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| 審決分類 |
審判 査定不服 1項3号刊行物記載 特許、登録しない。 B05D 審判 査定不服 5項独立特許用件 特許、登録しない。 B05D |
|---|---|
| 管理番号 | 1255649 |
| 審判番号 | 不服2009-22604 |
| 総通号数 | 150 |
| 発行国 | 日本国特許庁(JP) |
| 公報種別 | 特許審決公報 |
| 発行日 | 2012-06-29 |
| 種別 | 拒絶査定不服の審決 |
| 審判請求日 | 2009-11-18 |
| 確定日 | 2012-04-18 |
| 事件の表示 | 特願2003-119704「感光物質コーティング方法及び装置」拒絶査定不服審判事件〔平成16年1月22日出願公開、特開2004-17043〕について、次のとおり審決する。 |
| 結論 | 本件審判の請求は、成り立たない。 |
| 理由 |
1 手続の経緯 本願は、平成15年4月24日(パリ条約による優先権主張平成14年6月14日、韓国)の出願であって、平成21年9月2日付けで拒絶査定がなされ、これに対し、平成21年11月18日付けで拒絶査定不服審判が請求されるとともに、同時に同日付けで手続補正がなされたものである。 2 平成21年11月18日付けの手続補正(以下、「本件手続補正」という。)についての補正却下の決定 〔補正却下の決定の結論〕 本件手続補正を却下する。 〔理由〕 (1)補正後の本願発明 本件手続補正により、明細書の特許請求の範囲の請求項1は、 「【請求項1】流動性感光物質をスロット形状の開口から吐き出す段階と、 前記スロット形状の開口から吐き出される感光物質を第1表面に第1時間の間供給して前記感光物質の供給量を安定化させる段階と、 前記第1表面から離隔された被塗布対象物に供給量が安定化された前記感光物質を前記スロット形状の開口の長手方向と交わる方向に供給して面形態に塗布する段階と を含み、 前記感光物質を塗布する段階は、定位置で前記感光物質を加圧して吐き出す段階と、前記吐き出す段階の後、前記感光物質を持続的に吐き出しつつ前記定位置で待機する段階と、前記待機する段階の後、移動しつつ前記感光物質を加圧して吐き出す段階と、を含み、 前記感光物質は、表面張力を低下させるために、界面活性剤が添加されることを特徴とする感光物質コーティング方法。」 と補正された。 上記補正は、補正前の請求項1に記載された発明を特定する事項である「感光物質」について「前記感光物質は、表面張力を低下させるために、界面活性剤が添加される」との限定事項を付加するものであり、補正後の請求項1に記載された発明は、補正前の請求項1に記載された発明と、発明の産業上の利用分野及び解決しようとする課題が異なるものではない。 したがって、上記補正は、平成18年法律第55号改正附則第3条第1項によりなお従前の例によるとされる同法による改正前の特許法第17条の2第4項第2号に規定する特許請求の範囲の減縮を目的とするものに該当する。 そこで、本件手続補正後の上記請求項1に記載された事項により特定される発明(以下、「本願補正発明」という。)が、特許出願の際独立して特許を受けることができるものであるか(平成18年法律第55号改正附則第3条第1項によりなお従前の例によるとされる同法による改正前の特許法第17条の2第5項において準用する同法第126条第5項の規定に適合するか)について、以下に検討する。 (2)引用例の記載事項 原査定の拒絶の理由に引用された、本願の優先権主張日(以下、「優先日」という。)前に頒布された刊行物である特開2002-153795号公報(以下、「引用例」という。)には、次の記載がある。 「【0001】【発明の属する技術分野】本発明は、枚葉基板の製造方法および塗布装置に関する。さらに詳しくは、液晶表示ディスプレイやプラズマディスプレイ製造用のガラス基板、半導体集積回路製造用のシリコンウエファー、光学フィルター製造用のプラスチック基板などの基板の表面に、ダイ・コーティング法によって、各種の塗布液を塗布して、例えばフォトレジスト膜、絶縁膜または導電膜などの塗布膜を形成して枚葉基板を製造する方法、および、この方法に使用される塗布装置に関する。」 「【0009】本発明の目的は、次のとおりである。 1.ダイ・コーティング法を用いて、基板の表面のほぼ全範囲に均一な塗布膜を形成することができる、枚葉基板の製造方法を提供すること。…」 「【0046】…図1に示すとおり、塗布装置100には載置台10とダイ20とが装備されている。…ダイ20には、昇降機構30とスライダー40とが装備され…載置台10上を往復走行可能とされている。」 「【0049】…図1に示すように、ダイ20の走行終端部側には、載置台10に隣接させて、ディスペンス・ロール60…が装備されている。…」 「【0051】図3は、塗布装置100に装備されるダイ20の一部概略側面図である。…塗布液供給機構80によって供給された塗布液は、塗布液供給口25を経由してマニホールド26に流入し、ダイ20のスリットの全幅に亘って均一に広がった後、スリット21内を流下する。」 「【0052】図4は、ディスペンス・ロール60の周辺の機構を示している。ディスペンス・ロール60は…その近傍には、吐出された塗布液を掻き取るドクターブレード61が設けられている。また、このディスペンス・ロール60の近傍には、溶媒噴霧装置62が設けられており、前記したとおり、ディスペンス・ロール60表面に付着した塗布液溜まりが…」 「【0053】上記した塗布装置100を使用して基板に塗布液を塗布するには…塗布液をシリンジ・ポンプ82でダイ20へと供給し、ダイのスリットから吐出させる。… 【0054】…基板を載置台10に載置して…次いで、ダイ20をディスペンス・ロール60の上に移動させる。このとき、ダイ20のスリット21とディスペンス・ロール60の表面の最上部との間隔が、ダイ20のスリットと基板の表面との定常間隔とほぼ同一になるように、ダイ20の位置を調節する。 【0055】ついで、ディスペンス・ロール60の回転を開始した後、ダイ20のスリット21から塗布液を吐出して、吐出状態を、基板に塗布する際と同様の状態に調節した後に、塗布液の供給を止める。この際にディスペンス・ロール60の回転を持続させることにより、ディスペンス・ロール60とダイ20のスリット21の先端との間に形成されるメニスカスは、ディスペンス・ロール60の回転方向に引きずられて最終的にスリット21の先端から離れる。この操作により、スリット21の先端の状態を常に一定の状態に調節することができ、迅速かつ確実に塗布を開始することができる。 【0056】ついで、ダイ20をディスペンス・ロール60の位置から、基板表面の塗布開始部へと移動させる。…ダイ20を塗布開始点まで移動させ、ダイ20のスリットと基板表面との間に初期ビードが形成される位置までダイ20を降下させた後、シリンジ・ポンプ82によって塗布液の供給を行う。 【0057】この際に形成される初期ビードBｐを図5に示す。この際には、このダイ20のスリット21の先端と基板200との間にメニスカスMが形成される。初期ビードBｐを形成する際には、ダイ20のスリット21の先端を、基板200の表面の塗布開始部とこのスリット21の先端との間が、このメニスカスMを形成するために必要な間隔(初期メニスカス形成間隔)Dｐとなるまで近接させ、かつ、このメニスカスMを形成するために必要な最低限の塗布液を供給する。 【0058】ついで、初期メニスカス形成間隔Dｐからダイ20を若干上昇させながら走行を開始させ、定常間隔Dcに移行させて塗布液の塗布を行う。この際、塗布液供給速度とダイ20の走行速度とを同期させ、図5に示した初期ビードBｐを、図6に示した定常ビードBcに移行させる。続いて、基板の塗布終端部において、定常間隔以下の間隔Dｔまでダイ20を降下させながら、定常ビードBcをサックバック(吸引)する。…サックバックを行うことにより、基板の塗布終端部に形成される塗布膜の厚さを、定常塗布部に形成される塗布膜の厚さとほぼ同一とすることができ、基板表面のほぼ全範囲に均一な塗布膜を形成することができる。以上の一連の塗布操作におけるダイ20の走行経路を、図7に示した。」 「【0038】…初期ビードの形成を、上記した初期メニスカス形成間隔で行わずに定常間隔で行った場合には、基板の塗布開始部に塗布液溜まりが生じ、この部分で塗布膜の厚さが厚くなるので好ましくない。また、低粘度、具体的には粘度が20cP以下の塗布液を用いた場合や、薄い塗布膜…を形成する場合には、初期ビードの形成を上記したように定常間隔で行うと、ダイを走行させるに従って塗布膜の厚さが徐々に薄くなり…好ましくない。」 以上の記載及び図面によれば、引用例には、次の発明が記載されていると認められる。 「ダイをディスペンス・ロールの上に移動させ、ディスペンス・ロールの回転を開始した後、ダイのスリットから塗布液を吐出してディスペンス・ロール表面に付着させ、スリットの先端の状態を常に一定の状態に調節する工程と、 ダイをディスペンス・ロールの位置から、基板表面の塗布開始点まで移動させ、ダイのスリットと基板表面との間に初期ビードが形成される位置までダイを降下させた後、シリンジ・ポンプによって塗布液の供給を行い初期ビードを形成し、ついで、ダイを若干上昇させながら走行を開始させ、ダイのスリットと基板表面との間隔を定常間隔に移行させて塗布液の塗布を行う工程とを含む、基板の表面に塗布液を塗布するコーティング方法。」 (3)対比 本願補正発明と引用例記載の発明とを対比する。 引用例には、塗布液を塗布して、例えばフォトレジスト膜を形成することが記載されている(段落【0001】参照)から、引用例記載の発明の「塗布液」は本願補正発明の「流動性感光物質」に相当し、さらに、引用例記載の発明の「基板」及び「基板の表面に塗布液を塗布するコーティング方法」は、それぞれ本願補正発明の「被塗布対象物」及び「感光物質コーティング方法」に相当する。 引用例記載の発明における「ダイをディスペンス・ロールの上に移動させ、ディスペンス・ロールの回転を開始した後、ダイのスリットから塗布液を吐出してディスペンス・ロール表面に付着させ、スリットの先端の状態を常に一定の状態に調節する工程」では、ダイのスリットから塗布液を吐出して、回転するディスペンス・ロール表面に塗布液を一定時間の間供給して付着させていることは、当業者にとって明らかである。そして、本願補正発明における「感光物質の供給量を安定化させる段階」について、本願明細書段落【0027】に「感光物質の供給量を安定化させる段階(S2)は、前記被塗布対象物に帯形状を有する感光物質を塗布する前に被塗布対象物以外の部分、例えば、ローラ、プレートなどに第1時間の間供給することにより行われる」と記載されていることから、引用例記載の発明の上記工程は、本願補正発明における「流動性感光物質をスロット形状の開口から吐き出す段階と、前記スロット形状の開口から吐き出される感光物質を第1表面に第1時間の間供給して前記感光物質の供給量を安定化させる段階」に相当するといえる。 また、引用例記載の発明における「ダイをディスペンス・ロールの位置から、基板表面の塗布開始点まで移動させ、ダイのスリットと基板表面との間に初期ビードが形成される位置までダイを降下させた後、シリンジ・ポンプによって塗布液の供給を行い初期ビードを形成し、ついで、ダイを若干上昇させながら走行を開始させ、ダイのスリットと基板表面との間隔を定常間隔に移行させて塗布液の塗布を行う工程」では、ダイをディスペンス・ロールの位置から、基板表面の塗布開始点まで移動させ、その塗布開始点でシリンジ・ポンプによって塗布液の供給を行い初期ビードを形成し、ついで、図1、図3及び上記段落【0051】を参照すれば明らかなように、ダイは移動しながらスリットから塗布液を吐出してスリットの開口の長手方向と交わる方向に面形態に塗布しているのであり、上記工程中の「初期ビードが形成される位置」は本願補正発明の「定位置」に相当し、上記工程中の「ダイをディスペンス・ロールの位置から、基板表面の塗布開始点まで移動させ、ダイのスリットと基板表面との間に初期ビードが形成される位置までダイを降下させた後、シリンジ・ポンプによって塗布液の供給を行い初期ビードを形成」は、本願補正発明の「定位置で前記感光物質を加圧して吐き出す段階と、前記吐き出す段階の後、前記感光物質を持続的に吐き出しつつ前記定位置で待機する段階」に相当する。また、上記工程中の「ついで、ダイを若干上昇させながら走行を開始させ、ダイのスリットと基板表面との間隔を定常間隔に移行させて塗布液の塗布を行う工程」は、本願補正発明の「前記待機する段階の後、移動しつつ前記感光物質を加圧して吐き出す段階」に相当する。 したがって、引用例記載の発明における「ダイをディスペンス・ロールの位置から、基板表面の塗布開始点まで移動させ、ダイのスリットと基板表面との間に初期ビードが形成される位置までダイを降下させた後、シリンジ・ポンプによって塗布液の供給を行い初期ビードを形成し、ついで、ダイを若干上昇させながら走行を開始させ、ダイのスリットと基板表面との間隔を定常間隔に移行させて塗布液の塗布を行う工程」は、本願補正発明における「前記第1表面から離隔された被塗布対象物に供給量が安定化された前記感光物質を前記スロット形状の開口の長手方向と交わる方向に供給して面形態に塗布する段階」及び「前記感光物質を塗布する段階は、定位置で前記感光物質を加圧して吐き出す段階と、前記吐き出す段階の後、前記感光物質を持続的に吐き出しつつ前記定位置で待機する段階と、前記待機する段階の後、移動しつつ前記感光物質を加圧して吐き出す段階」に相当するといえる。 そうすると、本願補正発明と引用例記載の発明とは、 「流動性感光物質をスロット形状の開口から吐き出す段階と、 前記スロット形状の開口から吐き出される感光物質を第1表面に第1時間の間供給して前記感光物質の供給量を安定化させる段階と、 前記第1表面から離隔された被塗布対象物に供給量が安定化された前記感光物質を前記スロット形状の開口の長手方向と交わる方向に供給して面形態に塗布する段階とを含み、 前記感光物質を塗布する段階は、定位置で前記感光物質を加圧して吐き出す段階と、前記吐き出す段階の後、前記感光物質を持続的に吐き出しつつ前記定位置で待機する段階と、前記待機する段階の後、移動しつつ前記感光物質を加圧して吐き出す段階と、を含む感光物質コーティング方法」 である点で一致し、次の点で相違する。 《相違点》 本願補正発明では、感光物質は、表面張力を低下させるために、界面活性剤が添加されるのに対して、引用例記載の発明では、そのように特定されていない点。 (4)相違点の検討 そこで、上記相違点について検討する。 引用例記載の発明は、塗布液として低粘度の塗布液を用いることも想定されている(上記段落【0038】参照)ところ、低粘度の塗布液を用いる場合、乾燥ムラが発生し易くなる傾向があり、乾燥ムラを抑制するために塗布液に界面活性剤を添加することは、特開平11-119417号公報にもみられるように、当該技術分野において本願の優先日前に周知の技術的事項であるから、引用例記載の発明において、低粘度の感光物質(塗布液)を用いた場合に、乾燥ムラを抑制するために、感光物質に界面活性剤を添加することは、当業者が容易に想到し得たことである。 その際に、界面活性剤の添加により、感光物質の表面張力が低下することを考慮して、感光物質への界面活性剤の添加を、感光物質の初期ビードの形成が妨げられることがない程度にすることは、当業者が当然なすべきことである。 そうしてみると、引用例記載の発明において、低粘度の感光物質を用いた場合に、乾燥ムラを抑制するために、感光物質に界面活性剤を、初期ビードの形成が妨げられない程度に添加して、相違点に係る本願補正発明の事項とすることは、当業者が容易に想到し得たことといえる。 しかも、本願補正発明が奏する効果も、引用例記載の発明及び周知の技術的事項から当業者が予測できたものであって、格別顕著なものとはいえない。 したがって、本願補正発明は、引用例記載の発明及び周知の技術的事項に基いて、当業者が容易に発明をすることができたものであるから、特許法第29条第2項の規定により、特許出願の際独立して特許を受けることができないものである。 (5)まとめ 以上のとおり、本件手続補正は、平成18年法律第55号改正附則第3条第1項によりなお従前の例によるとされる同法による改正前の特許法第17条の2第5項において準用する同法第126条第5項の規定に違反するものであり、特許法第159条第1項において読み替えて準用する同法第53条第1項の規定により却下されるべきものである。 3 本願発明について (1)本願発明 上記のとおり、本件手続補正は却下されたので、本願の請求項1ないし請求項23に係る発明は、平成21年6月17日付けの手続補正により補正された明細書の特許請求の範囲の請求項1ないし請求項23に記載された事項により特定されるものと認められるところ、請求項1は次のとおり記載されている。 「【請求項1】流動性感光物質をスロット形状の開口から吐き出す段階と、 前記スロット形状の開口から吐き出される感光物質を第1表面に第1時間の間供給して前記感光物質の供給量を安定化させる段階と、 前記第1表面から離隔された被塗布対象物に供給量が安定化された前記感光物質を前記スロット形状の開口の長手方向と交わる方向に供給して面形態に塗布する段階と を含み、 前記感光物質を塗布する段階は、定位置で前記感光物質を加圧して吐き出す段階と、前記吐き出す段階の後、前記感光物質を持続的に吐き出しつつ前記定位置で待機する段階と、前記待機する段階の後、移動しつつ前記感光物質を加圧して吐き出す段階と、を含むことを特徴とする感光物質コーティング方法。」 (以下、請求項1に係る発明を、「本願発明1」という。) (2)引用例の記載事項 原査定の拒絶の理由に引用された引用例及びその記載事項は、上記2(2)に記載したとおりである。 (3)対比・検討 本願発明1は、上記2(1)で検討した本願補正発明から、「感光物質」について限定する「前記感光物質は、表面張力を低下させるために、界面活性剤が添加される」との事項を省いたものであるから、本願発明1と、上記2(2)に記載した引用例記載の発明とを対比すると、両者は、上記2(3)に記載したとおり、 「流動性感光物質をスロット形状の開口から吐き出す段階と、 前記スロット形状の開口から吐き出される感光物質を第1表面に第1時間の間供給して前記感光物質の供給量を安定化させる段階と、 前記第1表面から離隔された被塗布対象物に供給量が安定化された前記感光物質を前記スロット形状の開口の長手方向と交わる方向に供給して面形態に塗布する段階とを含み、 前記感光物質を塗布する段階は、定位置で前記感光物質を加圧して吐き出す段階と、前記吐き出す段階の後、前記感光物質を持続的に吐き出しつつ前記定位置で待機する段階と、前記待機する段階の後、移動しつつ前記感光物質を加圧して吐き出す段階と、を含む感光物質コーティング方法」 である点で一致し、差異はない。 したがって、本願発明1は、引用例に記載された発明であり、特許法第29条第1項第3号に該当する。 (4)むすび 以上のとおり、本願発明1は、特許法第29条第1項第3号に該当し、特許を受けることができないものであるから、他の請求項に係る発明について検討するまでもなく、本願は拒絶されるべきものである。 よって、結論のとおり審決する。 |
| 審理終結日 | 2011-11-21 |
| 結審通知日 | 2011-11-22 |
| 審決日 | 2011-12-05 |
| 出願番号 | 特願2003-119704(P2003-119704) |
| 審決分類 |
P
1
8・
575-
Z
(B05D)
P 1 8・ 113- Z (B05D) |
| 最終処分 | 不成立 |
| 前審関与審査官 | 山本 晋也、細井 龍史 |
| 特許庁審判長 |
栗林 敏彦 |
| 特許庁審判官 |
亀田 貴志 瀬良 聡機 |
| 発明の名称 | 感光物質コーティング方法及び装置 |
| 代理人 | 八田国際特許業務法人 |