ、十分な耐熱性を得ている点で、効果に差異はないといえる。
結局、本願発明において、均一な薄膜が形成されること、及び、基材フィルムの熱安定性を有する優れた品質を有することは、引用例発明及び引用例2に記載された技術的事項(上記(1g)(2b)(2c)参照。)並びに従来周知の技術的事項から、当業者が予測し得る程度の作用効果である。

5-4.請求人の主張について
請求人は評価の仕方の違いについて以下のように主張する。
『しかしながら、引用文献2は、「フィルムを製造するに際し、溶融押出しまでの任意の段階で、リン原子とチタン原子のグラム原子比が0.5?4.0であり、かつ、リン原子の量が150ppm以下となる割合で添加することにより、フィルム製造中のポリマーの熱安定性を高めて、フィルム中の不溶性異物の生成を抑制」することを目的としています。従って、引用文献2における熱安定性とは、「耐熱性フィルムを空気雰囲気下、220℃で処理後の固有粘度の低下率」を評価しており、これによりフィルム中の異物の生成が抑制されています。
これに対し、本願発明では、「製造された光学フィルムを90℃、ドライで500時間処理し、フィルム表面に形成された金属化合物層に発生するクラック」を評価するものであります。従って、本願発明における温度耐性とは、「フィルム表面上に形成された金属化合物層を90℃処理した時のクラック」を評価しています。本願発明における温度耐性と引用文献2のフィルム中の耐熱性とは現象が全く異なるものであります。
引用文献2のように、220℃で処理後の固有粘度の変化が小さく、フィルム中の不溶性異物の生成が抑制されたからといって、これはフィルム中の現象であり、製造されたフィルム上にさらに大気圧プラズマ法で形成された金属化合物層を90℃で処理した後の金属化合物層のクラック発生の抑制とは、評価対象も、現象も異なります。従って、引用文献1に開示される発明に引用文献2に開示された発明を適用した際に得られた光学フィルムの金属化合物層のクラック発生の抑制は、当業者が容易に予測し得ることではありません。』
しかし、評価方法に違いがあるとはいえ、「5-3.作用効果について」において検討したように、引用例2で評価された耐熱性を有するフィルムは、「ポリマーの熱安定性を高めてフイルム中の不溶性異物の生成を抑制し、優れた品質を有している」(上記(2c)【0047】参照。)のであるから、本願発明の詳細な説明で評価しているクラックを観察すれば、本願発明と同様にクラックを防止する効果を得られたと考えられ、十分な耐熱性を得ている点で、本願発明において得られた効果は、当業者が予測し得る程度の範囲である。
以上のことから、請求人の主張は採用できない。

1.むすび
以上のことから、本願の請求項1に係る発明は、引用例1及び引用例2に記載された技術的事項並びに従来周知の技術的事項に基づいて、当業者が容易に想到し得たものであるから、特許法第29条第2項の規定により特許を受けることができないものである。
したがって、その余の請求項について論及するまでもなく、本願は、拒絶すべきものである。
よって、結論のとおり審決する。
 
審理終結日 2011-06-27 
結審通知日 2011-07-05 
審決日 2011-07-12 
出願番号 特願2003-64842(P2003-64842)
審決分類 P 1 8・ 121- Z (C08J)
最終処分 不成立  
前審関与審査官 池田 周士郎  
特許庁審判長 柏崎 康司
特許庁審判官 住田 秀弘
磯貝 香苗
発明の名称 光学フィルムの製造方法  

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