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審決分類 審判 査定不服 5項独立特許用件 補正却下を取り消す 原査定を取り消し、特許すべきものとする  G01T
審判 査定不服 2項進歩性 補正却下を取り消す 原査定を取り消し、特許すべきものとする  G01T
管理番号 1258085
審判番号 不服2011-14808  
総通号数 151 
発行国 日本国特許庁(JP) 
公報種別 特許審決公報 
発行日 2012-07-27 
種別 拒絶査定不服の審決 
審判請求日 2011-07-08 
確定日 2012-06-26 
事件の表示 特願2002-527813「シンチレータパネル、放射線イメージセンサおよびそれらの製造方法」拒絶査定不服審判事件〔平成14年3月21日国際公開、WO02/23220、請求項の数(16)〕について、次のとおり審決する。 
結論 原査定を取り消す。 本願は、特許すべきものとする。 
理由 第1 手続の経緯
本願は、平成13年9月11日(優先日 平成12年9月11日)を国際出願日とする出願であって、平成22年8月19日付けで通知された、いわゆる最後の拒絶理由に対して同年10月7日付けで手続補正がなされたものの、当該手続補正について、平成23年4月8日付けで補正の却下の決定がなされるとともに、同日付けで拒絶査定がなされた。
本件は、この査定を不服として平成23年7月8日に請求された拒絶査定不服審判事件であって、同時に、上記補正の却下の決定について不服を申し立てるものである。

第2 平成23年4月8日付けの補正の却下の決定について
1 補正の却下の決定の対象
平成23年4月8日付けの補正の却下の決定(以下、単に「補正の却下の決定」という)は、平成22年10月7日付け手続補正(以下「本件補正」という。)について却下の決定を行ったものである。

2 補正の却下の決定の理由と補正発明
本件補正は、明細書を補正するものであって、本願の願書に最初に添付された明細書又は図面に記載した事項の範囲内においてなされたものであると認められるところ、補正の却下の決定の理由は、本件補正のうち特許請求の範囲の請求項1?16についてする補正は、平成18年法律第55号改正附則第3条第1項によりなお従前の例によるとされる同法による改正前の特許法第17条の2(以下、単に「特許法第17条の2」という。)第4項第2号に掲げる特許請求の範囲の減縮を目的とするものの、本件補正後の請求項1?16に係る発明は特許法第29条第2項の規定により独立して特許を受けることができない発明であるから、特許法第53条第1項の規定によって却下する、というものである。

3 補正発明
ここで、本件補正後の請求項1?16に係る発明は、本件補正後の明細書の特許請求の範囲の請求項1?16に記載されたとおりのものであって、独立請求項である請求項1,2,12,13,16は次のとおりである(以下、それぞれを請求項番号に合わせて「補正発明1」「補正発明2」等という。)。
「【請求項1】 耐熱性の光透過基板と、
前記基板の一方の表面上に形成される光吸収部材と、
前記光吸収部材上に堆積される誘電体多層膜ミラーと、
前記誘電体多層膜ミラー上に柱状構造を成して複数配列して堆積され、入射された放射線を光に変換して発生させるシンチレータと、
少なくとも前記シンチレータを被覆する保護膜と、
を備えており、前記光吸収部材は、前記シンチレータから発せられて前記誘電体多層膜ミラーを透過した光を吸収して、前記多層膜ミラー方向への反射を抑制することを特徴とするシンチレータパネル。」
「【請求項2】 耐熱性の光透過基板と、
前記基板の一方の表面上に形成される光吸収部材と、
前記基板の前記光吸収部材が形成された面と反対の面上に堆積される誘電体多層膜ミラーと、
前記誘電体多層膜ミラー上に柱状構造を成して複数配列して堆積され、入射された放射線を光に変換して発生させるシンチレータと、
少なくとも前記シンチレータを被覆する保護膜と、
を備えており、前記光吸収部材は、前記シンチレータから発せられて前記誘電体多層膜ミラー、前記光透過基板を通過した光を吸収して、前記光透過基板方向への反射を抑制することを特徴とするシンチレータパネル。」
「【請求項12】 耐熱性の光透過基板を用意し、
この基板上に所定の膜厚を有する誘電体層を多層積層することにより所望の反射特性を有する誘電体多層膜ミラーを形成し、
前記誘電体多層膜ミラー上に放射線を光に変換するシンチレータの柱状構造を堆積により形成し、
前記基板の前記誘電体多層膜形成面と反対の面に前記シンチレータが発して前記誘電体多層膜ミラーおよび前記光透過基板を透過した光を吸収して、前記光透過基板方向への反射を抑制する光吸収部材を形成し、
これと前後して少なくとも前記シンチレータを保護膜で被覆する、
工程を備えるシンチレータパネルの製造方法。」
「【請求項13】 耐熱性の光透過基板を用意し、
この基板上に光吸収部材を形成し、
前記光吸収部材上に所定の膜厚を有する誘電体層を多層積層することにより所望の反射特性を有する誘電体多層膜ミラーを形成し、
前記誘電体多層膜ミラー上に放射線を光に変換するシンチレータの柱状構造を堆積により形成し、
少なくとも前記シンチレータを保護膜で被覆する、
工程を備えており、前記光吸収部材は、前記シンチレータから発せられて前記誘電体多層膜ミラーを透過した光を吸収して前記誘電体多層膜ミラー方向への反射を抑制する部材であるシンチレータパネルの製造方法。」
「【請求項16】 耐熱性の光透過基板を用意し、
この基板上に所定の膜厚を有する誘電体層を多層積層することにより所望の反射特性を有する誘電体多層膜ミラーを形成し、
前記誘電体多層膜ミラー上に放射線を光に変換するシンチレータの柱状構造を堆積により形成し、
少なくとも前記シンチレータを保護膜で被覆してシンチレータパネルを作成し、
前記シンチレータパネルのシンチレータに対向して撮像素子を、シンチレータパネルのシンチレータ形成面と反対の面に弾性体からなり前記シンチレータから発せられ、前記誘電体多層膜ミラー、前記光透過基板を透過した光を吸収して前記光透過基板方向への反射を抑制する光吸収部材をそれぞれ配置してハウジング内に収容する、
工程を備える放射線イメージセンサの製造方法。」

4 補正の却下の決定の理由による独立特許要件充足性について
本件補正後の請求項1?16に係る発明の独立特許要件充足性について、最初に、補正の却下の決定で示された上記2の理由について検討する。
(1)引用例1
補正の却下の決定において引用された、本願の優先日前に頒布された刊行物である特開平10-160898号公報(以下「引用例1」という。)には 以下の記載がある。
(1a)「【特許請求の範囲】
【請求項1】 入射する放射線を可視、紫外又は赤外の光線に変換する蛍光体層と、前記蛍光体層の光線出射側とは反対側に配置され、前記光線を反射率90%以上で前記蛍光体層の前記光線出射側へ反射する光反射層とを有する蛍光体素子。
…(中略)…
【請求項5】 前記光線出射側とは反対側から、支持体、前記光反射層、前記蛍光体層、光学的に透明な保護膜がこの順に設けられている、請求項1に記載した蛍光体素子。
…(以下略)」
(1b)「【0050】本発明の蛍光体素子は、入射するX線を可視光線に変換する蛍光体層3と、蛍光体層のX線入射側に配置される光反射層2とからなることを基本とする。光反射層2は、蛍光体層3からの発光を反射するものであり、従来の蛍光板の下塗り層や白色支持体の有する光反射の機能と類似しているようであるが、本発明に基づいた光反射層2は、その問題点を解決したものであり、光反射の機能を高度に果たすものである。」
(1c)「【0091】次に、本発明の光反射層の具体的な材質例や構造例について説明する。ここでは、大きく分けて3種類の光反射層を提供する。これら3種の光反射層は、それぞれ特徴があり、どのように選択すべきかも説明する。
【0092】第1に、本発明の蛍光体素子においては、光反射層は金属薄膜からなることが好ましい。金属薄膜からなる光反射層は、非常に反射が高いという特長を有している。概ね、式(A)による好ましい条件であった90%以上の反射率を満たすものである。金属薄膜の反射率は、入射角度にあまり依存せず、ほぼ一定であるから、式(C)の条件を自動的に満たす。また、金属薄膜による光反射層の厚みは、通常、0.3μm程度と非常に薄いものである。…(中略)…
【0098】第2に、本発明の蛍光体素子においては、蛍光体層側の金属薄膜面に、複数の誘電体膜が積層膜として設けられている光反射層も提供する。なお、金属薄膜と複数の誘電体膜の積層膜とから構成される積層体を光反射層と称する。通常、誘電体膜の積層膜は、低屈折率層と高屈折率層とを一組とする誘電体膜の多組から構成することが多い。…(中略)…
【0109】第3に、本発明の蛍光体素子においては、複数の誘電体膜のみの積層膜として設けられている光反射層も提供する。誘電体膜の積層膜は、複数の低屈折率層と複数の高屈折率層の誘電体膜の多層から構成される。
【0110】複数の誘電体膜が積層膜の材質、厚み、積層構成、積層数を適切に設定することで、この光反射層は、式(A)による好ましい条件であった90%以上の反射率を満たす反射率の高い光反射層にすることができる。」
(1d)「【0144】実施例3
図3に、本実施例の蛍光板1Cの断面構造を示す。
【0145】蛍光板1Cにおいては、X線31の入射側から、ガラスからなる支持体4(厚み:1mm)、金属(ここでは、アルミニウム)薄膜2(厚み:1500Å(0.15μm))と誘電体膜7(ここでは、SiO_(2) 及びTiO_(2) )とから構成される光反射層50(厚み:約0.5μm)、主として蛍光体(ここでは、Gd_(2) O_(2) S:Tb)からなる蛍光体層3(厚み:180μm)が、この順に一体に形成されている。
【0146】アルミニウム薄膜2は、光学的研磨したガラスである支持体4(光学研磨は光反射層50の側の面だけでよい。)上に、実施例1のアルミニウム薄膜と同様に作ることができる。誘電体膜7は、支持体4上のアルミニウム薄膜2上に、真空蒸着法で形成されたものであるが、物理的蒸着法(PVD法)、例えばスパッタリング法、イオンプレーティング法等によっても形成することができるし、化学的気相成長法によっても形成することができる。また、誘電体の種類によっては、ディピングやスピンコート法よっても形成することができる。
【0147】本実施例では、誘電体膜7は、低屈折率層7a(ここでは、SiO_(2) (屈折率1.46、厚み:94nm))と高屈折率層7b(ここでは、TiO_(2 )(屈折率2.3、厚み:60nm)とを一組とする誘電体膜の二組から構成されるものである。
【0148】通常、誘電体膜7は、低屈折率層7aと高屈折率層7bとを一組とする誘電体膜の多組から構成することが多い。そして、前述のように、理論的にはその組数が多いほど、光反射層50の反射率を高めることができる。本実施例では、実際の製作の点、製作コストの点等から、二組の誘電体膜7とした。なお、前述したように、一?三組でもよい。…(中略)…
【0150】このような構成の蛍光体においては、光反射層は、図11に既述したように、波長400nm付近や波長700nm付近では入射角度平均の反射率が約80%であり、実施例1のアルミニウム薄膜からなる光反射層に比べ、それらの波長付近では若干反射率が低くなる。しかし、本実施例の光反射層は波長約550nm付近では入射角度平均の反射率が約98%であり、実施例1のアルミニウム薄膜からなる光反射層のその波長付近の反射率92%に比べ、その波長付近では反射率が6%程度向上している。
【0151】ところで、金属薄膜2と誘電体膜7とからなる光反射層50の反射率が、金属薄膜のみからなる光反射層の反射率より、蛍光体層3からの発光の波長において、高いものとなるようなものであれば、誘電体膜7を構成する各層の材質、厚み及び層数は、どのようなものでも構わない。」

これらの記載からして、引用例1には、次の発明(以下「引用発明」という。)が記載されているといえる。
「ガラスからなる支持体と、
前記支持体の一方の表面上に形成される金属薄膜、及び、前記金属薄膜上に堆積された、複数組のSiO_(2) 及びTiO_(2) から構成された誘電体膜からなる光反射層と、
前記誘電体膜上に堆積された蛍光体層と、
前記蛍光体層を被覆する保護膜と、
を備えている、蛍光板。」

(2)補正発明1と引用発明の対比
当業者の技術常識を勘案して補正発明1と引用発明を対比すると、両者は、
「耐熱性の光透過基板と、
前記基板の一方の表面上に形成される光学層と、
前記光学層上に堆積される誘電体多層膜ミラーと、
前記誘電体多層膜ミラー上に堆積され、入射された放射線を光に変換して発生させるシンチレータと、
少なくとも前記シンチレータを被覆する保護膜と、
を備えている、シンチレータパネル。」である点で一致し、以下の点で相違する。
〈相違点1〉
「シンチレータ」が、補正発明1は、「柱状構造を成して複数配列して」いるものであるのに対し、引用発明のシンチレータは、柱状構造であるかどうか明らかでない点。
〈相違点2〉
「光学層」が、補正発明1は、「光吸収部材」であって、当該光吸収部材は、「シンチレータから発せられて誘電体多層膜ミラーを透過した光を吸収して、前記多層膜ミラー方向への反射を抑制する」ものであるのに対し、引用発明は、「金属薄膜」である点。

(3)相違点についての検討
ア 相違点1について
鮮鋭度を向上させるため、シンチレータを柱状結晶構造として堆積させることは当業者に周知の事項であるから、引用発明のシンチレータを、「柱状構造を成して複数配列」したものとすることは、当業者が適宜なし得る事項にすぎない。

イ 相違点2について
引用発明の金属薄膜と多層誘電体膜を併用した光反射層における光の反射機能は、引用例1の上記(1c)、及び(1d)の【0150】、【0151】の記載事項からして、主に金属薄膜が担い、多層誘電体膜は、金属薄膜による反射を補完する機能を担うものであるといえる。
また、引用例1には、光反射層を、金属薄膜または多層誘電体膜のみ、あるいは、それらの組み合わせで構成することは記載されている(上記(1c)参照)ものの、光反射性の層と光吸収部材と組み合わせることについて、何ら記載ないし示唆がない。
そうすると、引用発明における金属薄膜を光吸収部材に置き換えたならば、引用発明の光反射機能の大部分が失われ、高感度の発光像が得られなくなることは明らかである。
してみると、シンチレータの光の出射方向と反対側に、光反射層と光吸収層を選択的に設けることが周知であったとしても、引用発明の金属薄膜を光吸収部材に置換することは、動機付けられないばかりでなく、引用発明の機能を低下させることとなるから、阻害されているというべきである。
そして、補正発明1は、上記相違点2に係る構成を具備せしめることにより、「誘電体多層膜ミラーはその特性上わずかに光を透過するが、本発明では、光透過性の基板のいずれかの表面に光吸収部材を設けることによって、誘電体多層膜ミラーを抜けて基板内部で散乱して入射位置とは別の位置からシンチレータに再入射する迷光の発生を抑制することができ、シンチレータパネルの解像度やS/N比の劣化を抑制することができる。」(本願明細書の【0010】参照)という格別の作用効果を奏するものと認められる。
その他、平成22年8月19日付け拒絶理由通知、補正の却下の決定において提示されたいずれの文献にも、光反射性の層と光吸収部材を組み合わせること、及び、上記格別の作用効果について、何ら記載ないし示唆はない。
したがって、上記相違点2が容易想到であるとすることはできないから、補正発明1が、補正の却下の決定で示された理由によって独立特許要件を充足しない、ということはできない。

(4)補正発明13について
補正発明13は、実質的に上記相違点2と同じ発明特定事項を具備しているといえるから、補正発明13についても、補正発明1と同様に、補正の却下の決定で示された理由によって独立特許要件を充足しない、といえないことは明らかである。

(5)補正発明2,12,16について
補正発明1の光吸収部材は、基板と誘電体多層膜の間に設けられ、誘電体多層膜ミラーを透過した光を吸収して、前記多層膜ミラー方向への反射を抑制するものであったのに対し、補正発明2,12,16の光吸収部材は、「基板の誘電体多層膜形成面と反対の面」に設けられているものであって、「誘電体多層膜ミラーおよび光透過基板を透過した光を吸収して、前記光透過基板方向への反射を抑制する」点で相違している。
一方、平成22年8月19日付け拒絶理由通知、補正の却下の決定において提示されたいずれの文献にも、光反射性の層と光吸収部材を組み合わせること、及び、そのことによる格別の作用効果について何ら記載ないし示唆がないことは、上記(2)で述べたとおりであるから、補正発明2,12,16についても、補正の却下の決定で示された理由によって独立特許要件を充足しない、といえないことは明らかである。

(6)従属請求項について
独立請求項に係る発明である補正発明1,2,12,13,16が、補正の却下の決定で示された理由によって独立特許要件を充足しないといえない以上、それらの請求項を引用する請求項3?11,14,15に係る発明が、補正の却下の決定で示された理由によって独立特許要件を充足しないといえないことは明らかである。

(7)小括
以上のとおりであるから、本件補正後の請求項1?16に係る発明が、補正の却下の決定の理由によって独立特許要件を充足しないとした判断は誤りである。

5 その他の理由による独立特許要件充足性について
本件補正後の請求項1?16に係る発明について、それら発明が独立して特許を受けることができないとする理由を、他に発見することもできない。

6 補正の却下の決定についてのむすび
以上のとおり、本件補正は、本願の願書に最初に添付された明細書又は図面に記載した事項の範囲内においてなされたものであると認められ、また、特許請求の範囲についてする補正は、その減縮を目的とするものであって、本件補正後の請求項1?16に係る発明は、補正の却下の決定で示された特許法第29条第2項の規定に該当するという理由によって特許出願の際独立して特許を受けることができないものではなく、その他に特許出願の際独立して特許を受けることができないとする理由を見出すこともできないから、本件補正のうち、特許請求の範囲についてする補正は、特許法第17条の2第5項において準用する同法第126条第5項に規定する要件を満たし、結局、特許法第17条の2第4項の規定に適合するものである。
よって、本件補正を特許法第53条第1項の規定によって却下するとした決定には誤りがあるので、平成23年4月8日付けの補正の却下の決定を取り消す。

第3 本願について
1 本願発明
平成23年4月8日付けの補正の却下の決定は上記のとおり取り消されたので、本願の請求項1ないし請求項16に係る発明(以下、それぞれ「本願発明1」ないし「本願発明16」という。)は、平成22年10月7日付け手続補正書によって補正された明細書の特許請求の範囲の請求項1ないし請求項16に記載された事項によって特定されるとおりのものと認められる。

2 本願についてのむすび
本願発明1ないし16は、上記第2で述べたとおり、特許出願の際独立して特許を受けることができる発明であるから、本願について、原査定の理由によって拒絶すべきものとすることはできない。
また、他に本願を拒絶すべき理由を発見しない。
よって、結論のとおり審決する。
 
審決日 2012-06-13 
出願番号 特願2002-527813(P2002-527813)
審決分類 P 1 8・ 121- WYA (G01T)
P 1 8・ 575- WYA (G01T)
最終処分 成立  
前審関与審査官 木下 忠  
特許庁審判長 村田 尚英
特許庁審判官 森林 克郎
吉川 陽吾
発明の名称 シンチレータパネル、放射線イメージセンサおよびそれらの製造方法  
代理人 鰺坂 和浩  
代理人 長谷川 芳樹  
代理人 黒木 義樹  
代理人 池田 正人  
代理人 城戸 博兒  
代理人 石田 悟  
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